| 日期-ID |
图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
| 2026.5.2-3323 |
 |
AMAT Endura 5500 MOCVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1995-1997 |
设备完整不缺件,有7台现货,1995年3台,1996年2台,1997年2台; |
国外
|
| 2026.5.2-914 |
 |
AMAT Endura II气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II |
2010-2024 |
设备完整不缺件,有12台现货;
DMD*2ch+std AL*2hc+DSTiN*2ch |
国外
|
| 2026.5.2-2397 |
|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1995 |
设备完整不缺件,有10台现货; |
国外
|
| 2026.5.2-3178 |
|
AMAT Producer GT3 PECVD等离子化学气相沉积 |
AMAT |
Producer GT3 |
2023-2025 |
设备完整不缺件,有11台现货; |
国外
|
| 2026.1.16-1079 |
 |
AMAT Endura 5500 MOCVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1998 |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.1.16-1098 |
|
AMAT Endura 5500 MOCVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1998 |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.8.13-2391 |
|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
设备完整不缺件,1 CVD+1蚀刻; |
国外
|
| 2025.7.30-4567 |
|
AMAT Reflexion miniship LK机械抛光设备 |
AMAT |
Reflexion miniship LK |
- |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.30-4574 |
|
AMAT Centura WxZ刻蚀机 |
AMAT |
Centura WxZ |
2000 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.30-4575 |
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT Chamber |
- |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.30-4587 |
|
AMAT Centura AP-DPS刻蚀机 |
AMAT |
Centura AP-DPS |
2005 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.30-4588 |
|
AMAT Centura-DPS刻蚀机 |
AMAT |
Centura-DPS |
2007 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.30-4631 |
|
AMAT ENDURA HP气相沉积设备 |
AMAT |
ENDURA HP |
2004 |
8"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
| 2025.7.30-4614 |
|
AMAT VIISTA HC大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
设备完整不缺件； |
国外
|
| 2025.7.18-4305 |
|
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4270 |
|
AMAT CenturaHDP 5300Omega干式蚀刻机 |
AMAT |
CenturaHDP 5300Omega |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4195 |
|
AMAT CENTURE MXP刻蚀机 |
AMAT |
CENTURE MXP |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4228 |
|
AMAT RF3 涂胶显影机 |
AMAT |
RF3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4246 |
|
AMAT HTF-Centura EPI外延沉积设备 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4247 |
|
AMAT HTF-Centura EPI外延沉积设备 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4250 |
|
AMAT UVISION4缺陷检测工具 |
AMAT |
UVISION4 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4278 |
|
AMAT Raider ECD310电化学沉积设备 |
AMAT |
Raider ECD310 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4294 |
|
AMAT Centura Enabler蚀刻机 |
AMAT |
Centura Enabler |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4302 |
|
AMAT Centura Etch Enabler 300 2蚀刻机 |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4306 |
|
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4307 |
|
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4308 |
|
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4309 |
