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| 图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
 |
DISCO DFD6340全自动切割机 |
DISCO |
DFD6340 |
2010 |
设备完整不缺件,主轴功率1.8KW,有2 |
国内
|
 |
NIKON NSR-1755i7B光刻机 |
NIKON |
NSR-1755i7B |
1991 |
6"设备完整不缺件,上海净化车间,翻新+ |
国内
|
 |
TSK ML200镭射切割机 |
TSK |
ML200 |
2006 |
设备完整不缺件,质保6个月+30W,质保 |
国内
|
|
NITTO HR8500II撕膜机 |
NITTO |
HR8500II |
- |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
KLA Surfscan SP2晶圆检测系统 |
KLA |
SP2 |
2007/2012 |
设备完整不缺件,有2台现货,安装调试+质 |
国内
|
 |
MGI Electronics ET 2000倒片机 |
MGI Electronics |
ET-2000 |
- |
6"设备完整不缺件,有2台现货; |
国内
|
|
DNS SS-W60A擦片机 |
DNS |
SS-W60A |
- |
6"设备完整不缺件; |
国内
|
|
DNS SD-W80A-AVP显影机(2D) |
DNS |
SD-W80A-AVP |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
|
DNS SS-W80A擦片机 |
DNS |
SS-W80A |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
|
DNS SCW-629B涂胶机(2C) |
DNS |
SCW-629B |
- |
6"设备完整不缺件; |
国内
|
|
DNS SDW-629B显影机(2D) |
DNS |
SDW-629B |
- |
6"设备完整不缺件; |
国内
|
|
DNS 80A涂胶显影机(1C2D) |
DNS |
80A |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
|
DNS SKW-80A-AVPE显影机(3D) |
DNS |
SKW-80A-AVPE |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
 |
DISCO DFG8560研磨机 |
DISCO |
DFG8560 |
2005/2007 |
12"设备完整不缺件,有2台现货; |
国内
|
|
DNS SK-W80A-AVP涂胶显影机(3C2D) |
DNS |
SK-W80A-AVP |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
|
NIKON NSR-1505G4D步进式光刻机 |
NIKON |
NSR-1505G4D |
- |
6"设备完整不缺件,有5台现货; |
国内
|
|
CANON PLA-501FA投影式光刻机 |
CANON |
PLA-501FA |
- |
6"设备完整不缺件,有3台现货; |
国内
|
|
ATV PEO 601桌面退火炉 |
ATV |
PEO-601 |
- |
6"设备完整不缺件; |
国内
|
|
ATV PEO 603桌面退火炉 |
ATV |
PEO-603 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
|
DNK MA-4200光刻机 |
DNK |
MA-4200 |
2010 |
设备完整不缺件,江西在线热机; |
国内
|
 |
KLA SF27缺陷检测 |
KLA |
SF27 |
- |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
CANON FPA-3000EX6光刻机 |
CANON |
FPA-3000EX6 |
2001 |
8"设备完整不缺件,可改6"4"; |
国内
|
 |
KLA Tencor CS20表面分析仪 |
KLA |
CS20 |
2010 |
设备完整不缺件,安装调试+质保6个月,费 |
国内
|
 |
HITACHI SU-8010扫描电镜 |
HITACHI |
SU-8010 |
2013 |
设备完整不缺件,含安装调试培训; |
国内
|
 |
DELTA 5001离线分拣机 |
DELTA |
5001 |
2018 |
设备完整不缺件,有2台现货,无硬盘; |
国内
|
 |
TOHO FLX-2320-S应力测试仪 |
TOHO |
FLX-2320-S |
2007 |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
EVATEC RAD BPM3 PVD薄膜沉积设备 |
EVATEC |
RAD BPM3 |
2019 |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
ULVAC Zi-1000N薄膜测量系统 |
ULVAC |
Zi-1000N |
2001 |
少冷冻机,其他都完整; |
国内
|
 |
KLA Leica INS3300晶圆缺陷检测 |
KLA |
Leica INS3300 |
2015 |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
TEL TE8500蚀刻机 |
TEL |
TE-8500 |
1995 |
设备完整不缺件,单腔,可以刻蚀SiO2和 |
国内
|
 |
ASM AD838L-G2全自动固晶机 |
ASM |
AD838L-G2 |
2015 |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
