| 日期-ID |
图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
报价(￥) |
详细配置 |
状 态 |
| 2026.8.27-892 |
 |
LAM 4420等离子刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004107 |
国内
|
| 2026.8.27-2000 |
|
LAM TCP 9400SE刻蚀机 |
LAM |
TCP 9400SE |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在山东;20000864 |
国内
|
| 2026.8.27-2005 |
|
KEM Lamda200干法去胶机 |
KEM |
Lamda200 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在山东;20000673 |
国内
|
| 2026.8.27-2154 |
|
LAM TCP 9400SE刻蚀机 |
LAM |
TCP 9400SE |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在山东;20001075 |
国内
|
| 2026.8.27-2161 |
|
LAM 4420多晶硅干法刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在浙江;20002073 |
国内
|
| 2026.8.27-2164 |
|
LAM TCP9400多晶硅干法刻蚀机 |
LAM |
TCP9400 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在浙江;20000986 |
国内
|
| 2026.8.27-2216 |
|
LAM 590氧化层干法刻蚀机 |
LAM |
590 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在江苏;20000489 |
国内
|
| 2026.8.27-2217 |
|
LAM 590氧化层干法刻蚀机 |
LAM |
590 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在江苏;20000490 |
国内
|
| 2026.8.27-2218 |
|
LAM 4520多晶硅刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在江苏;20000371 |
国内
|
| 2026.8.27-2219 |
|
LAM 4420二氧化硅刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在江苏;20000372 |
国内
|
| 2026.8.27-900 |
|
LAM 4420干法刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在湖南;20001073 |
国内
|
| 2026.8.27-893 |
|
LAM 4420干法刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004119 |
国内
|
| 2026.8.27-891 |
|
LAM 4420等离子刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004106 |
国内
|
| 2026.8.27-890 |
|
LAM DSM9800亚气压化学气相沉积仪 |
LAM |
DSM9800 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004076 |
国内
|
| 2026.8.27-777 |
|
LAM 4428等离子刻蚀机 |
LAM |
4428 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004121 |
国内
|
| 2026.8.27-897 |
|
LAM 4420干法刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004120 |
国内
|
| 2026.8.25-701 |
|
LAM 4520刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;30100067 |
国内
|
| 2026.8.25-1727 |
|
LAM SEZ304喷涂应力释放刻蚀 |
LAM |
SEZ304 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300145 |
国内
|
| 2026.8.25-1728 |
|
LAM SEZ304喷涂应力释放刻蚀 |
LAM |
SEZ304 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300196 |
国内
|
| 2026.8.25-1773 |
|
LAM TCP 9400SE DFM刻蚀机 |
LAM |
TCP 9400SE DFM |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300193 |
国内
|
| 2026.8.25-1774 |
|
LAM TCP 9400SE刻蚀机 |
LAM |
TCP 9400SE |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300159 |
国内
|
| 2026.8.25-1862 |
|
LAM 4420刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;30100092 |
国内
|
| 2026.8.25-1772 |
|
LAM TCP 9600SE刻蚀机 |
LAM |
TCP 9600SE |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300188 |
国内
|
| 2026.8.25-695 |
|
LAM 4520刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300011 |
国内
|
| 2026.8.25-696 |
|
LAM 4520刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300014 |
国内
|
| 2026.8.25-697 |
|
LAM 4520刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300024 |
国内
|
| 2026.8.25-698 |
