| 日期-ID |
图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
| 2026.5.20-953 |
 |
TEL Alpha-303i-K扩散炉 |
TEL |
Alpha-303i-K |
2003 |
12"设备完整不缺件TEOS; |
国外
|
| 2026.5.20-957 |
|
TEL Alpha-805D扩散炉 |
TEL |
Alpha-805D |
1993 |
8"设备完整不缺件PIQ; |
国外
|
| 2026.5.20-958 |
|
TEL Alpha-303i-K扩散炉 |
TEL |
Alpha-303i-K |
2003 |
12"设备完整不缺件PYRO; |
国外
|
| 2026.5.18-1204 |
|
TEL INDY PLUS氧化炉 |
TEL |
INDY PLUS |
2011-2016 |
设备完整不缺件,有8台现货; |
国外
|
| 2026.5.15-2805 |
|
TEL ACT8涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.7-2681 |
|
TEL PRECIO全自动晶圆探针台 |
TEL |
PRECIO |
2011 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.3-2281 |
|
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2026.5.2-3626 |
|
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
2001-2005 |
设备完整不缺件,有12台现货; |
国外
|
| 2026.5.2-543 |
|
TEL NS300晶圆清洗设备 |
TEL |
NS300 |
2002-2007 |
设备完整不缺件,有10台现货; |
国外
|
| 2026.5.2-1038 |
|
TEL P-12XL探针台 |
TEL |
P-12XL |
2002-2006 |
设备完整不缺件,有77台现货; |
国外
|
| 2026.3.19-3627 |
|
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
- |
设备完整不缺件,有12台现货; |
国外
|
| 2026.3.19-1036 |
|
TEL P-12XLm探针台 |
TEL |
P-12XLm |
- |
设备完整不缺件,有18台现货; |
国外
|
| 2025.7.30-4629 |
|
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
1994/1997 |
8"设备完整不缺件,有3台现货(年份1994,1997年); |
国外
|
| 2025.7.30-4628 |
|
TEL P-12XLn+探针台 |
TEL |
P-12XLn+ |
2007 |
设备完整不缺件,有2台现货； |
国外
|
| 2025.7.30-4571 |
|
TEL ACT8涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
- |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.30-2680 |
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1994/1995 |
8"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
| 2025.7.30-4620 |
|
TEL ALPHA-303i LPCVD |
TEL |
ALPHA-303i |
2006 |
12"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
| 2025.7.30-4580 |
|
TEL UNITY EP Parts蚀刻机 |
TEL |
UNITY EP Parts |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.30-4579 |
|
TEL UNITY EP蚀刻机 |
TEL |
UNITY EP |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.30-4578 |
|
TEL Trias CVD化学气相沉积设备 |
TEL |
TRIAS |
2004 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.30-4573 |
|
TEL MARK VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK VZ |
- |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.30-4572 |
|
TEL LITHIUS涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS |
2006 |
12"设备完整不缺件,有34台现货(年份2005年8台,2006年12台,2007年6台, |
国外
|
| 2025.7.30-4586 |
|
TEL INDY I-RAD扩散炉 |
TEL |
INDY I-RAD |
2008 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4266 |
|
TEL Unity2e-855DPA干式蚀刻机 |
TEL |
Unity2e-855DPA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4268 |
|
TEL VIGUS干式蚀刻机 |
TEL |
VIGUS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4269 |
|
TEL Tactras NCCP SCCM干式蚀刻机 |
TEL |
Tactras NCCP SCCM |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4271 |
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4272 |
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4285 |
|
TEL Unity2e-855SS 干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855SS |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4265 |
|
TEL Unity2e-85TPATC干式蚀刻机 |
TEL |
Unity2e-85TPATC |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4287 |
|
TEL Unity2e-855II干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855II |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4220 |
|
TEL CERTAS刻蚀机 |
TEL |
CERTAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4286 |
|
TEL Unity2e-855II干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855II |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4264 |
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4263 |
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4261 |
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4239 |
|
TEL Trias CVD化学气相沉积设备 |
TEL |
TRIAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4231 |
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4212 |
|
TEL FORMULA去胶机 |
TEL |
FORMULA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4192 |
|
TEL TE8500ATC蚀刻机 |
TEL |
TE8500ATC |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4288 |
|
TEL Unity2e-855II干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855II |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4262 |
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4232 |
|
TEL ACT12涂胶显影机 |
TEL |
ACT12 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4477 |
|
TEL PR200Z旋涂仪 |
TEL |
PR200Z |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4413 |
|
TEL P-12XL探针台 |
TEL |
P-12XL |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4414 |
|
TEL P-12XL探针台 |
TEL |
P-12XL |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4418 |
|
TEL P-12XLn探针台 |
TEL |
P-12XLn |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4289 |
|
TEL TE5000ATC涂胶显影机 |
TEL |
TE5000ATC |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4420 |
|
TEL A-PM-90A探针台 |
TEL |
A-PM-90A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4260 |
|
TEL UNITY2e-855DD干式蚀刻机 |
TEL |
UNITY2e-855DD |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4411 |
|
TEL 20S PROBER探针台 |
TEL |
20S PROBER |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4449 |
