| 日期-ID |
图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
| 2026.8.24-812 |
 |
光学测量设备 |
KLA |
Archer 300+AIM |
2013 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.8.17-679 |
|
光谱椭偏仪 |
KLA |
SPECTRAFX 100 |
2006 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.8.17-739 |
|
套刻测量系统 |
KLA |
Archer 300 |
2011 |
12"设备完整不缺件300mm; |
国外
|
| 2026.8.17-930 |
 |
表面分析仪 |
KLA |
CS10V |
2012 |
设备完整不缺件,单激光紫光405nm; |
国外
|
| 2026.8.17-785 |
|
轮廓仪 |
KLA |
HRP240 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.8.17-783 |
|
散射仪 |
KLA |
SpectraCD 200 |
2004 |
8"设备完整不缺件200mm; |
国外
|
| 2026.8.14-780 |
 |
缺陷检测设备 |
KLA |
2139 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.10-2725 |
|
热波检测仪 |
KLA |
TP500 |
2002 |
设备完整不缺件,已翻新; |
国外
|
| 2026.5.8-3167 |
|
芯片缺陷检测系统 |
KLA |
8720 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.3-70 |
|
激光跟踪仪 |
KLA |
AT500 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.3-372 |
|
检测设备 |
KLA |
CI-T53P |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.2-1455 |
|
晶圆检测设备 |
KLA |
Viper2435 |
2006 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.2-3511 |
|
缺陷检测设备 |
KLA |
2133 |
- |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
| 2026.5.2-1999 |
|
薄膜测量系统 |
KLA |
UV-1050 |
- |
设备完整不缺件,有4台现货; |
国外
|
| 2026.5.2-2932 |
|
芯片缺陷检测系统 |
KLA |
Tencor 8720 |
- |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
| 2026.5.2-3102 |
|
晶圆检测设备 |
KLA |
Viper2430 |
2006 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.2-3237 |
|
薄膜测量系统 |
KLA |
UV1250SE |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.2-3239 |
|
薄膜量测系统 |
KLA |
Aleris 8350 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.2-2549 |
|
缺陷检测设备 |
KLA |
2138 |
- |
设备完整不缺件,有4台现货; |
国外
|
| 2026.4.10-2354 |
|
晶圆检测系统 |
KLA |
SP1-TBI |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.4.7-3666 |
 |
膜厚仪 |
KLA |
OP2600 |
1997 |
设备完整不缺件,已翻新;
Fully refurbished system for 15 |
国外
|
| 2026.4.7-3641 |
 |
膜厚测量设备 |
KLA |
OP5240 |
2000 |
设备完整不缺件,已翻新;
Fully refurbished system for 15 |
国外
|
| 2026.3.29-3885 |
|
表面晶圆检测系统 |
KLA |
8620 |
- |
设备完整不缺件,目前在欧洲; |
国外
|
| 2026.1.8-4647 |
 |
缺陷检测设备 |
KLA |
EDR-7380 |
- |
12"设备完整不缺件,300mm在线热机; |
国外
|
| 2025.11.25-1495 |
|
薄膜量测 |
KLA |
FX200 |
2008 |
设备完整不缺件,在新加坡; |
国外
|
| 2025.7.30-4569 |
|
晶圆检测系统 |
KLA |
SP2 |
- |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
| 2025.7.30-4607 |
|
晶圆检测系统 |
KLA |
SP1-TBI |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.30-4606 |
|
测量设备 |
KLA |
SCD-XT |
- |
12"设备完整不缺件,有3台现货; |
国外
|
| 2025.7.30-4605 |
|
测量设备 |
KLA |
Archer A300 AIM |
2010 |
设备完整不缺件,日本仓库中; |
国外
|
| 2025.7.30-4608 |
|
测量设备 |
KLA |
STARLIGHT301(300SL) |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4346 |
|
缺陷检测设备 |
KLA |
2131 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4432 |
|
缺陷检测设备 |