|
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4327 |
|
AMAT VIISTA HC大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4328 |
|
AMAT VIISTA HC大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4332 |
|
AMAT RTP XE CENTURA退火炉 |
AMAT |
RTP XE CENTURA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4384 |
|
AMAT Endura-CL (MOCVD)化学气相沉积设备 |
AMAT |
Endura-CL (MOCVD) |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4450 |
|
AMAT Vantage_AP扩散炉 |
AMAT |
Vantage_AP |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4301 |
|
AMAT Centura Etch Enabler 300 2蚀刻机 |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.4.3-4107 |
 |
AMAT P5000刻蚀机(PECVD) |
AMAT |
P5000 |
1996 |
6"设备完整不缺件;
2腔:SiO2+Si3N4,设备在美国已翻新,随时发回国内; |
国外
|
| 2025.4.3-4106 |
|
AMAT P5000刻蚀机(2腔) |
AMAT |
P5000 |
1999 |
6"设备完整不缺件;
Metal Etch/Trench Etch,设备在美国已翻新,随 |
国外
|
| 2025.2.12-4154 |
 |
AMAT Endura 5500 MOCVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1996 |
6"PVD System,
Can be converted to 8"
Chamb |
国外
|
| 2024.6.25-4020 |
 |
AMAT mirra MESA CMP化学机械抛光设备 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
2002 |
设备完整不缺件,已翻新在国内; |
国外
|
| 2024.6.11-3999 |
 |
AMAT Endura II PVD 9个腔室气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II PVD 9 |
2007 |
12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库;
AL 2室、TTN 1室、SIP 2室、AL |
国外
|
| 2024.6.11-3998 |
 |
AMAT Endura II PVD 8个腔室气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II PVD 8 |
2007 |
12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库;
SIP 1室、ALPS 3室、PcXT 2室 |
国外
|
| 2024.5.27-3914 |
|
AMAT Centura 5200刻蚀机 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,8英寸3腔表观系统; |
国外
|
| 2024.1.31-3795 |
 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1996 |
CVD 3chamber;nitride
CVD 4chamber;Teos hot b |
国外
|
| 2023.9.9-2825 |
|
YAMATO DKN402烤箱 |
YAMATO |
DKN402 |
- |
- |
国外
|
| 2023.3.22-2661 |
|
AMAT 8310刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1988/1991/ |
在购热机 6" 刻压点;18片/炉;最大1800W;机械手传片,有多台现货; |
国外
|
| 2023.3.22-2660 |
|
AMAT 8330刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1991.4 |
在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大1800W;机械手传片 |
国外
|
| 2023.2.8-2422 |
|
AMAT MATERIALS Centura HTF EPI外延沉积 |
AMAT应用材料 |
MATERIALS Centura HTF EPI Syst |
- |
美国已下线 |
国外
|
| 2023.2.8-2424 |
|
AMAT MATERIALS CENTURA ENABLER干法刻蚀设备 |
AMAT应用材料 |
MATERIALS CENTURA ENABLER |
2008 |
System
AC Rack
Monitor
Missing robot |
国外
|
| 2022.11.2-2373 |
|
AMAT Centura Ultima HDP等离子化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Centura Ultima HDP |
- |
8 As-is |
国外
|
| 2022.11.2-2346 |
|
AMAT P5000 PLIS刻蚀机 |
AMAT |
P5000 PLIS |
- |
翻新机Standard TEOS USG x3 Chamber |
国外
|
| 2022.11.2-2372 |
|
AMAT Centura Ultima等离子化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Centura Ultima |
- |
8 As-is |
国外
|
| 2022.11.2-2374 |
|
AMAT Amat Centura2 DSP等离子化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Amat Centura2 DSP |
- |
8 As-is |
国外
|
| 2022.11.2-2410 |
|
