| 图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
 |
EBARA F-REX300 CMP化学机械研磨 |
EBARA |
F-REX300 CMP |
2002 |
12"设备完整不缺件300mm; |
国外
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 |
ULVAC Zi-1000N薄膜测量系统 |
ULVAC |
Zi-1000N |
- |
设备完整不缺件; |
国内
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 |
KLA Leica INS3300晶圆缺陷检测 |
KLA |
Leica INS3300 |
2015 |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
Tel ALPHA-808SC LPCVD化学气相沉积 |
Tel |
ALPHA-808SC |
1994 |
设备完整不缺件; |
国外
|
 |
DISCO DFG8540研磨机 |
DISCO |
DFG8540 |
2012 |
设备完整不缺件,2024.12月下线,200 Vac; |
已售出
|
|
Aixtron AIX G5 HT MOCVD化学气相沉积 |
Aixtron |
G5 HT |
2016 |
4"6"设备完整不缺件, 3相,4线+地,208/120V,满载安培748A; |
国外
|
 |
ASM Epsilon 2000 EPI PR外延沉积设备 |
ASM |
Epsilon 2000 EPI PR |
2001 |
设备完整不缺件,在线热机在欧洲,有4台现货(有台2000年); |
国外
|
|
VEECO K475 MOCVD化学气相沉积 |
VEECO |
K475 |
2015 |
6"(可设置为任何晶圆尺寸),AsH3 PH3 N2 H2, 8片起泡器,150mm,有2台现货; |
国外
|
|
DNS CW-2000晶圆清洗设备 |
DNS |
CW-2000 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1996 |
- |
国外
|
 |
NIKON NSR S205C光刻机 |
NIKON |
NSR-S205C |
2000 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
 |
TEL TE8500蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
1995 |
设备完整不缺件,单腔,可以刻蚀SiO2和SiN,150mm已调试好; |
国内
|
 |
ASM AD838L-G2全自动固晶机 |
ASM |
AD838L-G2 |
2015 |
设备完整不缺件; |
国内
|
|
NIKON NSR-TFHi14DL光刻机 |
NIKON |
NSR-TFHi14DL |
2006 |
8"设备完整不缺件,200mm; |
国外
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|
DISCO DFG840研磨机 |
DISCO |
DFG840 |
2005 |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
DISCO DFG 8560研磨机 |
DISCO |
DFG 8560 |
2011 |
设备完整不缺件,电压200vac,三相,频率:50/60hz,满载安培:57a; |
国外
|
|
DISCO DFD6350晶圆切割机 |
DISCO |
DFD6350 |
2003 |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA Surfscan SP2晶圆检测系统 |
KLA |
Surfscan SP2 |
2011 |
设备完整不缺件,在线热机,晶圆片300mm; |
国外
|
 |
DISCO DFG850研磨机 |
DISCO |
DFG850 |
2000 |
设备完整不缺件,设备已被拆卸并存储在仓库中; |
国外
|
 |
TEL ALPHA 8S扩散炉 |
TEL |
ALPHA 8S |
1998 |
设备完整不缺件,有4台在美国; |
国外
|
 |
AMAT Endura 5500 MOCVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1996 |
6"PVD System,
Can be converted to 8"
Chamber 1: AlSiCu
Chamber 2: Tin 101
Chamber 3: Ti/Tin
Chamber 4: Ti/Tin
Cha |
国外
|
 |
DISCO DFG8540研磨机 |
DISCO |
DFG8540 |
2018 |
设备完整不缺件,美国仓库中; |
国外
|
|
KLA Candela 8420表面缺陷检测系统 |
