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| 图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
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AMAT ENDURA HP气相沉积设备 |
AMAT |
ENDURA HP |
2004 |
8"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
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|
AMAT VIISTA HC大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
设备完整不缺件； |
国外
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|
AMAT Centura-DPS刻蚀机 |
AMAT |
Centura-DPS |
2007 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Centura AP-DPS刻蚀机 |
AMAT |
Centura AP-DPS |
2005 |
12"设备完整不缺件; |
国外
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|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT Chamber |
- |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
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AMAT Centura WxZ刻蚀机 |
AMAT |
Centura WxZ |
2000 |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Reflexion miniship LK机械抛光设备 |
AMAT |
Reflexion miniship LK |
- |
12"设备完整不缺件; |
国外
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|
AMAT Vantage_AP扩散炉 |
AMAT |
Vantage_AP |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Endura-CL (MOCVD)化学气相沉积设备 |
AMAT |
Endura-CL (MOCVD) |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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|
AMAT RTP XE CENTURA退火炉 |
AMAT |
RTP XE CENTURA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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|
AMAT VIISTA HC大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
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AMAT VIISTA HC大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Centura Etch Enabler 300 2蚀刻机 |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Centura Etch Enabler 300 2蚀刻机 |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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|
AMAT Centura Enabler蚀刻机 |
AMAT |
Centura Enabler |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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|
AMAT Raider ECD310电化学沉积设备 |
AMAT |
Raider ECD310 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT CenturaHDP 5300Omega干式蚀刻机 |
AMAT |
CenturaHDP 5300Omega |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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|
AMAT UVISION4缺陷检测工具 |
AMAT |
UVISION4 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT HTF-Centura EPI外延沉积设备 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT HTF-Centura EPI外延沉积设备 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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|
AMAT RF3 涂胶显影机 |
AMAT |
RF3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT CENTURE MXP刻蚀机 |
AMAT |
CENTURE MXP |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
 |
AMAT Endura 5500 MOCVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1996 |
6"PVD System,
Can |
国外
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 |
AMAT P5000刻蚀机(PECVD) |
AMAT |
P5000 |
1996 |
6"设备完整不缺件;
2腔:SiO2+ |
国外
|
|
AMAT P5000刻蚀机(2腔) |
AMAT |
P5000 |
1999 |
6"设备完整不缺件;
Metal Et |
国外
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 |
AMAT mirra MESA CMP化学机械抛光设备 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
2002 |
设备完整不缺件,已翻新在国内; |
国外
|
 |
AMAT Endura II PVD 9个腔室气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II PVD 9 |
2007 |
12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库 |
国外
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 |
AMAT Endura II PVD 8个腔室气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II PVD 8 |
2007 |
12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库 |
国外
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|
AMAT Centura 5200刻蚀机 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,8英寸3腔表观系统; |
国外
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 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1996 |
CVD 3chamber;nitride |
国外
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|
YAMATO DKN402烤箱 |
YAMATO |
DKN402 |
- |
- |
国外
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|
AMAT 8310刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1988/1991/ |
在购热机 6" 刻压点;18片/炉;最大 |
国外
|
|
AMAT 8330刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1991.4 |
在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大 |
国外
|
|
AMAT 8330刻蚀机-重 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1990.7 |
在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大 |
国外
|
|
AMAT 8330刻蚀机-重 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1990.7 |
在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大 |
国外
|
|
AMAT 8330刻蚀机-重 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1990.5 |
在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大 |
国外
|
|
AMAT 8310刻蚀机-重 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1991.5 |
在购热机 6" 刻压点;18片/炉;最大 |
国外
|
|
AMAT 8310刻蚀机-重 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1992.6 |
在购热机 6" 刻压点;18片/炉;最大 |
国外
|
|
AMAT 8330刻蚀机-重 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1988.8 |
在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大 |
国外
|
|
AMAT MATERIALS CENTURA ENABLER干法刻蚀设备 |
AMAT应用材料 |
MATERIALS CENTURA ENABLER |
2008 |
System
AC Rack
国外
|
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|
AMAT MATERIALS Centura HTF EPI外延沉积 |
AMAT应用材料 |
MATERIALS Centura HTF EPI Syst |