AMAT mirra MESA CMP化学机械抛光设备 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
- |
FULL REPUB |
国外
|
| 2022.11.2-2413 |
|
AMAT Producer-GT CVD化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Producer-GT CVD |
- |
As-is |
国外
|
| 2022.11.2-2371 |
|
AMAT Centura2 DPS+Poly Etch干法蚀刻机 |
AMAT应用材料 |
Centura2 DPS+Poly Etch |
- |
8 As-is |
国外
|
| 2022.7.16-2331 |
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2007 |
晶圆尺寸：300mm
生产者 GT： 配置
FI：5.4
服务器：IBM 306m |
国外
|
| 2022.7.15-2330 |
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2008 |
晶圆尺寸：300mm
生产者GT：配置FI
类型：SFEM(制造商：MATTSON) |
国外
|
| 2022.7.7-2327 |
|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
2CH / 3CH |
国外
|
| 2022.6.15-2303 |
|
AMAT Vera SEM 3D测量系统 |
AMAT应用材料 |
Vera SEM 3D |
- |
Metrology |
国外
|
| 2022.6.15-2302 |
|
AMAT Vera SEM 3D测量系统 |
AMAT应用材料 |
Vera SEM 3D |
- |
Metrology |
国外
|
| 2022.5.26-2270 |
|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1995 |
2 chambers CVD
3 chambers CVD |
国外
|
| 2022.5.24-2261 |
|
AMAT Centura 5200刻蚀机 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
CVD System,6"(3)Chambers. |
国外
|
| 2022.4.28-1987 |
|
AMAT MATERIALS CENTURA AP MINOS蚀刻机 |
AMAT应用材料 |
APPLIED MATERIALS CENTURA AP M |
- |
- |
国外
|
| 2022.4.13-1981 |
|
AMAT 8310氧化物蚀刻器 |
AMAT应用材料 |
8310 |
- |
8" |
国外
|
| 2021.10.1-848 |
|
AMAT Centura DPS2 Chamber等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Chamber |
- |
DPS2 Poly Chamber, Parts |
国外
|
| 2021.10.1-822 |
|
AMAT DPS2 532 Metal Chamber Etch刻蚀机 |
AMAT |
DPS2 532 Metal Chamber |
2004 |
DPS2 532 Metal Chamber only |
国外
|
| 2021.10.1-829 |
|
AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备-重 |
AMAT |
Producer SE |
2004 |
HT-SiN 3 Twin, OS_FES(CGA), FInRT(Longflex Ty |
国外
|
| 2021.10.1-831 |
|
AMAT Centura DPS Metal Etch刻蚀机 |
AMAT |
Centura DPS Metal |
1996 |
C1P1, WBLL, 1x Orient, 1x CD, 2x DPS R0, 2x A |
国外
|
| 2021.10.1-832 |
|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1996 |
CVD MarkII, 2x DLH_Delta, 2x Etch |
国外
|
| 2021.10.1-833 |
|
AMAT Centura eMax CT+ Etch蚀刻机-重 |
AMAT |
Centura eMax CT+ |
2007 |
8"缺件; |
国外
|
| 2021.10.1-837 |
|
AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备-重 |
AMAT |
Producer SE |
2009 |
2x BDII 1x UV Cure |
国外
|
| 2021.10.1-842 |
|
AMAT Centura eMax CT+ Etch蚀刻机 |
AMAT |
Centura eMax CT+ |
2007 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2021.10.1-843 |
|
AMAT Centura DPS2 Metal Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(Server, Kawasaki), 3x G2 Metal, AC Rack, |
国外
|
| 2021.10.1-847 |
|
AMAT Centura DPS2 Chamber等离子体蚀刻设备-重 |
AMAT |
Centura DPS2 Chamber |
- |
DPS2 Poly Chamber, Parts |
国外
|
| 2021.10.1-539 |
|
AMAT Centura Enabler刻蚀机-重 |
AMAT |
Centura Enabler |
2008 |
EFEM(Server, Yaskawa), TM(VHP), 3x Enabler, A |
国外
|
| 2021.10.1-850 |
|
AMAT Centura DPS2 AdvantEdge G等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 AdvantEdge G5 Mes |
2007 |
G5 Mesa. EFEM(Server, Kawasaki) 3x G5 Mesa, 1 |
国外
|
| 2021.10.1-902 |
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备-重 |