KLA |
Candela 8420 |
2020 |
设备完整不缺件,20年入厂,设备九成新以上; |
国内
|
|
DISCO DAD3350晶圆切割机 |
DISCO |
DAD3350 |
2014 |
设备完整不缺件,有4台; |
国内
|
|
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
设备完整不缺件; |
已售出
|
 |
DISCO DAG810研磨机 |
DISCO |
DAG810 |
2015 |
在线热机,设备完整不缺件; |
国内
|
 |
LAM TCP9600SE等离子体刻蚀机 |
LAM |
TCP9600SE |
2005 |
6"设备完整不缺件,150mm; |
国外
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|
牛津OXFORD PLASMAPRO 100ICP蚀刻系统 |
OXFORD |
PLASMAPRO 100 ICP |
2022 |
完整安装,包括支持设备,如气柜,泵,冷却器等,可容纳100mm晶圆片,可升级到150或200mm; |
国外
|
|
ACCRETECH UF200探针台 |
ACCRETECH |
UF200 |
2000 |
Btu关闭,4台运行1台不运行,完整的硬盘和软件包括在内.2000年和2002年,150毫米可转换到200毫米,在洁净室运行,电子测试或研发,设备在欧洲。 |
国外
|
|
DISCO DAD3240划片机 |
DISCO |
DAD3240 |
2014 |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
ACCRETECH UF3000EX探针台 |
ACCRETECH |
UF3000EX |
2020 |
设备完整不缺件,在亚洲仓库,包括hdd和sw; |
国外
|
|
DISCO DFG850研磨机 |
DISCO |
DFG850 |
2000 |
设备完整不缺件,设备已被拆卸并存储在仓库中; |
国外
|
|
KLA SURFSCAN SFS6220颗粒检测仪 |
KLA |
SFS6220 |
1997 |
2016年翻新,激光器于2020年3月更换,最后一次PM于2023年8月在美国进行，2",3",4",6",8"； |
国外
|
|
LAM RAINBOW 4520i干法刻蚀机 |
LAM |
4520i |
2000 |
设备完整不缺件,在美国仓库中; |
国外
|
|
LAM RESEARCH 9400等离子刻蚀机 |
LAM |
9400 |
2000 |
设备完整不缺件,在美国仓库中; |
国外
|
|
DISCO DAD3350晶圆切割机 |
DISCO |
DAD3350 |
2010 |
设备完整不缺件; |
国内
|
|
NIKON NSR 2005i10C光刻机 |
NIKON |
NSR-2005i10C |
- |
设备完整不缺件在日本; |
国外
|
|
ASML PAS 5500/850D光刻机 |
ASML |
PAS-5500/850D |
2005 |
设备完整不缺件,2024.01月停产,目前仍通电中,该设备于2021年升级,从200mm转换为150mm; |
国外
|
|
NIKON NSR S204B分步投影光刻机 |
NIKON |
NSR-S204B |
2000 |
设备完整不缺件,带硬盘及镜头数据,设备目前在亚洲; |
国外
|
|
NIKON NSR SF120光刻机 |
NIKON |
NSR-SF120 |
- |
6"设备完整不缺件,已翻新好,设备在亚洲; |
国外
|
 |
NIKON NSR 2205i12D光刻机 |
NIKON |
NSR-2205i12D |
1997 |
8"设备完整不缺件,已翻新好,设备在亚洲; |
国外
|
 |
TEL TE-8500刻蚀机 |
TEL |
TE-8500 |
- |
设备完整不缺件,在韩国; |
国外
|
 |
DISCO DGP8760+DFM2700减薄撕膜一体机 |
DISCO |
DGP8760+DFM2700 |
2009 |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
ULVAC NE-950 ICP干法刻蚀 |
ULVAC |
NE-950 ICP |
2010 |
设备在台湾,已接电测试完毕,ψ330mm tray,ICP单制程腔体,有规格书; |
国内
|
 |
ULVAC EI-5T蒸发台 |
ULVAC |
EI-5T |
2010 |
设备在台湾,已接电测试完毕,照片是未整新之前照片,有规格书; |
国内
|
|
CANON FPA-5500 IZA步进式光刻机 |
CANON |
FPA-5500 IZA |
- |
设备完整不缺件,原厂已拆机; |
国内
|
 |
SPEEDFAM 50B单面研磨抛光机 |
SPEEDFAM |
50B |
2014 |
设备完整不缺件,在台湾已拆机,原厂确认无问题; |
国内
|
 |
EVATEC RAD BPM3 PVD薄膜沉积设备 |