KLA Tencor 8420表面缺陷检测系统 |
KLA |
8420 |
2020 |
6"设备完整不缺件,20年入厂,设备九成 |
国内
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|
DISCO DAD3350晶圆切割机 |
DISCO |
DAD3350 |
2014 |
设备完整不缺件; |
国内
|
|
TEL MARK7刷片机 |
TEL |
MARK7 |
- |
6/8"设备完整不缺件; |
国内
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|
DISCO DAD3350晶圆切割机 |
DISCO |
DAD3350 |
2010 |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
ULVAC NE-950 ICP干法刻蚀 |
ULVAC |
NE-950 ICP |
2010 |
设备在台湾,已接电测试完毕,ψ330mm |
国内
|
 |
ULVAC EI-5T蒸发台 |
ULVAC |
EI-5T |
2010 |
设备在台湾,已接电测试完毕,照片是未整新 |
国内
|
|
CANON FPA-5500iZa光刻机 |
CANON |
FPA-5500iZa |
- |
设备完整不缺件,原厂已拆机; |
国内
|
 |
SPEEDFAM 50B单面研磨抛光机 |
SPEEDFAM |
50B |
2014 |
设备完整不缺件,在台湾已拆机,原厂确认无 |
国内
|
 |
EVATEC RAD BPM3 PVD薄膜沉积设备 |
EVATEC |
RAD BPM3 |
2018 |
8",在线热机2台,支持3种target |
国内
|
 |
VEECO GMR-PVD薄膜生长设备 |
VEECO |
GMR-PVD |
- |
8",可装12个靶,有前处理腔,设备完整 |
国内
|
 |
VEECO IBD/IBE离子束沉积设备 |
VEECO |
IBD/IBE |
- |
8",可装6个靶,设备完整不缺件; |
国内
|
 |
STS RIE反应离子刻蚀机 |
STS |
RIE |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
 |
ASML AT850B光刻机 |
ASML |
AT850B |
2002 |
12",2024/5台湾拆机,无缺件,有 |
国内
|
 |
DNS LA-820快速退火炉 |
DNS |
LA-820 |
2002 |
设备完整不缺件,已拆机; |
国内
|
 |
KOKUSAI DJ-802V立式扩散炉 |
KOKUSAI |
DJ-802V |
- |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
DISCO DFG8560研削机 |
DISCO |
DFG8560 |
2005 |
12"在线热机,设备完整不缺件; |
国内
|
 |
DISCO DFD6362划片机 |
DISCO |
DFD6362 |
2022.10 |
设备完整不缺件,主轴功率1.8KW,20 |
国内
|
 |
DISCO DFD6341划片机 |
DISCO |
DFD6341 |
2022 |
设备完整不缺件,主轴功率1.2KW,新机 |
国内
|
 |
SHINKAINA SPA-400固晶机 |
SHINKAINA |
SPA-400 |
2019 |
设备完整不缺件,有4台现货在国内; |
国内
|
|
GENTECH GAS SAFE GT3双钢气柜 |
GENTECH |
GAS SAFE GT3 |
- |
设备完整不缺件,有19台现货; |
国内
|
 |
DISCO DAD3350晶圆切割机 |
DISCO |
DAD3350 |
- |
设备完整不缺件,有多台; |
国内
|
|
ABM/6/350/DCCD光刻机 |
ABM |
ABM/6/350/DCCD |
- |
2"-6" |
国内
|
 |
ANELVA I-1060 SVII PVD溅射台 |
ANELVA |
I-1060 SVII |
1995.08 |
6"设备完整不缺件; |
国内
|
 |
ANELVA ILC-1051 PVD溅射台 |
ANELVA |
ILC-1051 |
2001 |
6"设备完整不缺件150mm; |
国内
|
|
ANELVA ILC-1051 PVD溅射台 |
ANELVA |
ILC-1051 |
1990.9 |
6" |
国内
|
|
ANELVA ILC-1051 PVD溅射台 |
ANELVA |
ILC-1051 |
- |
6" |
国内
|
|
ANELVA ILC-1051 PVD溅射台 |
ANELVA |
ILC-1051 |
- |
6" |
国内
|
 |
CANON MPA-600FA投影式光刻机 |
CANON |
MPA-600FA |
2006 |
4"5"6"设备完整不缺件100-200 |
国内
|
|
CANON MAS-801HR低损伤干法去胶机 |
CANON |
MAS-801HR |
- |
6" |
国内
|
|
CANON VIR-630外观检查仪 |
CANON |
VIR-630 |
1989 |
6" |
国内
|
|
DNS SC-W80A SOG涂胶显影机 |
DNS |
SC-W80A |
1999/2015升 |
6/8"2C+CURE FUNANCE |
国内
|
|
DNS SK-200W-AVP涂胶显影机 |
DNS |
SK-200W-AVP |
1998 |
6/8"2C2D; |
国内
|
|
DNS SK-200W-AVP涂胶显影机 |
DNS |
SK-200W-AVP |
2009.09 |
6/8"2D备件机; |
国内
|
|
DNS SKW-629-BV涂胶显影机 |
DNS |
SKW-629-BV |
- |
5/6"1C1D |
国内
|
|
DNS SCW-636-BV涂胶机 |
DNS |
SCW-636-BV |
1990 |