AMAT |
Producer GT |
2003 |
Polisher STD, Desica Cleaner |
国外
|
| 2021.10.1-912 |
|
AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备-重 |
AMAT |
Producer SE |
2007 |
3Twin ACL(HF and LF Gen), Server Type, LCF, P |
国外
|
| 2021.10.1-913 |
|
AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer SE |
2003 |
2 Twiin( HF_Apex3013, LF_PDX9002V, RPC_FI2062 |
国外
|
| 2021.10.1-969 |
|
AMAT Uvision 4量测设备 |
AMAT |
UVision 4 |
2009 |
[As-is]2ea*TDK load port, Kawasaki Robot, sta |
国外
|
| 2021.10.1-1464 |
|
AMAT P5000刻蚀机-重 |
AMAT |
P5000 |
1988 |
CVD Mark1, 3x DLH |
国外
|
| 2021.10.1-915 |
|
AMAT Centura DPS2 532 Metal等离子体蚀刻设备 |
AMAT应用材料 |
Centura DPS2 532 Metal |
2006 |
EFEM(Yaskawa), 2xDPS532, 1xAxiom, AC Rack, Po |
国外
|
| 2021.10.1-968 |
|
AMAT Uvision 4量测设备-重 |
AMAT |
UVision 4 |
- |
Parts Sale Available
If you need any demand |
国外
|
| 2021.10.1-846 |
|
AMAT Centura DPS2 Chamber Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Chamber |
- |
DPS2 Poly Chamber, Parts |
国外
|
| 2021.10.1-493 |
|
AMAT Centura eMax CT+ Etch蚀刻机-重 |
AMAT |
Centura eMax CT+ |
2006 |
8"缺件; |
国外
|
| 2021.10.1-885 |
|
AMAT Centura DPS2 Poly Etch等离子体蚀刻设备-重 |
AMAT应用材料 |
Centura DPS2 Poly |
2006 |
EFEM, TM, 3x DPS2 Poly, 1x Axiom, AC Rack |
国外
|
| 2021.10.1-886 |
|
AMAT Centura DPS2 Poly Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT应用材料 |
Centura DPS2 Poly |
2007 |
EFEM, TM, 3x DPS2 Poly; 1x Axiom, AC Rack, Si |
国外
|
| 2021.10.1-1357 |
|
AMAT Centura Enabler Etch刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura Enabler |
2007 |
- |
国外
|
| 2021.10.1-463 |
|
AMAT AMC7821外延炉-重 |
AMAT |
AMC7821 |
2001 |
OEM rebuild aug-2001 Epitaxy |
国外
|
| 2021.10.1-464 |
|
AMAT AMC7821外延炉 |
AMAT |
AMC7821 |
1983 |
epitaxy |
国外
|
| 2021.10.1-465 |
|
AMAT AMC7800RPX外延炉 |
AMAT |
AMC7800RPX |
1982 |
Epitaxy |
国外
|
| 2021.10.1-466 |
|
AMAT AMC7811外延炉 |
AMAT |
AMC-7811 |
1990 |
Epitaxy |
国外
|
| 2021.10.1-480 |
|
AMAT Orbot WF720晶圆检测系统 |
AMAT |
Orbot WF720 |
- |
- |
国外
|
| 2021.10.1-541 |
|
AMAT Centura Enabler刻蚀机 |
AMAT |
Centura Enabler |
2006 |
EFEM(NT, Yaskawa, missing Blade), TM(VH), 3x |
国外
|
| 2021.10.1-492 |
|
AMAT Centura eMax CT+ Etch蚀刻机-重 |
AMAT |
Centura eMax CT+ |
2004 |
8"缺件; |
国外
|
| 2021.10.1-548 |
|
AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备-重 |
AMAT |
Producer SE |
2006 |
2 Twiin( HF_Apex3013, LF_PDX9002V, RPC_FI2062 |
国外
|
| 2021.10.1-494 |
|
AMAT Centura Enabler Etch刻蚀机-重 |
AMAT |
Centura Enabler |
2010 |
EFEM(NT, Fixed Kawasaki), TM(VHP), 4x Enabler |
国外
|
| 2021.10.1-497 |
|
AMAT Endura CL PVD气相沉积设备-重 |
AMAT |
Endura CL |
2000 |
EFEM(2 Ports, Kensington), XP Robot, 2x Degas |
国外
|
| 2021.10.1-517 |
|
AMAT Centura Avatar Etch刻蚀机 |
AMAT |
Centura Avatar |
- |
AVATAR 4x Chamber only |
国外
|
| 2021.10.1-530 |
|
AMAT Centura Enabler E2刻蚀机 |
AMAT |
Centura Enabler E2 |
2010 |
EFEM(Server, Yaskawa), TM(VHP), 3x Enabler E2 |
国外
|
| 2021.10.1-534 |
|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
在线热机,有2台; |
国外
|
页次：
1
/ 2页 每页：100 设备数：148
9[1][2]: 总共有2页
|
|