|
LAM 4520刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300153 |
国内
|
| 2026.8.25-700 |
|
LAM 4520刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300160 |
国内
|
| 2026.8.25-702 |
|
LAM 4420刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300163 |
国内
|
| 2026.8.25-1771 |
|
LAM TCP 9600SE刻蚀机 |
LAM |
TCP 9600SE |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300030 |
国内
|
| 2026.8.25-704 |
|
LAM 4420刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300181 |
国内
|
| 2026.8.25-711 |
|
LAM 4420刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300182 |
国内
|
| 2026.8.25-703 |
|
LAM 4420刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300164 |
国内
|
| 2026.8.25-699 |
|
LAM 4520刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;10300154 |
国内
|
| 2026.8.25-714 |
|
LAM 4420刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件;30100068 |
国内
|
| 2026.8.21-802 |
|
AXCELIS NV 10-160大束流离子注入机 |
AXCELIS |
NV 10-160 |
- |
手机或微信咨询 |
Maximum implant energy - 160 keV
Beam current range - 0.5 - 8mA
Wafer sizes - 3", 4", 5" 6" capable
End station - Man |
国外
|
| 2026.8.18-3153 |
|
LAM RST201旋转刻蚀机 |
LAM |
RST201 |
1996 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国内
|
| 2026.8.6-735 |
|
LAM 4520干法刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
手机或微信咨询 |
150mm设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
| 2026.8.6-734 |
 |
LAM 2300e6等离子干法刻蚀机 |
LAM |
2300e6 |
2019 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,有2台现货在原厂无尘车间,6个FLFX腔体,EFAM; |
国内
|
| 2026.8.4-715 |
 |
LAM 2300e6等离子干法刻蚀机 |
LAM |
2300e6 |
2019 |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件,有2台现货在台湾,2023年下线; |
国内
|
| 2026.5.2-914 |
|
AMAT Endura Ⅱ气相沉积设备 |
AMAT |
Endura Ⅱ |
2010-2024 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,有12台现货;
DMD*2ch+std AL*2hc+DSTiN*2ch
DMD*2ch+PCXT*1ch+Imp Ti*2ch+MOCVD(TXZ)*1ch
DMD*2ch+PCXT*2ch+Imp Ti*2ch+M |
国外
|
| 2026.5.2-3235 |
|
LAM TCP9600SE等离子体刻蚀机 |
LAM |
TCP9600SE |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,有9台现货; |
国外
|
| 2025.12.1-1629 |
|
LAM Research EOS晶圆清洗机(8腔) |
LAM |
Research EOS |
- |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件,缺控制板; |
国内
|
| 2025.12.1-1677 |
|
LAM Research EOS晶圆清洗机(16腔) |
LAM |
Research EOS |
- |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
| 2025.12.1-1693 |
|
LAM 2300e5 KIYO MCX刻蚀去胶一体机 |
LAM |
2300e5 KIYO MCX |
- |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件,金属刻蚀/去胶一体机; |
国内
|
| 2025.12.1-1637 |
|
LAM 2300 Exelan Flex45刻蚀机 |
LAM |
2300 Exelan Flex45 |
- |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件; |
已售
|
| 2025.12.1-1628 |
|
LAM Vector Express CVD化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector Express CVD |
- |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
| 2025.12.1-1689 |
|
LAM 2300e4 KIYO MCX刻蚀去胶一体机 |
LAM |
2300e4 KIYO MCX |
- |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件,金属刻蚀/去胶一体机; |
已售
|
| 2025.11.20-1101 |
 |
LAM Research EOS晶圆清洗机(16腔) |
LAM |
Research EOS |
2015 |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件,无HDD; |
