| 日期-ID |
图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
| 2026.9.12-1655 |
 |
ICP干法刻蚀机 |
TEL |
SCCM TE |
2006 |
12"设备完整不缺件300mm,SN_H01061; |
国外
|
| 2026.9.12-1657 |
|
ICP干法刻蚀机 |
TEL |
SCCM TE |
2004 |
12"设备完整不缺件300mm,SN_H00074; |
国外
|
| 2026.9.12-1659 |
|
立式扩散炉 |
TEL |
Formula‑1S‑M |
2009 |
12"设备完整不缺件300mm,P00000975017; |
国外
|
| 2026.9.12-1660 |
|
立式扩散炉 |
TEL |
Formula‑1S‑M |
2009 |
12"设备完整不缺件300mm,P00000975012; |
国外
|
| 2026.9.12-1661 |
|
ICP干法刻蚀机 |
TEL |
SCCM TE |
2006 |
12"设备完整不缺件300mm,SN_H01059; |
国外
|
| 2026.9.12-1663 |
|
ICP干法刻蚀机 |
TEL |
SCCM TE |
2006 |
12"设备完整不缺件300mm,SN_H01012; |
国外
|
| 2026.9.12-1665 |
|
ICP干法刻蚀机 |
TEL |
SCCM TE |
2006 |
12"设备完整不缺件300mm,SN_H01011; |
国外
|
| 2026.9.12-1667 |
|
立式扩散炉 |
TEL |
INDY-B-L |
2006 |
12"设备完整不缺件300mm,SN:R00000675026; |
国外
|
| 2026.9.12-1616 |
|
立式扩散炉 |
TEL |
INDY-B-L |
2006 |
12"设备完整不缺件300mm,SN:R00000665023; |
国外
|
| 2026.9.12-1647 |
|
中束流离子注入机 |
AMAT |
Vera SEM 3D |
2002 |
12"设备完整不缺件300mm; |
国外
|
| 2026.9.11-718 |
|
光刻机 |
ASML |
PAS 5500/700D |
2000 |
8"设备完整不缺件200mm; |
国外
|
| 2026.9.9-279 |
|
晶圆键合机 |
EVG |
850 |
2005 |
300mm设备完整不缺件,在线热机; |
国外
|
| 2026.9.4-1646 |
|
化学气相沉积 |
AIXTRON |
2800G5 HT IC2 |
2016 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.9.2-1226 |
|
气相沉积设备 |
AMAT |
Endura Ⅱ |
2020 |
设备完整不缺件,台湾在线热机; |
国外
|
| 2026.8.24-812 |
|
光学测量设备 |
KLA |
Archer 300+AIM |
2013 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.8.24-935 |
|
扫描电子显微镜 |
HITACHI |
CG-4000 |
2007 |
12"设备完整不缺件300mm,在欧洲含拆机打包; |
国外
|
| 2026.8.21-802 |
|
大束流离子注入机 |
AXCELIS |
NV 10-160 |
- |
Maximum implant energy - 160 keV
Beam curren |
国外
|
| 2026.8.20-800 |
 |
探针台 |
TEL |
P-12XL |
2002-2005 |
设备完整不缺件300mm,有15台现货,国内交货价;
配置:主要为双FOUP装载端口系统 |
国外
|
| 2026.8.17-4182 |
 |
光刻机 |
ASML |
PAS 5500/1150C |
2006 |
8"设备完整不缺件200mm,在欧洲; |
国外
|
| 2026.8.17-679 |
|
光谱椭偏仪 |
KLA |
SPECTRAFX 100 |
2006 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.8.17-783 |
|
散射仪 |
KLA |
SpectraCD 200 |
2004 |
8"设备完整不缺件200mm; |
国外
|
| 2026.8.17-930 |
 |
表面分析仪 |
KLA |
CS10V |
2012 |
设备完整不缺件,单激光紫光405nm; |
国外
|
| 2026.8.17-739 |
|
套刻测量系统 |
KLA |
Archer 300 |
2011 |
12"设备完整不缺件300mm; |
国外
|
| 2026.8.17-785 |
|
轮廓仪 |
KLA |
HRP240 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.8.17-784 |
|
离子束刻蚀机 |
HITACHI |
NB5000 |
2018 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.8.17-781 |
|
激光划片机 |
DISCO |
DFL7361 |
2015 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.8.14-780 |
 |
缺陷检测设备 |
KLA |
2139 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.8.13-798 |
|
激光切割机 |
DISCO |
DFL7160 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.8.13-782 |
 |
划片机 |
DISCO |
DAD3240 |
2017 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.8.13-3815 |
 |
设备 |
Aixtron |
2800G4 HT |
2009 |
设备完整不缺件,在线热机亚洲; |
国外
|
| 2026.8.13-769 |
 |
刻蚀系统 |
OXFORD |
800Plus |
- |
设备完整不缺件,已下线在美国; |
国外
|
| 2026.8.12-790 |
 |
光刻机 |
ASML |
XT400F |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.8.7-772 |
 |
刻蚀系统 |
OXFORD |
800Plus |
2010-2011 |
4"设备完整不缺件,有3台现货,有2台2010年,有1台2011年; |
国外
|
| 2026.8.7-738 |
 |
扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-9380 |
2007 |
设备完整不缺件,用于300毫米晶圆上的65纳米工艺控制,具有2.0纳米分辨率和每小时高达3 |
国外
|
| 2026.8.7-3809 |
 |
划片机 |
DISCO |
DAD3240 |
2013 |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
| 2026.8.6-2844 |
|
步进式光刻机 |
CANON |
FPA-5500iZ+ |
2004 |
12"设备完整不缺件300nm; |
国外
|
| 2026.8.6-736 |
|
刻蚀机 |
TEL |
ELECTRON JIN |
- |
12"设备完整不缺件300nm; |
国外
|
| 2026.8.6-737 |
|
批量式湿法清洗机 |
TEL |
Expedius-i |
- |
12"设备完整不缺件300nm,有2台现货未使用过,SPM-HQDR-H3PO4-HQDR |
国外
|
| 2026.8.6-735 |
|
干法刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
150mm设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
| 2026.8.2-1090 |
|
光刻机 |
ASML |
XT1060K |
2022 |
设备完整不缺件,不含拆机,设备在美国,26年一季度拆机; |
国外
|
| 2026.7.31-729 |
 |
缺陷检测系统 |
HITACHI |
LS9200T |
2013 |
设备完整不缺件,现货在台湾,镭射头0使用时长; |
国外
|
| 2026.7.20-724 |
|
光刻机 |
NIKON |
NSR-S307E |
- |
晶圆级x轴有问题; |
国外
|
| 2026.7.20-725 |
|
电子束直写光刻机 |
RAITH |
EBPG5000+ |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.7.20-726 |
 |
光刻机 |
NIKON |
NSR-S308F |
2006 |
设备完整不缺件,含安装调试+6个月质保; |
国外
|
| 2026.7.18-720 |
|
光刻机 |
ASML |
PAS 5500/750F |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.7.15-4644 |
|
步进式光刻机 |
CANON |
FPA-3000i5 |
- |
设备完整不缺件,有10台现货在美国,已拆卸在仓库中; |
国外
|
| 2026.7.15-1048 |
 |
步进式光刻机 |
CANON |
FPA-5510iZ |
2007 |
设备无硬盘,有4台现货; |
国外
|
| 2026.7.15-723 |
|
光刻机 |
ASML |
PAS 5500/100D |
- |
设备完整不缺件,在美国; |
国外
|
| 2026.7.13-721 |
 |
晶圆键合机 |
EVG |
560 |
2015 |
设备完整不缺件,2腔热机下线,8月上旬到中国; |
国外
|
| 2026.7.3-2800 |
|
光刻机 |
ASML |
PAS 5500/100D |
1996 |
设备完整不缺件,有2台现货在韩国,含安装调试,不含维保; |
国外
|
| 2026.7.3-27 |
|
光刻机 |
ASML |
AT1100B |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.7.3-688 |
|
光刻机 |
ASML |
PAS 5500/100D |
2001 |
设备完整不缺件,有1台现货在美国,含安装调试+维保; |
国外
|
| 2026.6.26-1845 |
|
激光直写光刻机 |
KLOE |
Dilase D750 |
2016 |
设备完整不缺件,中间有升级过,5月底韩国下线; |
国外
|
| 2026.6.15-2979 |
|
光刻机 |
ASML |
NXT1980Di |
2010 |
设备完整不缺件,有4台现货; |
国外
|
| 2026.6.11-1837 |
|
光刻机 |
ASML |
300C |
1998 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.6.10-1855 |
|
激光直写光刻机 |
Heidelberg |
MLA150 |
2019 |
设备完整不缺件,在线热机,9月份下线; |
国外
|
| 2026.6.1-4044 |
 |
设备 |
Aixtron |
2800G4 HT |
2009 |
设备完整不缺件(无硬盘),目前在韩国,辅机含干泵和一个圆筒,做氮化镓; |
国外
|
| 2026.5.23-2712 |
 |
光刻机 |
NIKON |
NSR-S307E |
2004 |
设备完整不缺件,去年已拆机; |
国外
|
| 2026.5.23-1861 |
 |
表面缺陷检测系统 |
KLA |
8520 |
2022 |
设备完整不缺件,在欧洲含拆卸+搬迁+装箱,不含运输和CCIC; |
国外
|
| 2026.5.21-2421 |
|
扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-8840 |
1999 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.20-953 |
|
扩散炉 |
TEL |
Alpha-303i-K |
2003 |
12"设备完整不缺件TEOS; |
国外
|
| 2026.5.20-958 |
|
扩散炉 |
TEL |
Alpha-303i-K |
2003 |
12"设备完整不缺件PYRO; |
国外
|
| 2026.5.20-1854 |
|
光刻机 |
NIKON |
NSR-4425i |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.20-957 |
|
扩散炉 |
TEL |
Alpha-805D |
1993 |
8"设备完整不缺件PIQ; |
国外
|
| 2026.5.18-1204 |
|
氧化扩散炉 |
TEL |
INDY PLUS |
2011-2016 |
设备完整不缺件,有8台现货; |
国外
|
| 2026.5.10-2725 |
|
热波检测仪 |
KLA |
TP500 |
2002 |
设备完整不缺件,已翻新; |
国外
|
| 2026.5.10-2287 |
|
分步投影光刻机 |
NIKON |
NSR-S204B |
2001 |
8"设备完整不缺件200mm,激光器是cymer; |
国外
|
| 2026.5.8-2704 |
|
光刻机 |
NIKON |