EVATEC |
RAD BPM3 |
2018 |
8",在线热机2台,支持3种target,目前靶材使用Si Nb; |
国内
|
 |
VEECO GMR-PVD薄膜生长设备 |
VEECO |
GMR-PVD |
- |
8",可装12个靶,有前处理腔,设备完整不缺件; |
国内
|
 |
VEECO IBD/IBE离子束沉积设备 |
VEECO |
IBD/IBE |
- |
8",可装6个靶,设备完整不缺件; |
国内
|
 |
STS RIE反应离子刻蚀机 |
STS |
RIE |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
 |
SPTS MUC-21深硅刻蚀机 |
SPTS |
MUC-21 |
- |
6",Bosch工艺,ESD chuck,设备完整不缺件; |
国内
|
 |
SPTS OMEGA i2L深硅刻蚀机 |
SPTS |
OMEGA i2L |
- |
6",8",Bosch工艺,ESD chuck,设备完整不缺件; |
国内
|
 |
ASML AT-850B光刻机 |
ASML |
AT-850B |
2002 |
12",2024/5台湾拆机,无缺件,有HDD,Dual Chuck,Cymer Laser:ELS 6610,现存保税仓库; |
国内
|
|
KOKUSAI DJ-802V立式扩散炉 |
KOKUSAI |
DJ-802V |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
 |
DNS LA-820快速退火炉 |
DNS |
LA-820 |
2002 |
设备完整不缺件,已拆机; |
国内
|
 |
KOKUSAI DJ-802V立式扩散炉 |
KOKUSAI |
DJ-802V |
- |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
DISCO DFG8560研削机 |
DISCO |
DFG8560 |
2005 |
在线热机,设备完整不缺件; |
国内
|
 |
DISCO DFD6362划片机 |
DISCO |
DFD6362 |
2022.10 |
2022年新机未使用过,设备完整不缺件; |
国内
|
|
DISCO DFD6341划片机 |
DISCO |
DFD6341 |
2022 |
2022年新机未使用过,设备完整不缺件; |
国内
|
 |
TEL ACT8(2C2D)涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
2001 |
设备完整不缺件,韩国3台现货; |
国外
|
 |
NIKON NSR 2205 G8光刻机 |
NIKON |
NSR-2205G8 |
1991 |
6"设备完整不缺件,在线热机在亚洲; |
国外
|
 |
SHINKAINA SPA-400固晶机 |
SHINKAINA |
SPA-400 |
2019 |
设备完整不缺件,有4台现货在国内; |
国内
|
 |
GENTECH GAS SAFE GT3双钢气柜 |
GENTECH |
GAS SAFE GT3 |
- |
设备完整不缺件,有19台; |
国内
|
 |
NIKON NSR 2205i11D光刻机 |
NIKON |
NSR-2205i11D |
1996.02 |
设备完整不缺件,在韩国; |
国外
|
 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1996.08 |
设备完整不缺件,只有一个工艺腔,在日本; |
国外
|
 |
DISCO DAD3350晶圆切割机 |
DISCO |
DAD3350 |
2016 |
设备完整不缺件,2024.04下线,目前在日本; |
国外
|
|
PVA Tepla 300 AL PC干法去胶机 |
PVA Tepla |
300 AL PC |
2003 |
4/5/6"50片/微波 |
国内
|
|
PVA Tepla 300 AL PC干法去胶机 |
PVA Tepla |
300 AL PC |
2003 |
4/5/6"50片/微波 |
国内
|
|
PVA Tepla 300 AL PC干法去胶机 |
PVA Tepla |
300 AL PC |
2003 |
4/5/6"50片/微波 |
国内
|
|
PHOTAL FE-3000外观检查仪 |
PHOTAL |
FE-3000 |
- |
6" |
国内
|
|
PVA Tepla 300 AL PC干法去胶机 |
PVA Tepla |
300 AL PC |
2003 |
4/5/6"50片/微波 |
国内
|
|
PVA Tepla 300 AL PC干法去胶机 |
PVA Tepla |
300 AL PC |
2003 |
4/5/6"50片/微波 |
国内
|
|
OLYMPUS MX50显微镜 |
OLYMPUS |
MX50 |
- |
4/5/6/8" |
国内
|
|
OLYMPUS BH3-MJL显微镜 |
OLYMPUS |
BH3-MJL |
2002 |