国外
|
| 2025.11.20-1109 |
 |
LAM Research EOS晶圆清洗机(8腔) |
LAM |
Research EOS |
2016 |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件,无HDD; |
国外
|
| 2025.11.17-1957 |
 |
EVG EVG420晶圆键合机 |
EVG |
EVG420 |
- |
手机或微信咨询 |
EVG 420 Mask Aligner (Upgraded from a 420)
Model: EVG420 (Upgraded from a 420)
- Manual Mask Aligner
- Topside Alignm |
国外
|
| 2025.10.14-1557 |
|
LAM 490干法刻蚀机 |
LAM |
490 |
1993/1995 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国内
|
| 2025.10.14-1558 |
 |
LAM 4520干法刻蚀机 |
LAM |
4520 |
1996/1997/ |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,有3台现货; |
国内
|
| 2025.10.14-1559 |
|
LAM 4400B干法刻蚀机 |
LAM |
4400B |
2000 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,有1台现货; |
国内
|
| 2025.8.17-1059 |
|
LAM 4520XL干法刻蚀机 |
LAM |
4520XL |
2019 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,二氧化硅RIE; |
国内
|
| 2025.7.30-4577 |
|
LAM Concept Three Speed气相沉积设备 |
LAM |
Concept Three Speed |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4435 |
|
LAM INOVA物理气相沉积设备 |
LAM |
INOVA |
- |
手机或微信咨询 |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4283 |
|
LAM TORUS200刻蚀机 |
LAM |
TORUS200 |
- |
手机或微信咨询 |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4282 |
|
LAM TORUS200刻蚀机 |
LAM |
TORUS200 |
- |
手机或微信咨询 |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4238 |
|
LAM ALTUS(Chamber only)气相沉积设备 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
手机或微信咨询 |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.7.18-4237 |
|
LAM ALTUS(Chamber only)气相沉积设备 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
手机或微信咨询 |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 2025.6.20-3040 |
 |
LAM 2300 Exelan Flex刻蚀机 |
LAM |
2300 Exelan Flex |
2006 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,有2套现货; |
已售
|
| 2025.6.13-3889 |
 |
LAM 4520XL刻蚀机 |
LAM |
4520XL |
2014 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件; |
国内
|
| 2025.4.15-2698 |
 |
LAM泛林 SEZ223刻蚀机 |
LAM泛林 |
SEZ223 |
2006 |
手机或微信咨询 |
8"设备完整不缺件,含安装调试; |
国内
|
| 2025.4.15-1717 |
 |
LAM泛林 SEZ203刻蚀机 |
LAM泛林 |
SEZ203 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,含安装调试,有3台现货; |
国内
|
| 2025.4.15-2799 |
|
LAM泛林 SEZ203刻蚀机 |
LAM泛林 |
SEZ203 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件; |
国内
|
| 2025.1.15-4148 |
 |
LAM TCP9600SE等离子体刻蚀机 |
LAM |
TCP9600SE |
2005 |
手机或微信咨询 |
6"设备完整不缺件,150mm; |
国外
|
| 2024.9.26-4141 |
 |
LAM 4520i干法刻蚀机 |
LAM |
4520i |
2000 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,在美国仓库中; |
国外
|
| 2024.9.26-4140 |
|
LAM 9400等离子刻蚀机 |
LAM |
9400 |
2000 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,在美国仓库中; |
国外
|
| 2024.7.26-4057 |
 |
LAM泛林 FM101-6-B单片旋转腐蚀机 |
LAM泛林 |
FM101-6-B |
1998 |
手机或微信咨询 |
4-6" |
国内
|
| 2024.7.26-4074 |
|
LAM TE490干法刻蚀机 |
LAM |
TE490 |
- |
手机或微信咨询 |
6" |
国内
|
| 2024.7.26-4073 |
|
LAM TE490干法刻蚀机 |
LAM |
TE490 |
- |
手机或微信咨询 |
6" |
国内
|
| 2024.7.26-4058 |
 |
LAM泛林 FS 103-6单片旋转腐蚀机 |
LAM泛林 |
FS 103-6 |
1996 |
手机或微信咨询 |
6" |
国内
|
| 2024.6.23-4018 |
 |
LAM 2300 Exelan Flex刻蚀机 |
LAM |
2300 Exelan Flex |
- |
手机或微信咨询 |