KLA |
2139 |
- |
200mm设备完整不缺件,设备状态差; |
国外
|
| 2025.7.18-4433 |
|
缺陷检测系统 |
KLA |
AIT-3 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4499 |
|
薄膜测量系统 |
KLA |
UV-1250SE |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4512 |
|
探针台 |
KLA |
AWUS3110 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4522 |
|
颗粒检测系统 |
KLA |
SFS-4500 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4523 |
|
晶圆表面检测设备 |
KLA |
FLX2908 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4524 |
|
缺陷检测设备 |
KLA |
2131 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4559 |
|
量测设备 |
KLA |
ES31 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4386 |
|
套刻精度测量设备 |
KLA |
Archer 10 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4213 |
|
缺陷检测设备 |
KLA |
2401 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.17-361 |
|
表面分析仪 |
KLA |
CS20 |
2011 |
4-8"设备完整不缺件;
卡盘尺寸：3.7"
光学头组件：
波长：405 nm
最 |
国外
|
| 2025.7.17-2802 |
|
颗粒检测系统 |
KLA |
SFS-6220 |
1999 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.17-3883 |
 |
晶圆检测系统 |
KLA |
SFS-6200 |
1995 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.3.10-3890 |
 |
芯片缺陷检测系统 |
KLA |
8720 |
2017 |
设备完整不缺件,在线热机在亚洲; |
国外
|
| 2025.3.1-2148 |
|
晶圆检测设备 |
KLA |
2350 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.3.1-2149 |
|
晶圆检测系统 |
KLA |
8620 |
- |
12"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
| 2025.3.1-2151 |
|
缺陷检测设备 |
KLA |
FLX2908 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.2.14-4157 |
 |
晶圆检测系统 |
KLA |
SP2 |
2011 |
设备完整不缺件,在线热机,晶圆片300mm; |
国外
|
| 2025.1.11-4142 |
|
颗粒检测系统 |
KLA |
SFS-6220 |
1997 |
2016年翻新,激光器于2020年3月更换,最后一次PM于2023年8月在美国进行，2", |
国外
|
| 2024.5.29-3971 |
 |
晶圆检测系统 |
KLA |
SFS-6420 |
1995 |
设备完整不缺件,有1台现货; |
国外
|
| 2024.5.9-3892 |
|
表面分析仪 |
KLA |
CS10R |
- |
- |
国外
|
| 2024.5.9-3891 |
|
晶圆检测系统 |
KLA |
SFS-6420 |
2007 |
- |
国外
|
| 2024.4.2-3844 |
 |
晶圆检测系统 |
KLA |
SP1-TBI |
2007 |
TBI翻新掩模和晶圆检测,300/200mm x 3个端口,设备在美国; |
国外
|
| 2024.3.15-3825 |
|
薄膜测量系统 |
KLA |
UV-1280SE |
2001 |
用途：薄膜测量系统
型号：UV1280SE
出厂日期：2001
系统配置：
目前配 |
国外
|
| 2024.3.13-3823 |
|
晶圆检测系统 |
KLA |
SP1-TBI |
- |
已翻新; |
国外
|
| 2024.2.16-3801 |
|
侧扫声纳设备 |
KLA |
INS3000 |
1999 |
有2台,月底卖掉.. |
国外
|
| 2024.2.7-3800 |
 |
薄膜测量系统 |
KLA |
RS-75 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2024.2.1-3796 |
 |
晶圆检测设备 |
KLA |
SFS-6400 |
1994 |
竞标中.. |
国外
|
| 2024.1.17-3779 |
 |
缺陷测试仪 |
KLA |
SFS-7700 |
1997 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2024.1.9-3773 |
 |
颗粒检测仪 |
KLA |
SFS-4500 |
- |
4" |
国外
|
| 2024.1.8-3772 |
 |
晶圆缺陷检测 |
KLA |
SP3 |
2014 |
在线热机,2月份拆机; |
国外
|
| 2023.9.9-2859 |
|
工业相机 |
KLA |
IVC-2000 |
- |
2 |
国外
|
| 2023.9.9-2856 |
|
测量设备 |
KLA |
ICOS6100_7.6 |
- |
1 |
国外
|
| 2023.9.9-2858 |
|
缺陷检测设备 |
KLA |
IVC-4000 |
- |
1 |
国外
|
| 2023.9.9-2860 |
|
工业相机 |
KLA |
IVC-1600 |
- |
2 |