4/5/6" |
国内
|
|
NIKON X6PDF-UBD显微镜 |
NIKON |
X6PDF-UBD |
- |
4/5/6" |
国内
|
|
NIKON NSR-1505i6光刻机 |
NIKON |
NSR-1505i6 |
- |
6" |
国内
|
|
LAM TE490干法刻蚀机 |
LAM |
TE490 |
- |
6" |
国内
|
|
LAM TE490干法刻蚀机 |
LAM |
TE490 |
- |
6" |
国内
|
|
TEL TE-8500P ATC干法刻蚀机 |
TEL |
TE-8500P ATC |
1995.11 |
6"RIE SiO2 Etcher |
国内
|
 |
NIKON NSR-1755G7A光刻机 |
NIKON |
NSR-1755G7A |
1996 |
6"24.04下线 |
国内
|
|
Rudolph NMR3短波长自动椭偏仪 |
Rudolph |
NMR3 |
1997.05 |
- |
国内
|
 |
KARL SUSS MA200e光刻机 |
KARL SUSS |
MA200e |
2006 |
4"-8" |
国内
|
|
SOPRA Gonio bench分光椭偏仪 |
SOPRA |
Gonio bench |
2000.02 |
- |
国内
|
 |
SEZ FS 103-6单片旋转腐蚀机 |
SEZ |
FS 103-6 |
1996 |
6" |
国内
|
|
CANON MPA-500FA投影式光刻机 |
CANON |
MPA-500FA |
- |
2"3"4"5"设备完整不缺件; |
国外
|
 |
SEZ FM101-6-B单片旋转腐蚀机 |
SEZ |
FM101-6-B |
1998 |
4-6" |
国内
|
|
TEL MARK-Vz涂胶显影机 |
TEL |
MARK-Vz |
1997 |
4/5/6"1C2D |
国内
|
|
TEL TE-8500P ATC干法刻蚀机 |
TEL |
TE-8500P ATC |
1995.11 |
6"RIE SiO2 Etcher |
国内
|
|
TEL TE-8500P干法刻蚀机 |
TEL |
TE-8500P |
- |
6"RIE SiO2 Etcher |
国内
|
|
TEL TE-8500P ATC干法刻蚀机 |
TEL |
TE-8500P ATC |
1993.03 |
6"RIE SiO2 Etcher |
国内
|
|
USHIO UMA-802-HC55MT固胶机 |
USHIO |
UMA-802-HC55MT |
2005 |
6" |
国内
|
|
ULVAC 304真空检漏仪 |
ULVAC |
304 |
2000.04 |
- |
国内
|
|
TOK TCA-2600低温干法去胶机 |
TOK |
TCA-2600 |
1990.11 |
6" |
国内
|
|
KEYENCE VU-5500数字显微镜 |
KEYENCE |
VU-5500 |
- |
4/5/6" |
国内
|
|
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
1993 |
4/5/6"1C1D |
国内
|
|
DNS SKW-629-BV涂胶显影机 |
DNS |
SKW-629-BV |
- |
5/6"1C1D |
国内
|
|
CANON VIR-630外观检查仪 |
CANON |
VIR-630 |
1989 |
6" |
国内
|
|
AMAT P-5000 DRY ETCH刻蚀机 |
AMAT |
P-5000 |
1999 |
美国6"ESC 2腔 |
国外
|
|
JEOL JDX-3531 X射线衍射仪XRD |
JEOL |
JDX-3531 |
2002 |
- |
国内
|
|
ANELVA ILC-1051 PVD溅射台 |
ANELVA |
ILC-1051 |
2000.9 |
6" |
国内
|
|
ANELVA ILC-1051 PVD溅射台 |
ANELVA |
ILC-1051 |
1990.9 |
6" |
国内
|
|
ANELVA ILC-1051 PVD溅射台 |
ANELVA |
ILC-1051 |
- |
6" |
国内
|
|
ANELVA ILC-1051 PVD溅射台 |
ANELVA |
ILC-1051 |
- |
6" |
国内
|
|
CELLO ohmiker-80B PVD蒸发台 |
CELLO |
ohmiker-80B |
2016 |
4/5/6"4寸60片 |
国内
|
|
CELLO ohmiker-80B PVD蒸发台 |
CELLO |
ohmiker-80B |
2014 |
4/5/6"4寸60片 |
国内
|
 |
CANON MPA-600FA投影式光刻机 |
CANON |
MPA-600FA |
2006 |
4"5"6"设备完整不缺件100-200mm; |
国内
|
|
AMAT P-5000 PECVD刻蚀机 |
AMAT |
P-5000 |
1999 |
美国6"2腔 |
国外
|
|
CANON MAS-801HR低损伤干法去胶机 |
CANON |
