| 日期-ID |
图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
| 2026.5.2-3235 |
 |
LAM TCP9600SE等离子体刻蚀机 |
LAM |
TCP9600SE |
- |
设备完整不缺件,有9台现货; |
国外
|
| 2025.11.20-1101 |
 |
LAM Research EOS晶圆清洗设备(16腔) |
LAM |
Research EOS |
2015 |
12"设备完整不缺件,无HDD; |
国外
|
| 2025.11.20-1109 |
 |
LAM Research EOS晶圆清洗设备(8腔) |
LAM |
Research EOS |
2016 |
12"设备完整不缺件,无HDD; |
国外
|
| 2025.7.30-4577 |
|
LAM Concept Three Speed CVD气相沉积设备 |
LAM |
Concept Three Speed |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4435 |
|
LAM INOVA物理气相沉积设备 |
LAM |
INOVA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4283 |
|
LAM TORUS200蚀刻机 |
LAM |
TORUS200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4282 |
|
LAM TORUS200蚀刻机 |
LAM |
TORUS200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4238 |
|
LAM ALTUS(Chamber only)气相沉积设备 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4237 |
|
LAM ALTUS(Chamber only)气相沉积设备 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.1.15-4148 |
 |
LAM TCP9600SE等离子体刻蚀机 |
LAM |
TCP9600SE |
2005 |
6"设备完整不缺件,150mm; |
国外
|
| 2024.9.26-4141 |
 |
LAM RAINBOW 4520i干法刻蚀机 |
LAM |
4520i |
2000 |
设备完整不缺件,在美国仓库中; |
国外
|
| 2024.9.26-4140 |
|
LAM RESEARCH 9400等离子刻蚀机 |
LAM |
9400 |
2000 |
设备完整不缺件,在美国仓库中; |
国外
|
| 2024.6.19-4010 |
 |
LAM C2 Triple SPEED气相沉积 |
LAM |
C2 Triple SPEED |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2024.5.17-3907 |
 |
LAM 2300 Exelan Flex45 ICP蚀刻机 |
LAM |
2300 Exelan Flex45 |
- |
设备型号：2300 Exelan Flex 45
类型：ICP蚀刻机
晶圆尺寸：12“ |
国外
|
| 2024.3.12-3822 |
 |
LAM RAINBOW 4520XL干法刻蚀机 |
LAM泛林 |
4520XL |
2000 |
热机运行中,但风扇需要更换; |
国外
|
| 2022.11.2-2405 |
|
LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
RAINBOW 4420 |
- |
6" As-is |
国外
|
| 2022.6.17-2313 |
|
LAM RESEARCH 9400 SE等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
9400 SE |
1997 |
整机完整不缺件 |
国外
|
| 2022.4.27-1986 |
|
LAM Chambers for Altus原子层沉积设备 |
LAM泛林 |
Chambers for Altus |
- |
12" |
国外
|
| 2022.4.11-1977 |
|
LAM RESEARCH EOS湿式晶圆清洗设备 |
LAM泛林 |
RESEARCH EOS |
- |
- |
国外
|
| 2021.10.1-489 |
|
LAM Vector CVD化学气相沉积设备-重 |
LAM |
Vector |
2004 |
- |
国外
|
| 2021.10.1-504 |
|
LAM Vector SOLA xT CVD化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector SOLA xT |
2011 |
UV Cure |
国外
|
| 2021.10.1-513 |
|
LAM Strip45 Chamber Etch刻蚀机-重 |
LAM |
Strip45 Chamber |
2010 |
Strip45 chamber only, Revolution AX7690LAM-23 |
国外
|
| 2021.10.1-515 |
|
LAM Strip45 Chamber Etch刻蚀机-重 |
LAM |
Strip45 Chamber |
2010 |
Strip45 chamber only |
国外
|
| 2021.10.1-516 |
|
LAM Strip45 Chamber Etch刻蚀机 |
LAM |
Strip45 Chamber |
2010 |
Strip45 chamber only |
国外
|
| 2021.10.1-836 |
|
LAM Vector CVD化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector |
2005 |
Vector RPC |
国外
|
| 2021.10.1-1159 |
|
LAM Vector Express CVD化学气相沉积设备-重 |
LAM |
Vector Express |
2011 |
- |
国外
|
| 2021.10.1-1160 |
|
LAM Vector Express CVD化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector Express |
2011 |
CVD34x, underutilized at FAB8, used
for old |
国外
|
| 2021.10.1-1520 |
|
LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
RAINBOW 4420 |
- |
6" As-is |
国外
|
| 2021.10.1-1651 |
|
LAM RST201刻蚀机-重 |
LAM泛林 |
RST201 |
1997 |
WET |
国外
|
| 2021.10.1-1652 |
|
LAM RST201刻蚀机 |
LAM泛林 |
RST201 |
1996 |
WET |
国外
|
| 2021.10.1-1653 |
|
LAM TWO Speed PLASMA CVD薄膜沉积设备 |
LAM泛林 |
TWO Speed |
2000 |
CVD |
国外
|
| 2021.10.1-1387 |
|
LAM Synergy CMP薄膜沉积设备 |
LAM泛林 |
Synergy |
1997 |
- |
国外
|
| 2021.10.1-1655 |
|
LAM ONE-W PECVD等离子化学气相沉积 |
LAM泛林 |
ONE-W |
1995 |
PECVD; |
国外
|
| 2021.10.1-1654 |
|
LAM TWO PLASMA CVD等离子化学气相沉积 |
LAM泛林 |
TWO |
2000 |
CVD |
国外
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