- |
美国已下线 |
国外
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|
AMAT Producer-GT CVD化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Producer-GT CVD |
- |
As-is |
国外
|
|
AMAT mirra MESA CMP化学机械抛光设备 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
- |
FULL REPUB |
国外
|
|
AMAT P5000刻蚀机-重 |
AMAT |
P5000 |
- |
8 REFURB |
国外
|
|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
设备完整不缺件,1 CVD+1蚀刻; |
国外
|
|
AMAT Amat Centura2 DSP等离子化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Amat Centura2 DSP |
- |
8 As-is |
国外
|
|
AMAT Centura Ultima HDP等离子化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Centura Ultima HDP |
- |
8 As-is |
国外
|
|
AMAT Centura Ultima等离子化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Centura Ultima |
- |
8 As-is |
国外
|
|
AMAT Centura2 DPS+Poly Etch干法蚀刻机 |
AMAT应用材料 |
Centura2 DPS+Poly Etch |
- |
8 As-is |
国外
|
|
AMAT P5000 PLIS刻蚀机 |
AMAT |
P5000 PLIS |
- |
翻新机Standard TEOS USG |
国外
|
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2007 |
晶圆尺寸：300mm
生产者 GT： |
国外
|
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2008 |
晶圆尺寸：300mm
生产者GT：配置 |
国外
|
|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
2CH / 3CH |
国外
|
|
AMAT Vera SEM 3D测量系统 |
AMAT应用材料 |
Vera SEM 3D |
- |
Metrology |
国外
|
|
AMAT Vera SEM 3D测量系统 |
AMAT应用材料 |
Vera SEM 3D |
- |
Metrology |
国外
|
|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1995 |
2 chambers CVD
3 ch |
国外
|
|
AMAT Centura 5200刻蚀机 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
CVD System,6"(3)Cham |
国外
|
|
AMAT MATERIALS CENTURA AP MINOS蚀刻机 |
AMAT应用材料 |
APPLIED MATERIALS CENTURA AP M |
- |
- |
国外
|
|
AMAT 8310氧化物蚀刻器 |
AMAT应用材料 |
8310 |
- |
8" |
国外
|
|
AMAT AKT-3500蚀刻机 |
AMAT应用材料 |
AKT-3500 |
2018 |
CVD |
国外
|
|
AMAT Centura DPS刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura DPS |
1998 |
ETCH |
国外
|
|
AMAT Centura DXZ刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura DXZ |
1999 |
CVD |
国外
|
|
AMAT Centura MXP刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura MXP |
1997 |
ETCH |
国外
|
|
AMAT Centura XE刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura XE |
2003 |
RTP |
国外
|
|
AMAT Centura XE+刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura XE+ |
2003 |
RTP |
国外
|
|
AMAT Centura DPS+Poly Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS+Poly Etch |
- |
As-is |
国外
|
|
AMAT Producer-GT CVD化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Producer-GT CVD |
- |
As-is |
国外
|
|
AMAT mirra MESA CMP化学机械抛光设备 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
- |
FULL REPUB |
国外
|
|
AMAT P5000刻蚀机-重 |
AMAT |
P5000 |
- |
8" REFURB |
国外
|
|
AMAT P5000刻蚀机-重 |
AMAT |
P5000 |
- |
FULL REPUB |
国外
|
|
AMAT Centura DPS2 Metal等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(NT, Yaskawa), 3 |
国外
|
|
AMAT Centura Axiom Chamber薄膜沉积设备 |
AMAT |
Centura Axiom Chamber |
2006 |
Axiom Only (w/VODM) |
国外
|
|
AMAT P5000刻蚀机-重 |
AMAT |
P5000 |
1988 |
CVD Mark1, 3x DLH |
国外
|
|
AMAT Reflexion FA抛光设备 |
AMAT |
Reflexion FA |
2005 |
CMP |
国外
|
|
AMAT Vantage 5外延炉 |
AMAT |
Vantage 5 |
2012 |
RTP |
国外
|
|
AMAT Centura DPS2 Metal等离子体蚀刻设备-重 |
AMAT |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(Server, Yaskawa |
国外
|
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2011 |
3 Twin(HARP USG, RPC |
国外
|
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备-重 |
AMAT |
Producer GT |
2010 |
1 Twin CH(ACL) only |
国外
|
|
AMAT Centura Enabler Etch刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura Enabler |
2007 |
- |
国外
|
|
AMAT Centura Chamber刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura Chamber |
2010 |
2 x Minos, 1 x Carin |
国外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2002 |
MULTIPLE UNITS AVAIL |
国外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜-重 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2002 |
ULTIPLE UNITS AVAILB |
国外
|
|
AMAT Centura Enabler Chamber蚀刻机 |
AMAT |
Centura Enabler Chamber |
2004 |
Condition : Very Goo |
国外
|
|
AMAT Vantage Vulcan外延炉 |
AMAT |
Vantage Vulcan |
2013 |
2 Chamber RTP System |
国外
|
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备-重 |
AMAT |
Producer GT |
2014 |
Parts Machine: 1 x P |
国外
|
|
AMAT Olympia CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Olympia |
2015 |
2Ch ALD System, Sing |
国外
|
|
AMAT ACMS XT II Component晶圆清洗 |
AMAT |
ACMS XT II |
2005 |
- |
国外
|
|
AMAT ACMS0XT-ASG-E Component清洗设备 |
AMAT |
ACMS0XT-ASG-E |
2006 |
- |
国外
|
|
AMAT UVision 5 Metrology光学检测计量设备 |
AMAT |
UVision 5 |
2011 |
- |
国外
|
|
AMAT UVision 5 Metrology光学检测计量设备-重 |
AMAT |
UVision 5 |
2012 |
300mm G1 Load Port 2 |
国外
|
|
AMAT Centura Carina Chamber Etch刻蚀机 |
AMAT |
Centura Carina Chamber |
- |
Chamber Only.
Carin |
国外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜-重 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2004 |
Installed. Operatio |
国外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜-重 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2004 |
Installed. Operatio |
国外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜-重 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2004 |
Installed. Operatio |
国外
|
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备-重 |
AMAT |
Producer GT |
2015 |
3 Chamber: 1x SiCoNi |
国外
|
页次：
1
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9[1][2]: 总共有2页
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