MAS-801HR |
- |
6" |
国内
|
|
DNS SC-W80A SOG涂胶显影机 |
DNS |
SC-W80A |
1999/2015升 |
6/8"2C+CURE FUNANCE |
国内
|
|
ABM/6/350/DCCD光刻机 |
ABM |
ABM/6/350/DCCD |
- |
2"-6" |
国内
|
 |
EBARA F-REX300 CMP化学机械研磨 |
EBARA |
F-REX300 CMP |
2004.09 |
12"设备完整不缺件,2014年原厂翻新改造后旭硝子研发用; |
已售出
|
|
HITACHI IS-2000 Wafer异物检查装置 |
HITACHI |
IS-2000 |
1990.8 |
6" |
国内
|
|
HITACHI PD-2000光刻版颗粒检查装置 |
HITACHI |
PD-2000 |
1988.12 |
6" |
国内
|
|
HITACHI LS-6000激光表面检查装置 |
HITACHI |
LS-6000 |
1992.2 |
6" |
国内
|
 |
HITACHI S-6100扫描电镜 |
HITACHI |
S-6100 |
1994 |
6" |
国内
|
|
HITACHI S-4500扫描电镜 |
HITACHI |
S-4500 |
1996 |
EDX |
国内
|
|
DNS SK-200W-AVP涂胶显影机 |
DNS |
SK-200W-AVP |
1998 |
6/8"2C2D; |
国内
|
|
FSM 128NT薄膜应力测试仪 |
FSM |
FSM 128NT |
2021.10 |
2-8" 24.04下线 |
已售出
|
|
DNS SK-200W-AVP涂胶显影机 |
DNS |
SK-200W-AVP |
2009.09 |
6/8"2D备件机; |
国内
|
|
DNS STM-603-PLS膜厚仪 |
DNS |
STM-603-PLS |
- |
4/5/6" |
国内
|
|
DNS SSW-629-B刷片机 |
DNS |
SSW-629-B |
1991 |
6"二流体+超音波 |
国内
|
 |
DNS LA-820快速退火炉 |
DNS |
LA-820 |
- |
6" |
国内
|
|
DNS SP-W813-AS单片旋转腐蚀机 |
DNS |
SP-W813-AS |
1995.05 |
6"CMP后洗净 |
国内
|
|
DNS SCW-636-BV涂胶机 |
DNS |
SCW-636-BV |
1990 |
5/6"双轨/PI胶 |
国内
|
 |
ANELVA I-1060 SVII PVD溅射台 |
ANELVA |
I-1060 SVII |
1995.08 |
6"含税 |
国内
|
|
HITACHI S-5200扫描电镜 |
HITACHI |
S-5200 |
2002.06 |
- |
国内
|
 |
DISCO DAG810研磨机 |
DISCO |
DAG810 |
2003 |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
DISCO DFG8560研削机 |
DISCO |
DFG8560 |
2016 |
设备完整不缺件; |
国内
|
|
Aixtron Aix 2600G3 MOCVD化学气相沉积 |
Aixtron |
Aix 2600G3 TA/TE/TM |
2001/02/07 |
设备完整不缺件,目前台湾仓库有3台现货(TA 2001+TE 2007+TM 2002),2025.02拆机,待出价; |
国内
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Aixtron Aix 2800G4 TM MOCVD化学气相沉积 |
Aixtron |
Aix 2800G4 TM |
2017 |
设备完整不缺件(无HDD),年初下线; |
国内
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JDSU FV-200检测仪 |
JDSU |
FV-200 |
- |
设备完整不缺件,含税; |
国内
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Nordson 7012332点胶机 |
Nordson |
7012332 |
- |
设备完整不缺件,含税; |
国内
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Kulicke & Soffa 4523-AD引线键合机 |
Kulicke & Soffa |
4523-AD |
- |
设备完整不缺件,含税; |
国内
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MMM LSIK-B2V VC222烤箱 |
MMM |
LSIK-B2V VC222 |
- |
设备完整不缺件,含税有2台; |
国内
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Palomar 3500芯片键合机 |