NSR-SF130 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-2702 |
|
光刻机 |
NIKON |
NSR-SF120 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-2733 |
|
光刻机 |
NIKON |
NSR-S307 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-2654 |
|
光刻机 |
NIKON |
NSR-S206 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-2646 |
|
光刻机 |
NIKON |
NSR-2205i12D |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-2624 |
|
光刻机 |
NIKON |
NSR-2205i11D |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-2623 |
|
光刻机 |
NIKON |
NSR-2005i10C |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-2622 |
|
步进式光刻机 |
NIKON |
NSR-2005i9C |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-2621 |
|
光刻机 |
NIKON |
NSR-2205i14E2 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-2619 |
|
晶圆检测 |
NIKON |
OPTISTATION-3200 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-2618 |
|
晶圆检测 |
NIKON |
OPTISTATION-3100 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-2720 |
|
光刻机 |
NIKON |
NSR-S307D |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-2645 |
|
光刻机 |
NIKON |
NSR-S305 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-2628 |
|
光刻机 |
NIKON |
NSR-S208D |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-3167 |
|
芯片缺陷检测系统 |
KLA |
8720 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-2627 |
|
减薄撕膜一体机 |
DISCO |
DGP8760+DFM2700 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.8-2625 |
|
研磨机 |
DISCO |
DGP8761 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-3356 |
|
自动测试设备 |
ADVANTEST |
T6573 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-3349 |
|
自动测试设备 |
ADVANTEST |
T6575 |
2003 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-3348 |
|
自动测试设备 |
ADVANTEST |
T6577 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-3335 |
|
参数测试仪 |
AGILENT |
HP4072A |
2001 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-3334 |
|
参数测试仪 |
AGILENT |
HP4072B |
2007 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-3324 |
|
参数测试仪 |
AGILENT |
HP4073A |
2001 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-3319 |
|
参数测试仪 |
AGILENT |
HP4082 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-3357 |
|
模拟芯片专用测试仪 |
SHIBASOKU |
WL0500A |
2008 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-2662 |
|
模拟芯片专用测试仪 |
SHIBASOKU |
WL15V |
2018 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-2688 |
|
模拟芯片专用测试仪 |
SHIBASOKU |
WL25 |
2008 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-2644 |
|
手动晶圆探针台 |
MJC |
MP-10 |
- |
8φ200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-2687 |
|
手动晶圆探针台 |
OMNIPHYSICS |
SE-1000 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-2686 |
|
手动晶圆探针台 |
OMNIPHYSICS |
SE-6003A |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-2681 |
|
全自动晶圆探针台 |
TEL |
PRECIO |
2011 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-2643 |
|
探针台 |
ACCRETECH/TSK |
UF3000 |
2004/2006 |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
| 2026.5.7-2700 |
|
分选机 |
COHU |
JAGUAR |
2018 |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
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