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首页 CANON NIKON DISCO ASML AMAT TEL LAM KLA DNS HITACHI ULVAC
日期-ID 图 片 设备名称 制造商 型号 年份 详细配置 状 态
2026.10.10-4652 化学机械抛光机 化学机械抛光机 AMAT Mirra 3400 2000 8"设备完整不缺件200mm; 国外
2026.9.12-1647 中束流离子注入机 中束流离子注入机 AMAT Vera SEM 3D 2002 12"设备完整不缺件300mm; 国外
2026.9.2-1226 气相沉积设备 气相沉积设备 AMAT Endura Ⅱ 2020 设备完整不缺件,台湾在线热机; 国外
2026.5.2-2397 刻蚀机 刻蚀机 AMAT P5000 1995 设备完整不缺件,有10台现货; 国外
2026.5.2-914 气相沉积设备 气相沉积设备 AMAT Endura Ⅱ 2010-2024 设备完整不缺件,有12台现货;
DMD*2ch+std AL*2hc+DSTiN*2ch		 国外
2026.5.2-3178 等离子化学气相沉积 等离子化学气相沉积 AMAT Producer GT3 2023-2025 设备完整不缺件,有11台现货; 国外
2026.5.2-3323 气相沉积设备 气相沉积设备 AMAT Endura 5500 1995-1997 设备完整不缺件,有7台现货,1995年3台,1996年2台,1997年2台; 国外
2026.1.16-1079 气相沉积设备 气相沉积设备 AMAT Endura 5500 1998 200mm设备完整不缺件; 国外
2026.1.16-1098 气相沉积设备 气相沉积设备 AMAT Endura 5500 1998 200mm设备完整不缺件; 国外
2025.8.13-2391 刻蚀机 刻蚀机 AMAT P5000 - 设备完整不缺件,1 CVD+1蚀刻; 国外
2025.7.30-4574 刻蚀机 刻蚀机 AMAT Centura WxZ 2000 设备完整不缺件; 国外
2025.7.30-4575 化学气相沉积设备 化学气相沉积设备 AMAT Producer GT Chamber - 12"设备完整不缺件; 国外
2025.7.30-4587 刻蚀机 刻蚀机 AMAT Centura AP-DPS 2005 12"设备完整不缺件; 国外
2025.7.30-4567 机械抛光设备 机械抛光设备 AMAT Reflexion miniship LK - 12"设备完整不缺件; 国外
2025.7.30-4614 大束流离子注入机 大束流离子注入机 AMAT VIISTA HC - 设备完整不缺件； 国外
2025.7.30-4631 气相沉积设备 气相沉积设备 AMAT ENDURA HP 2004 8"设备完整不缺件,有2台现货; 国外
2025.7.30-4588 刻蚀机 刻蚀机 AMAT Centura-DPS 2007 12"设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4301 刻蚀机 刻蚀机 AMAT Centura Etch Enabler 300 2 - 300mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4250 缺陷检测工具 缺陷检测工具 AMAT UVISION4 - 300mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4195 刻蚀机 刻蚀机 AMAT CENTURE MXP - 200mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4228 涂胶显影机 涂胶显影机 AMAT RF3 - 300mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4246 外延沉积设备 外延沉积设备 AMAT HTF-Centura EPI - 200mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4247 外延沉积设备 外延沉积设备 AMAT HTF-Centura EPI - 200mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4307 刻蚀机 刻蚀机 AMAT G5-MESA - 300mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4450 扩散炉 扩散炉 AMAT Vantage_AP - 300mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4384 化学气相沉积设备 化学气相沉积设备 AMAT Endura-CL MOCVD - 300mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4332 退火炉 退火炉 AMAT RTP XE CENTURA - 200mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4328 大束流离子注入机 大束流离子注入机 AMAT VIISTA HC - 300mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4327 大束流离子注入机 大束流离子注入机 AMAT VIISTA HC - 300mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4278 电化学沉积设备 电化学沉积设备 AMAT Raider ECD310 - 300mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4308 刻蚀机 刻蚀机 AMAT G5-MESA - 300mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4270 干式刻蚀机 干式刻蚀机 AMAT CenturaHDP 5300Omega - 200mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4306 刻蚀机 刻蚀机 AMAT G5-MESA - 300mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4305 刻蚀机 刻蚀机 AMAT G5-MESA - 300mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4302 刻蚀机 刻蚀机 AMAT Centura Etch Enabler 300 2 - 300mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4294 刻蚀机 刻蚀机 AMAT Centura Enabler - 300mm设备完整不缺件; 国外