4室Ath-1600涡轮增压+交流箱; |
已售
|
| 2024.6.19-4010 |
 |
LAM C2 Triple SPEED气相沉积 |
LAM |
C2 Triple SPEED |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 2024.5.17-3907 |
 |
LAM 2300 Exelan Flex45刻蚀机 |
LAM |
2300 Exelan Flex45 |
- |
手机或微信咨询 |
设备型号：2300 Exelan Flex 45
类型：ICP蚀刻机
晶圆尺寸：12“
设备配置：
-有12条输气管线
-维持在纳米图案化转移能力和特别是嵌段共聚物、石墨烯和成型纳米结构蚀刻方面的活动
-C4F8、CF4、O2、 |
国外
|
| 2024.3.29-3836 |
 |
LAM泛林 RAINBOW-4420等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
RAINBOW-4420 |
1994 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,目前在亚洲;
ISO蚀刻
晶圆尺寸200 mm
Fab截面蚀刻
软件版本1.5版
CIM-SECS
工艺CMOS
主系统LAM 4420 ETHER 1
处理器系统谐波臂2
工厂接口SMIF 2
LL泵1 |
已售
|
| 2024.3.12-3822 |
 |
LAM泛林 4520XL干法刻蚀机 |
LAM泛林 |
4520XL |
2000 |
手机或微信咨询 |
热机运行中,但风扇需要更换; |
国外
|
| 2023.12.27-3523 |
|
LAM泛林 490B 干法刻蚀机 |
LAM泛林 |
490B |
- |
手机或微信咨询 |
6"备件机; |
国内
|
| 2022.11.2-2405 |
|
LAM泛林 RAINBOW 4420等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
RAINBOW 4420 |
- |
手机或微信咨询 |
6" As-is |
国外
|
| 2022.7.22-2334 |
|
LAM泛林 2300多晶硅刻蚀机 |
LAM泛林 |
2300 |
2005 |
手机或微信咨询 |
missing parts缺件:
Load port 1 missing,
Tube Controller 3pcs missing. |
已售
|
| 2022.6.17-2313 |
|
LAM泛林 9400 SE等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
9400 SE |
1997 |
手机或微信咨询 |
整机完整不缺件 |
国外
|
| 2022.4.27-1986 |
|
LAM泛林 Chambers for Altus原子层沉积设备 |
LAM泛林 |
Chambers for Altus |
- |
手机或微信咨询 |
12" |
国外
|
| 2022.4.11-1977 |
|
LAM泛林 RESEARCH EOS湿式晶圆清洗机 |
LAM泛林 |
RESEARCH EOS |
- |
手机或微信咨询 |
- |
国外
|
| 2021.10.1-1520 |
|
LAM泛林 RAINBOW 4420等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
RAINBOW 4420 |
- |
手机或微信咨询 |
6" As-is |
国外
|
| 2021.10.1-836 |
|
LAM Vector化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector |
2005 |
手机或微信咨询 |
Vector RPC |
国外
|
| 2021.10.1-1387 |
|
LAM泛林 Synergy薄膜沉积设备 |
LAM泛林 |
Synergy |
1997 |
手机或微信咨询 |
- |
国外
|
| 2021.10.1-1322 |
|
AMAT NanoSEM 3D扫描电子显微镜 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2002 |
手机或微信咨询 |
MULTIPLE UNITS AVAILABLE. PLEASE INQUIRE.
SEM - Critical Dimension (CD) Measurement
Currently configured for 300mm waf |
国外
|
| 2021.10.1-1652 |
|
LAM泛林 RST201刻蚀机 |
LAM泛林 |
RST201 |
1996 |
手机或微信咨询 |
WET |
国外
|
| 2021.10.1-1653 |
|
LAM泛林 TWO Speed薄膜沉积设备 |
LAM泛林 |
TWO Speed |
2000 |
手机或微信咨询 |
CVD |
国外
|
| 2021.10.1-1654 |
|
LAM泛林 TWO等离子化学气相沉积 |
LAM泛林 |
TWO |
2000 |
手机或微信咨询 |
CVD |
国外
|
| 2021.10.1-504 |
|
LAM Vector SOLA xT化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector SOLA xT |
2011 |
手机或微信咨询 |
UV Cure |
国外
|
| 2021.10.1-1160 |
|
LAM Vector Express化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector Express |
2011 |
手机或微信咨询 |
CVD34x, underutilized at FAB8, used
for old techs |
国外
|
| 2021.10.1-656 |
|
Novellus-LAM Sabre 3D电镀设备 |
Novellus-LAM |
Sabre 3D |
2017 |
手机或微信咨询 |
BU: eWLB, Tool Condition: Down, Config as attached |
国外
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| 2021.10.1-516 |
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LAM Strip45 Chamber刻蚀机 |
LAM |
Strip45 Chamber |
2010 |
手机或微信咨询 |
Strip45 chamber only |
国外
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