Palomar |
3500 |
- |
设备完整不缺件,含税; |
国内
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Lumentum MC ROSA耦合 |
Lumentum |
MC ROSA |
- |
设备完整不缺件,含税; |
国内
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Benchmark SM8000封盖 |
Benchmark |
SM8000 |
- |
设备完整不缺件,含税; |
国内
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ASML AT1100光刻机 |
ASML |
AT1100 |
2002 |
设备完整不缺件,已翻新在台湾;
AT:1100采用193nmArF曝光光源，针对于300mm晶圆处理的双级光刻平台。
AT:1100具有12"扫描仪。
AT:1100是一个193nm波长系统，具有业界最高的数值孔 |
国内
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DISCO DFG850研磨机 |
DISCO |
DFG850 |
2003 |
8"全自动设备完整不缺件,Asis含税价; |
国内
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DNS SU3100晶圆清洗设备 |
DNS |
SU3100 |
2008 |
设备完整不缺件,晶圆300毫米; |
国外
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DNS SU3200晶圆喷雾清洁器 |
DNS |
SU3200 |
2014 |
12"设备在亚洲,系统已完成,但没有硬盘,原产于三星电子;
工艺流程;喷雾清洗
工艺:SC1/DHF/H2SO4/O3分庭;(12)箱式湿法加工工具
工厂接口:(4)FOUP
川崎高速红外/红外线处理器; |
国外
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DNS SU3200晶圆喷雾清洁器 |
DNS |
SU3200 |
2014 |
12"设备在亚洲,系统已完成,但没有硬盘,原产于三星电子;
工艺流程;喷雾清洗
工艺:SC1/DHF/H2SO4/O3分庭;(12)箱式湿法加工工具
工厂接口:(4)FOUP
川崎高速红外/红外线处理器; |
国外
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TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1998 |
设备完整不缺件,已拆机在日本; |
国外
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NIKON NSR S204B分步投影光刻机 |
NIKON |
NSR-S204B |
2000 |
韩国在线热机,7.25号下线; |
国外
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DISCO DFL7161激光开槽机 |
DISCO |
DFL7161 |
2022.10 |
设备完整不缺件,基本没怎么用过的准新机,含税价,10月底出售; |
国外
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TEL UnityIIe-855II刻蚀机 |
TEL |
UnityIIe-855II |
1996 |
设备完整不缺件,在日本仓库; |
国外
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TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
2000 |
设备完整不缺件,在线热机在日本(1C 3D WEE); |
国外
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Rudolph CV9812晶圆载具检测 |
Rudolph |
CV9812 |
- |
在线热机在亚洲,设备完整不缺件; |
国外
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HITACHI S-8840扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-8840 |
1999 |
设备完整不缺件,已翻新好; |
国外
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HITACHI S-9380扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-9380 |
