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详细配置
状 态
LAM Concept Three Speed CVD气相沉积设备
LAM
Concept Three Speed
-
设备完整不缺件;
国外
LAM INOVA物理气相沉积设备
LAM
INOVA
-
300mm设备完整不缺件;
国外
LAM TORUS200蚀刻机
LAM
TORUS200
-
200mm设备完整不缺件;
国外
LAM TORUS200蚀刻机
LAM
TORUS200
-
200mm设备完整不缺件;
国外
LAM ALTUS(Chamber only)气相沉积设备
LAM
ALTUS(Chamber only)
-
300mm设备完整不缺件;
国外
LAM ALTUS(Chamber only)气相沉积设备
LAM
ALTUS(Chamber only)
-
300mm设备完整不缺件;
国外
LAM TCP9600SE等离子体刻蚀机
LAM
TCP9600SE
2005
6"设备完整不缺件,150mm;
国外
LAM RAINBOW 4520i干法刻蚀机
LAM
4520i
2000
设备完整不缺件,在美国仓库中;
国外
LAM RESEARCH 9400等离子刻蚀机
LAM
9400
2000
设备完整不缺件,在美国仓库中;
国外
LAM C2 Triple SPEED气相沉积
LAM
C2 Triple SPEED
-
设备完整不缺件;
国外
LAM 2300 Exelan Flex45 ICP蚀刻机
LAM
2300 Exelan Flex45
-
设备型号:2300 Exelan Fle
国外
LAM RAINBOW 4520XL干法刻蚀机
LAM泛林
4520XL
2000
热机运行中,但风扇需要更换;
国外
LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机
LAM泛林
RAINBOW 4420
-
6" As-is
国外
LAM RESEARCH 9400 SE等离子刻蚀机
LAM泛林
9400 SE
1997
整机完整不缺件
国外
LAM Chambers for Altus原子层沉积设备
LAM泛林
Chambers for Altus
-
12"
国外
LAM RESEARCH EOS湿式晶圆清洗设备
LAM泛林
RESEARCH EOS
-
-
国外
LAM ONE-W PECVD等离子化学气相沉积
LAM泛林
ONE-W
1995
PECVD;
国外
LAM TWO PLASMA CVD等离子化学气相沉积
LAM泛林
TWO
2000
CVD
国外
LAM TWO Speed PLASMA CVD薄膜沉积设备
LAM泛林
TWO Speed
2000
CVD
国外
LAM RST201刻蚀机
LAM泛林
RST201
1996
WET
国外
LAM RST201刻蚀机-重
LAM泛林
RST201
1997
WET
国外
LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机
LAM泛林
RAINBOW 4420
-
6" As-is
国外
LAM Synergy CMP薄膜沉积设备
LAM泛林
Synergy
1997
-
国外
LAM Vector Express CVD化学气相沉积设备
LAM
Vector Express
2011
CVD34x, underutilize
国外
LAM Vector Express CVD化学气相沉积设备-重
LAM
Vector Express
2011
-
国外
LAM Research EOS晶圆清洗设备(8腔)
LAM
Research EOS
2016
12"设备完整不缺件,无HDD;
国外
LAM Research EOS晶圆清洗设备(16腔)
LAM
Research EOS
2015
12"设备完整不缺件,无HDD;
国外
LAM Vector CVD化学气相沉积设备
LAM
Vector
2005
Vector RPC
国外
LAM Strip45 Chamber Etch刻蚀机
LAM
Strip45 Chamber
2010
Strip45 chamber only
国外
LAM Strip45 Chamber Etch刻蚀机-重
LAM
Strip45 Chamber
2010
Strip45 chamber only
国外
LAM Strip45 Chamber Etch刻蚀机-重
LAM
Strip45 Chamber
2010
Strip45 chamber only
国外
LAM Vector SOLA xT CVD化学气相沉积设备
LAM
Vector SOLA xT
2011
UV Cure
国外
LAM Vector CVD化学气相沉积设备-重
LAM
Vector
2004
-
国外
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