2025.7.18-4309 刻蚀机 刻蚀机 AMAT G5-MESA - 300mm设备完整不缺件; 国外
2025.4.3-4106 刻蚀机(2腔) 刻蚀机(2腔) AMAT P5000 1999 6"设备完整不缺件;
Metal Etch/Trench Etch,设备在美国已翻新,随		 国外
2025.4.3-4107 刻蚀机 刻蚀机 AMAT P5000 1996 6"设备完整不缺件;
2腔:SiO2+Si3N4,设备在美国已翻新,随时发回国内;		 国外
2025.2.12-4154 气相沉积设备 气相沉积设备 AMAT Endura 5500 1996 6"PVD System,
Can be converted to 8"
Chamb		 国外
2024.6.25-4020 化学机械抛光设备 化学机械抛光设备 AMAT mirra MESA CMP 2002 设备完整不缺件,已翻新在国内; 国外
2024.6.11-3999 个腔室气相沉积设备 个腔室气相沉积设备 AMAT Endura Ⅱ PVD 9 2007 12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库;
AL 2室、TTN 1室、SIP 2室、AL		 国外
2024.6.11-3998 个腔室气相沉积设备 个腔室气相沉积设备 AMAT Endura Ⅱ PVD 8 2007 12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库;
SIP 1室、ALPS 3室、PcXT 2室		 国外
2024.5.27-3914 刻蚀机 刻蚀机 AMAT Centura 5200 - 设备完整不缺件,8英寸3腔表观系统; 国外
2024.1.31-3795 刻蚀机 刻蚀机 AMAT P5000 1996 CVD 3chamber;nitride
CVD 4chamber;Teos hot b		 国外
2023.9.9-2825 烤箱 烤箱 YAMATO DKN402 - - 国外
2023.3.22-2660 刻蚀机 刻蚀机 AMAT应用材料 8330 1991.4 在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大1800W;机械手传片 国外
2023.3.22-2661 刻蚀机 刻蚀机 AMAT应用材料 8310 1988/1991/ 在购热机 6" 刻压点;18片/炉;最大1800W;机械手传片,有多台现货; 国外
2023.2.8-2422 外延沉积 外延沉积 AMAT应用材料 MATERIALS Centura HTF EPI Syst - 美国已下线 国外
2023.2.8-2424 干法刻蚀设备 干法刻蚀设备 AMAT应用材料 MATERIALS CENTURA ENABLER 2008 System
AC Rack
Monitor
Missing robot		 国外
2022.11.2-2371 干法刻蚀机 干法刻蚀机 AMAT应用材料 Centura2 DPS+Poly Etch - 8 As-is 国外
2022.11.2-2346 刻蚀机 刻蚀机 AMAT P5000 PLIS - 翻新机Standard TEOS USG x3 Chamber 国外
2022.11.2-2372 等离子化学气相沉积 等离子化学气相沉积 AMAT应用材料 Centura Ultima - 8 As-is 国外
2022.11.2-2373 等离子化学气相沉积 等离子化学气相沉积 AMAT应用材料 Centura Ultima HDP - 8 As-is 国外
2022.11.2-2374 等离子化学气相沉积 等离子化学气相沉积 AMAT应用材料 Amat Centura2 DSP - 8 As-is 国外
2022.11.2-2410 化学机械抛光设备 化学机械抛光设备 AMAT mirra MESA CMP - FULL REPUB 国外
2022.11.2-2413 化学气相沉积设备 化学气相沉积设备 AMAT应用材料 Producer-GT CVD - As-is 国外
2022.7.7-2327 刻蚀机 刻蚀机 AMAT P5000 - 2CH / 3CH 国外
2022.6.15-2303 中束流离子注入机 中束流离子注入机 AMAT Vera SEM 3D - Metrology 国外
2022.6.15-2302 中束流离子注入机 中束流离子注入机 AMAT Vera SEM 3D - Metrology 国外
2022.5.26-2270 刻蚀机 刻蚀机 AMAT P5000 1995 2 chambers CVD
3 chambers CVD		 国外
2022.5.24-2261 刻蚀机 刻蚀机 AMAT Centura 5200 - CVD System,6"(3)Chambers. 国外
2022.4.28-1987 刻蚀机 刻蚀机 AMAT应用材料 APPLIED MATERIALS CENTURA AP M - - 国外
2022.4.13-1981 氧化物刻蚀器 氧化物刻蚀器 AMAT应用材料 8310 - 8" 国外
2021.10.1-831 刻蚀机 刻蚀机 AMAT Centura DPS Metal 1996 C1P1, WBLL, 1x Orient, 1x CD, 2x DPS R0, 2x A 国外
2021.10.1-1008 气相沉积设备 气相沉积设备 AMAT Endura CL 2004 EFEM(2Ports, Kensington), , 2x AC Rack, 1x Ge 国外