国外
|
| 2023.9.9-2861 |
|
扫脚机 |
KLA |
CI-T830 |
- |
1 |
国外
|
| 2023.9.9-2862 |
|
扫脚机 |
KLA |
CI-T130 |
- |
4 |
国外
|
| 2023.9.9-2857 |
|
测量设备 |
KLA |
Manual |
- |
1 |
国外
|
| 2023.9.8-2801 |
|
上料机构 |
KLA |
SP3 |
2012.3 |
上料机构; |
国外
|
| 2023.4.24-2774 |
|
晶圆缺陷检测 |
KLA |
Leica INS3300 |
2002.8 |
300mm As-Is, Where-Is;不含硬盘 |
国外
|
| 2023.4.24-2786 |
|
薄膜测量系统 |
KLA |
UV-1050 |
1996.5 |
200mm As-Is, Where-Is;含软件及硬盘 |
国外
|
| 2023.4.24-2773 |
|
晶圆缺陷检测 |
KLA |
Leica INS3300 |
2005.2 |
300mm,Where-Is,不含硬盘; |
国外
|
| 2023.4.19-2764 |
|
晶圆检测系统 |
KLA |
SP1-TBI |
- |
Equipment Make: KLA-Tencor
Equipment Model |
国外
|
| 2022.11.2-2361 |
|
金相显微镜 |
KLA |
INM300 |
- |
8 As-is |
国外
|
| 2022.11.2-2358 |
|
掩模版检测设备 |
KLA |
Ultrascan-9300 |
- |
8 As-is |
国外
|
| 2022.11.2-2359 |
|
缺陷检测设备 |
KLA |
PHX DF 5.0 |
- |
8 As-is |
国外
|
| 2022.11.2-2360 |
|
单向节流阀 |
KLA |
P-15 |
- |
8 As-is |
国外
|
| 2022.11.2-2357 |
|
光测量系统 |
KLA |
Ultrascan-9000 |
- |
8 As-is |
国外
|
| 2022.11.2-2356 |
|
晶圆缺陷检测 |
KLA |
AFS-3220 |
- |
8 As-is |
国外
|
| 2022.7.3-2320 |
|
晶圆缺陷检测设备 |
KLA |
Acrotec-6020 |
- |
Inspection system/PC/HDD. |
国外
|
| 2022.6.15-2311 |
|
薄膜测量系统 |
KLA |
UV-1280SE |
2000 |
Film Thickness Measurement |
国外
|
| 2022.6.15-2310 |
|
薄膜测厚仪 |
KLA |
F20 |
2021 |
Thickness Measurement |
国外
|
| 2022.6.15-2304 |
|
晶圆计量与检测设备 |
KLA |
ADE-9500 |
- |
Multifunctional measurement |
国外
|
| 2022.6.15-2291 |
|
薄膜电阻测量设备 |
KLA |
M-Gage 300 |
2001 |
Al Thickness measurement 8寸 |
国外
|
| 2022.6.10-2284 |
|
晶圆检测系统 |
KLA |
SP1-TBI |
- |
有2台; |
国外
|
| 2021.10.1-479 |
|
尺寸量测设备 |
KLA |
MPV-CD |
- |
- |
国外
|
| 2021.10.1-533 |
|
晶圆检测系统 |
KLA |
Aleris CX |
2007 |
[As-is] 2*loadport(TDK TAS300), Yaskwa(Robot |
国外
|
| 2021.10.1-482 |
|
检测设备 |
KLA |
MPV CD2 AMC |
- |
- |
国外
|
| 2021.10.1-478 |
|
颗粒测试仪设备 |
KLA |
SFS7700 |
- |
- |
国外
|
| 2021.10.1-477 |
|
表面轮廓仪 |
KLA |
Ergolux |
- |
- |
国外
|
| 2021.10.1-476 |
|
显微镜 |
KLA |
INM100+INS10 |
- |
- |
国外
|
| 2021.10.1-483 |
|
晶圆检测系统 |
KLA |
Surfscan 2.1 |
- |
- |
国外
|
| 2021.10.1-962 |
|
晶圆检测机台 |
KLA |
WI-2280 |
- |
- |
国外
|
| 2021.10.1-963 |
|
晶圆检测系统 |
KLA |
Puma-9000 |
2005 |
[As-is] Handler missing, Dell power edge 2600 |
国外
|
| 2021.10.1-966 |
|
电子束缺陷再检测 |
KLA |
EDR-5210 |
2010 |
2x Load port( Brooks, Brooks Robot&Aligner, E |
国外
|
| 2021.10.1-967 |
|
表面轮廓测量系统 |
KLA |
HRP-340 |
2004 |
2port(Asyst ISO port), stage locked by KLA St |
国外
|
| 2021.10.1-988 |
|
表面轮廓仪 |
KLA |
NANOMAPPER |
2006 |
[As-is] 2x Open Foup type, Kensington(Robot&C |
国外
|
| 2021.10.1-1194 |
|
缺陷检测设备 |
KLA |
DP2 |
2012 |
DP2 Data Prep Station |
国外
|
| 2021.10.1-1324 |
|
晶圆检查系统 |
KLA |
ES31 |
2004 |
E-beam Inspection / SEMs in Microscopes, Opti |
国外
|
页次：
1
/ 2页 每页：100 设备数：106
9[1][2]: 总共有2页
|
|
|
二手半导体设备买卖-二手半导体设备翻新-二手半导体设备交易平台semi1688.com
|
| 二手半导体设备买卖+翻新 龙先生18868521984(微) |
| 注：设备状态不定期更新，是否已售出请咨询。 |
|