|
TEL TE-8500M蚀刻机 |
TEL |
TE-8500M |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4419 |
|
TEL P-12Xln+探针台 |
TEL |
P-12Xln+ |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4500 |
|
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4501 |
|
TEL ACT8涂胶显影机(2C2D) |
TEL |
ACT8 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4538 |
|
TEL UW300Z湿法处理设备 |
TEL |
UW300Z |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4539 |
|
TEL UW8000湿法处理设备 |
TEL |
UW8000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4540 |
|
TEL UW8000湿法处理设备 |
TEL |
UW8000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4548 |
|
TEL Telius SP-Vesta干式蚀刻机 |
TEL |
Telius SP-Vesta |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4549 |
|
TEL UNITY2e-855DD干式蚀刻机 |
TEL |
UNITY2e-855DD |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4423 |
|
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
200mm设备完整不缺件,有多台现货; |
国外
|
| 2025.7.18-4317 |
|
TEL INDY-PE_6L2B立式扩散炉 |
TEL |
INDY-PE_6L2B |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4295 |
|
TEL TeliusSP-3055SS蚀刻机 |
TEL |
TeliusSP-3055SS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4296 |
|
TEL UNITY IIe-855II IEM蚀刻机 |
TEL |
UNITY IIe-855II IEM? |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4297 |
|
TEL UNITY IIe-855PP DP蚀刻机 |
TEL |
UNITY IIe-855PP DP? |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4298 |
|
TEL TEL TE-8500PEEATC蚀刻机 |
TEL |
TE-8500PEEATC |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4300 |
|
TEL Telius DRM T-3055DD蚀刻机 |
TEL |
Telius DRM T-3055DD |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4303 |
|
TEL UNITY PE蚀刻机 |
TEL |
UNITY PE |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4304 |
|
TEL TE-8500蚀刻机 |
TEL |
TE-8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4310 |
|
TEL VESTA-NV3蚀刻机 |
TEL |
VESTA-NV3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4311 |
|
TEL VESTA-NV3蚀刻机 |
TEL |
VESTA-NV3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4409 |
|
TEL 80S探针台 |
TEL |
80S |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4318 |
|
TEL ALPHA-85Z立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-85Z |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4319 |
|
TEL ALPHA-801D立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-801D |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4320 |
|
TEL ALPHA-85Z立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-85Z |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4321 |
|
TEL FORMULA立式扩散炉 |
TEL |
FORMULA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4322 |
|
TEL FORMULA立式扩散炉 |
TEL |
FORMULA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4359 |
|
TEL Trias Ti/TiN化学气相沉积设备 |
TEL |
Trias Ti/TiN |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.4.7-1617 |
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.3.1-1611 |
|
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
- |
8"设备完整不缺件,有5台现货; |
国外
|
| 2025.3.1-1851 |
|
TEL LITHIUS涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS |
- |
12"设备完整不缺件2C5D; |
国外
|
| 2025.3.1-1839 |
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.2.28-4169 |
 |
TEL ALPHA-808SC LPCVD化学气相沉积 |
TEL |
ALPHA-808SC |
1994 |
在线热机,设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.2.27-1490 |
 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1996 |
- |
国外
|
| 2025.2.14-4158 |
 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.2.12-4155 |
 |
TEL ALPHA 8S高温扩散炉 |
TEL |
ALPHA-8S |
1998 |
设备完整不缺件,有4台现货在美国; |
国外
|
| 2024.8.27-4133 |
 |
TEL TE8500刻蚀机 |
TEL |
TE-8500 |
- |
设备完整不缺件,在韩国; |
国外
|
| 2024.8.21-4114 |
 |
TEL ACT8涂胶显影机(2C2D) |
TEL |
ACT8 |
2001 |
设备完整不缺件,有3台现货在韩国; |
国外
|
| 2024.7.26-4109 |
 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1996.08 |
设备完整不缺件,只有一个工艺腔,在日本; |
国外
|
| 2024.7.8-4031 |
 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1998 |
设备完整不缺件,已拆机在日本; |
国外
|
| 2024.7.4-4028 |
 |
TEL UnityIIe-855II刻蚀机 |
TEL |
UnityIIe-855II |
1996 |
设备完整不缺件,在日本仓库; |
国外
|
| 2024.7.3-4027 |
 |
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
2000 |
设备完整不缺件,在线热机在日本(1C 3D WEE); |
国外
|
| 2024.6.6-3995 |
 |
TEL ACT8涂胶显影机(2C2D) |
TEL |
ACT8 |
2003 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2024.5.15-3900 |
 |
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
- |
国外
|
| 2024.5.15-3899 |
 |
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
- |
- |
国外
|
| 2023.4.24-2793 |
|
TEL Trias (SFD TIN)化学气相沉积设备 |
TEL |
Trias (SFD TIN) |
2007 |
300mm As-Is, Where-Is |
国外
|
| 2023.4.24-2779 |
|
TEL UW300Z晶圆清洗设备 |
TEL |
UW300Z |
2002.3 |
300mm As-Is, Where-Is;不含硬盘 |
国外
|
| 2023.4.24-2780 |
|
TEL Trias CVD化学气相沉积设备 |
TEL |
Trias |
2003.11 |
300mm As-Is, Where-Is;不含硬盘 |
国外
|
| 2023.4.24-2781 |
|
TEL ACT-12涂胶显影机 |
TEL |
ACT-12 |
2004.4 |
300mm As-Is, Where-Is;不含硬盘 |
国外
|
| 2023.3.22-2616 |
|
TEL TE5000干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000 |
- |
6"SIO2刻蚀机; |
国外
|
页次：
1
/ 3页 每页：100 设备数：204
9[1][2][3]: 总共有3页
|
|
|
二手半导体设备买卖-二手半导体设备翻新-二手半导体设备交易平台semi1688.com
|
| 二手半导体设备买卖+翻新 龙先生18868521984(微) |
| 注：设备状态不定期更新，是否已售出请咨询。 |
|