2021.10.1-969 量测设备 量测设备 AMAT UVision 4 2009 [As-is]2ea*TDK load port, Kawasaki Robot, sta 国外
2021.10.1-915 等离子体刻蚀设备 等离子体刻蚀设备 AMAT应用材料 Centura DPS2 532 Metal 2006 EFEM(Yaskawa), 2xDPS532, 1xAxiom, AC Rack, Po 国外
2021.10.1-913 化学气相沉积设备 化学气相沉积设备 AMAT Producer SE 2003 2 Twiin( HF_Apex3013, LF_PDX9002V, RPC_FI2062 国外
2021.10.1-886 等离子体刻蚀设备 等离子体刻蚀设备 AMAT应用材料 Centura DPS2 Poly 2007 EFEM, TM, 3x DPS2 Poly; 1x Axiom, AC Rack, Si 国外
2021.10.1-850 等离子体刻蚀设备 等离子体刻蚀设备 AMAT Centura DPS2 AdvantEdge G5 Mes 2007 G5 Mesa. EFEM(Server, Kawasaki) 3x G5 Mesa, 1 国外
2021.10.1-848 等离子体刻蚀设备 等离子体刻蚀设备 AMAT Centura DPS2 Chamber - DPS2 Poly Chamber, Parts 国外
2021.10.1-846 等离子体刻蚀设备 等离子体刻蚀设备 AMAT Centura DPS2 Chamber - DPS2 Poly Chamber, Parts 国外
2021.10.1-843 等离子体刻蚀设备 等离子体刻蚀设备 AMAT Centura DPS2 Metal 2005 EFEM(Server, Kawasaki), 3x G2 Metal, AC Rack, 国外
2021.10.1-832 刻蚀机 刻蚀机 AMAT P5000 1996 CVD MarkII, 2x DLH_Delta, 2x Etch 国外
2021.10.1-822 刻蚀机 刻蚀机 AMAT DPS2 532 Metal Chamber 2004 DPS2 532 Metal Chamber only 国外
2021.10.1-541 刻蚀机 刻蚀机 AMAT Centura Enabler 2006 EFEM(NT, Yaskawa, missing Blade), TM(VH), 3x 国外
2021.10.1-537 刻蚀机 刻蚀机 AMAT Centura DPS2 Poly 2007 EFEM(Kawasaki, Server), TM, 3x G5 Poly, 1x Ax 国外
2021.10.1-535 化学气相沉积设备 化学气相沉积设备 AMAT Centura AP ISPRINT 2008 4 xALD W CH, OS_SErver Type, AP Frame 国外
2021.10.1-534 刻蚀机 刻蚀机 AMAT P5000 - 在线热机,有2台; 国外
2021.10.1-530 刻蚀机 刻蚀机 AMAT Centura Enabler E2 2010 EFEM(Server, Yaskawa), TM(VHP), 3x Enabler E2 国外
2021.10.1-517 刻蚀机 刻蚀机 AMAT Centura Avatar - AVATAR 4x Chamber only 国外
2021.10.1-480 晶圆检测系统 晶圆检测系统 AMAT Orbot WF720 - - 国外
2021.10.1-466 外延炉 外延炉 AMAT AMC-7811 1990 Epitaxy 国外
2021.10.1-465 外延炉 外延炉 AMAT AMC7800RPX 1982 Epitaxy 国外
2021.10.1-842 刻蚀机 刻蚀机 AMAT Centura eMax CT+ 2007 12"设备完整不缺件; 国外
2021.10.1-1357 刻蚀机 刻蚀机 AMAT应用材料 Centura Enabler 2007 - 国外
2021.10.1-1701 刻蚀机 刻蚀机 AMAT应用材料 Centura MXP 1997 ETCH 国外
2021.10.1-1700 刻蚀机 刻蚀机 AMAT应用材料 Centura XE 2003 RTP 国外
2021.10.1-1699 刻蚀机 刻蚀机 AMAT应用材料 Centura XE+ 2003 RTP 国外
2021.10.1-1703 刻蚀机 刻蚀机 AMAT应用材料 Centura DPS 1998 ETCH 国外
2021.10.1-1506 等离子体刻蚀设备 等离子体刻蚀设备 AMAT Centura DPS+Poly Etch - As-is 国外
2021.10.1-1505 化学气相沉积 化学气相沉积 AMAT应用材料 Producer-GT CVD - As-is 国外
2021.10.1-1504 化学机械抛光设备 化学机械抛光设备 AMAT mirra MESA CMP - FULL REPUB 国外
2021.10.1-1473 等离子体刻蚀设备 等离子体刻蚀设备 AMAT Centura DPS2 Metal 2005 EFEM(NT, Yaskawa), 3x G2 Metal, 1x Axiom(VODM 国外
2021.10.1-1472 薄膜沉积设备 薄膜沉积设备 AMAT Centura Axiom Chamber 2006 Axiom Only (w/VODM) 国外
2021.10.1-1461 抛光设备 抛光设备 AMAT Reflexion FA 2005 CMP 国外
2021.10.1-464 外延炉 外延炉 AMAT AMC7821 1983 epitaxy 国外
2021.10.1-1425 化学气相沉积设备 化学气相沉积设备 AMAT Producer GT 2011 3 Twin(HARP USG, RPC_FI80131), FI(TDK_LP x4ea 国外
2021.10.1-1173 气相沉积 气相沉积 AMAT应用材料 Octane G2 assy 1999 - 国外

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注：设备状态不定期更新，是否已售出请咨询。