5/6"双轨/PI胶 |
国内
|
|
DNS SPW-813AS单片旋转腐蚀机 |
DNS |
SPW-813AS |
1995.05 |
6"CMP后洗净; |
国内
|
 |
DNS LA-820快速退火炉 |
DNS |
LA-820 |
- |
6" |
国内
|
|
DNS SSW-629-B刷片机 |
DNS |
SSW-629-B |
1991 |
6"二流体+超音波 |
国内
|
|
DNS STM-603-PLS膜厚仪 |
DNS |
STM-603-PLS |
- |
4/5/6" |
国内
|
 |
EBARA F-REX300 CMP化学机械研磨 |
EBARA |
F-REX300 CMP |
2004.09 |
12"设备完整不缺件,2014年原厂翻新 |
国内
|
|
HITACHI S-5200扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-5200 |
2002.06 |
设备完整不缺件,如果要安装调试加40W; |
国内
|
|
HITACHI S-4500扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-4500 |
1996 |
EDX |
国内
|
 |
HITACHI S-6100扫描电镜 |
HITACHI |
S-6100 |
1994 |
6" |
国内
|
|
HITACHI LS-6000激光表面检查装置 |
HITACHI |
LS-6000 |
1992.2 |
6" |
国内
|
|
HITACHI PD-2000光刻版颗粒检查装置 |
HITACHI |
PD-2000 |
1988.12 |
6" |
国内
|
|
HITACHI IS-2000 Wafer异物检查装置 |
HITACHI |
IS-2000 |
1990.8 |
6" |
国内
|
|
JEOL JDX-3531 X射线衍射仪XRD |
JEOL |
JDX-3531 |
2002 |
设备完整不缺件; |
国内
|
|
KEYENCE VU-5500数字显微镜 |
KEYENCE基恩士 |
VU-5500 |
- |
4/5/6" |
国内
|
|
LAM TE490干法刻蚀机 |
LAM |
TE490 |
- |
6" |
国内
|
|
LAM TE490干法刻蚀机 |
LAM |
TE490 |
- |
6" |
国内
|
|
NIKON NSR-1505i6A光刻机 |
NIKON |
NSR-1505i6A |
- |
6"设备完整不缺件; |
国内
|
|
NIKON X6PDF-UBD显微镜 |
NIKON |
X6PDF-UBD |
- |
4/5/6" |
国内
|
|
OLYMPUS BH3-MJL显微镜 |
OLYMPUS奥林巴斯 |
BH3-MJL |
2002 |
4/5/6" |
国内
|
|
OLYMPUS MX50显微镜 |
OLYMPUS奥林巴斯 |
MX50 |
- |
4/5/6/8" |
国内
|
|
PHOTAL FE-3000外观检查仪 |
PHOTAL |
FE-3000 |
- |
6" |
国内
|
|
PVA Tepla 300 AL PC干法去胶机 |
PVA Tepla |
300 AL PC |
2003 |
4/5/6"50片/微波 |
国内
|
|
PVA Tepla 300 AL PC干法去胶机 |
PVA Tepla |
300 AL PC |
2003 |
4/5/6"50片/微波 |
国内
|
|
PVA Tepla 300 AL PC干法去胶机 |
PVA Tepla |
300 AL PC |
2003 |
4/5/6"50片/微波 |
国内
|
|
PVA Tepla 300 AL PC干法去胶机 |
PVA Tepla |
300 AL PC |
2003 |
4/5/6"50片/微波 |
国内
|
|
PVA Tepla 300 AL PC干法去胶机 |
PVA Tepla |
300 AL PC |
2003 |
4/5/6"50片/微波 |
国内
|
|
Rudolph NMR3短波长自动椭偏仪 |
Rudolph |
NMR3 |
1997.05 |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
SOPRA Gonio bench分光椭偏仪 |
SOPRA |
Gonio bench |
2000.02 |
6"设备完整不缺件,turnkey加1. |
国内
|
 |
LAM SEZ FS 103-6单片旋转腐蚀机 |
LAM泛林 |
FS 103-6 |
1996 |
6" |
国内
|
 |
LAM SEZ FM101-6-B单片旋转腐蚀机 |
LAM泛林 |
FM101-6-B |
1998 |
4-6" |
国内
|
 |
TEL MARK-VZ涂胶显影机(1C2D) |
TEL |
MARK-VZ |
1997 |
设备完整不缺件,4/5/6"1C2D,已 |
国内
|
|
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
1993 |
4/5/6"1C1D |
国内
|
|
TEL TE8500P ATC干法刻蚀机 |
TEL |
TE-8500P ATC |
1995.11 |
6"RIE SiO2 Etcher |
国内
|
|
TEL TE8500P ATC干法刻蚀机 |
TEL |
TE-8500P ATC |
1995.11 |
6"RIE SiO2 Etcher |
国内
|
|
TEL TE8500P干法刻蚀机 |
TEL |
TE-8500P |
- |
6"RIE SiO2 Etcher |
国内
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| 二手半导体设备买卖+翻新 龙先生18868521984(微) |
| 注：设备状态不定期更新，是否已售出请咨询。 |
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