2007 |
设备完整不缺件; |
国外
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DISCO DAD321划片机 |
DISCO |
DAD321 |
2004 |
在线热机在台湾,有11台现货打包卖,其中两台是2006; |
国内
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NIKON NSR 1755i7A光刻机 |
NIKON |
NSR-1755i7A |
1989 |
设备完整不缺件,含安装调试; |
国内
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NIKON NSR S204B分步投影光刻机 |
NIKON |
NSR-S204B |
2001 |
国内在线热机,完全初始化状态,激光器cymer; |
国内
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AMAT mirra MESA CMP化学机械抛光设备 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
2002 |
设备完整不缺件,已翻新在国内; |
国外
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EBARA F-REX300 CMP化学机械研磨 |
EBARA |
F-REX300 CMP |
2004.09 |
12"设备完整不缺件,2014年原厂翻新改造后旭硝子研发用; |
已售出
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LAM 2300 Exelan Flex蚀刻机 |
LAM |
2300 Exelan Flex |
- |
4室Ath-1600涡轮增压+交流箱; |
国内
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AMAT Endura II气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II |
- |
有2台现货; |
国内
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AMAT Endura CL Mainframe气相沉积设备 |
AMAT |
Endura CL Mainframe |
- |
1台主机+IMP舱室+2个舱室+1台EFEM; |
国内
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AMAT CENTRIS MESA ETCH沉积蚀刻 |
AMAT |
CENTRIS MESA ETCH |
- |
有2台现货(1个主机+3个双室,射频机器人涡轮配件齐); |
国内
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DISCO DFL7340全自动激光切割机 |
DISCO |
DFL7340 |
2011 |
在线热机,设备完整不缺件,还有2台现货; |
国内
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ULVAC EI-5蒸发台 |
ULVAC |
EI-5 |
2007 |
设备完整不缺件,在线热机可做验证片; |
国内
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CANON BESTEM-D321 Plus固晶机 |
CANON |
BESTEM-D321 Plus |
2016 |
设备完整不缺件,有3台现货在台湾,不拆硬盘; |
国内
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DISCO DGP8761研磨机+DFM2800贴膜机 |
DISCO |
DGP8761+DFM2800 |
2012 |
设备完整不缺件,在韩国; |
国外
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LAM C2 Triple SPEED气相沉积 |
LAM |
C2 Triple SPEED |
- |
设备完整不缺件; |
国外
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DISCO DFD6361划片机 |
DISCO |
DFD6361 |
2004 |
设备完整不缺件,有2台现货,带集尘机/二氧化碳机/DTU-1531冰水机/药水添加机; |
国外
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ADT 7122切割机 |
ADT(K&S) |
7122 |
2018 |
设备完整不缺件,99成新;2"直流无刷,1.2 kW,前置挂载,空气轴承主轴（最高转速60rpm）,闭环转台.
经过优化,适用于200mm x 200mm较薄和小公差产品的多角度切割,如:
• 光电组件
• P |
国内
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DISCO DAD3350晶圆切割机 |
DISCO |
DAD3350 |
2021 |
设备完整不缺件,有2台; |
国外
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HITACHI S-8820扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-8820 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
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HITACHI S-4100扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-4100 |
1992 |
设备完整不缺件,设备在日本刚下线; |
国外
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EMCRNFTS G-1000扫描电镜 |
EMCRNFTS |
G-1000 |
2014 |
设备完整不缺件; |
国内
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AG Heatpulse 8108快速退火炉 |
AG |
Heatpulse 8108 |
- |
8"设备完整不缺件,设备已翻新好,报价为硅基价,化合物的加2万美元,包含12个月质保+安装调试; |
国外
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DISCO DFL7361激光划片机 |
DISCO |
DFL7361 |
2017/19 |
设备完整不缺件,设备目前在亚洲,有2台现货,含到中国价; |
国外
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HITACHI CG6300高解析度FEB测量装置 |
HITACHI |
CG6300 |
2017 |
设备完整不缺件; |
国外
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DISCO DFL7020划片机 |
DISCO |
DFL7020 |
- |
设备完整不缺件,有3台现货; |
国内
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AMAT Endura II PVD 9个腔室气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II PVD 9 |
2007 |
12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库;
AL 2室、TTN 1室、SIP 2室、ALPS 1室、PcXT 1室、Degas（STD）2室 |
国外
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AMAT Endura II PVD 8个腔室气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II PVD 8 |
2007 |
12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库;
SIP 1室、ALPS 3室、PcXT 2室、Degas(DMD)2室 |
国外
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ACCRETECH UF3000EX探针台 |
ACCRETECH |
UF3000EX |
2007 |
设备完整不缺件,带冷冻器探测器,设备目前在亚洲;ARTS-W3冷冻器温度：-40C~+150C |
国外
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DISCO DFL7340全自动激光切割机 |
DISCO |
DFL7340 |
2010 |
设备完整不缺件,3台在日本,M-Code:782200; |
国外
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TEL ACT8(2C2D)涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
2003 |
设备完整不缺件; |
国外
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DISCO DFD6361切割机 |
DISCO |
DFD6361 |
2010 |
设备完整不缺件,在日本; |
国外
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DISCO DFL7020划片机 |
DISCO |
DFL7020 |
2010 |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国内
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DISCO DFL7340全自动激光切割机 |
DISCO |
DFL7340 |
2011 |
设备完整不缺件,M-Code:259000; |
国内
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DISCO DAD322晶圆切割机 |
DISCO |
DAD322 |
2009/11 |
设备完整不缺件,有5台现货; |
国内
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 |
DISCO DFL7340全自动激光切割机 |
DISCO |
DFL7340 |
2011 |
设备完整不缺件,有2台现货,装的大族系统(可修改)M-Code:725900/755400; |
国内
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DISCO DFD6360划片机 |
DISCO |
DFD6360 |
2004 |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
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ASM PLASMA III PECVD等离子体化学气相沉积 |
ASM |
PLASMA III |
- |
设备完整不缺件,在线热机可做验证片; |
国内
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 |
TEL P-12XL探针台 |
TEL |
P-12XL |
2005 |
12"设备完整不缺件,有4台+2台chiller现货在台湾,不必打包(高温4台+低常高温2台); |
国内
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HITACHI DB-730AC固晶机 |
HITACHI |
DB-730AC |
- |
设备完整不缺件,有4台现货在台湾,不拆硬盘; |
国内
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ASML XT1250D光刻机 |
ASML |
XT1250D |
- |
设备完整不缺件; |
国外
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TABAI PS-232烤箱 |
TABAI |
PS-232 |
- |
设备完整不缺件,有现货1台; |
国内
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|
ADVANCED M158监测仪 |
ADVANCED ENERGYAE |
M158 |
- |
设备完整不缺件,有现货1台; |
国内
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|
TEL P-12XLN/xlm探针台 |
TEL |
P-12XLN |
2005 |
设备完整不缺件,有现货5台(翻新的加1万美元); |
国内
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TEL P-8 Prober探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
设备完整不缺件,有现货17台; |
国内
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|
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
- |
设备完整不缺件,有现货23台; |
国内
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TECHWING TW250HT Handler分选机 |
TECHWING |
TW250HT |
- |
设备完整不缺件,有现货1台; |
国内
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Taylor Hobson CCI MP-HS光学轮廓仪 |
Taylor Hobson |
CCI MP-HS |
- |
设备完整不缺件,非接触式光学轮廓仪,有现货1台; |
国内
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TAKATORI ATRM2100D解胶撕膜机 |
TAKATORI日本高鸟 |
ATRM2100D |
- |
设备完整不缺件,有现货1台; |
国内
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TAKATORI DM-800A/800B划片机 |
TAKATORI日本高鸟 |
DM-800A/800B |
- |
设备完整不缺件,有现货2台; |
国内
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