| 图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
 |
气相沉积设备 |
LAM |
Concept Three Speed |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
物理气相沉积设备 |
LAM |
INOVA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
刻蚀机 |
LAM |
TORUS200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
刻蚀机 |
LAM |
TORUS200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
气相沉积设备 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
气相沉积设备 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
 |
等离子体刻蚀机 |
LAM |
TCP9600SE |
2005 |
6"设备完整不缺件,150mm; |
国外
|
 |
干法刻蚀机 |
LAM |
4520i |
2000 |
设备完整不缺件,在美国仓库中; |
国外
|
|
等离子刻蚀机 |
LAM |
9400 |
2000 |
设备完整不缺件,在美国仓库中; |
国外
|
|
干法刻蚀机 |
LAM |
TE490 |
- |
6" |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
LAM |
TE490 |
- |
6" |
国内
|
 |
单片旋转腐蚀机 |
LAM泛林 |
FS 103-6 |
1996 |
6" |
国内
|
 |
单片旋转腐蚀机 |
LAM泛林 |
FM101-6-B |
1998 |
4-6" |
国内
|
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刻蚀机 |
LAM |
2300 Exelan Flex |
- |
4室Ath-1600涡轮增压+交流箱; |
已售出
|
 |
气相沉积 |
LAM |
C2 Triple SPEED |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
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刻蚀机 |
LAM |
2300 Exelan Flex45 |
- |
设备型号：2300 Exelan Flex 45
类型：ICP蚀 |
国外
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 |
刻蚀机 |
LAM |
4520XL |
2014 |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
RAINBOW-4420 |
1994 |
设备完整不缺件,目前在亚洲;
ISO蚀刻
晶圆尺寸200 mm |
已售出
|
 |
干法刻蚀机 |
LAM泛林 |
4520XL |
2000 |
热机运行中,但风扇需要更换; |
国外
|
|
干法刻蚀机 |
LAM泛林 |
490B |
- |
6"备件机; |
国内
|
|
等离子体刻蚀机 |
LAM |
TCP9600SE |
- |
设备完整不缺件,有9台现货; |
国外
|
|
旋转刻蚀机 |
LAM |
RST201 |
1996 |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国内
|
 |
刻蚀机 |
LAM |
2300 Exelan Flex |
2006 |
设备完整不缺件,有2套现货; |
已售出
|
 |
刻蚀机 |
LAM泛林 |
SEZ203 |
- |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
刻蚀机 |
LAM泛林 |
SEZ223 |
2006 |
8"设备完整不缺件,含安装调试; |
国内
|
|
等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
RAINBOW 4420 |
- |
6" As-is |
国外
|
|
多晶硅刻蚀机 |
LAM泛林 |
2300 |
2005 |
missing parts缺件:
Load port 1 mis |
已售出
|
|
等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
9400 SE |
1997 |
整机完整不缺件 |
国外
|
|
二氧化硅刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件,现货在江苏;20000372 |
国内
|
|
多晶硅刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件,现货在江苏;20000371 |
国内
|
|
氧化层干法刻蚀机 |
LAM |
590 |
- |
设备完整不缺件,现货在江苏;20000490 |
国内
|
|
氧化层干法刻蚀机 |
LAM |
590 |
- |
设备完整不缺件,现货在江苏;20000489 |
国内
|
|
多晶硅干法刻蚀机 |
LAM |
TCP9400 |
- |
设备完整不缺件,现货在浙江;20000986 |
国内
|
|
多晶硅干法刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件,现货在浙江;20002073 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
TCP 9400SE |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20001075 |
国内
|
|
干法去胶机 |
KEM |
Lamda200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000673 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
TCP 9400SE |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000864 |
国内
|
|
原子层沉积设备 |
LAM泛林 |
Chambers for Altus |
- |
12" |
国外
|
|
湿式晶圆清洗机 |
LAM泛林 |
RESEARCH EOS |
- |
- |
国外
|
|
刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件;30100092 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
TCP 9400SE |
- |
设备完整不缺件;10300159 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
TCP 9400SE DFM |
- |
设备完整不缺件;10300193 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
TCP 9600SE |
- |
设备完整不缺件;10300188 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
TCP 9600SE |
- |
设备完整不缺件;10300030 |
国内
|
|
喷涂应力释放刻蚀 |
LAM |
SEZ304 |
- |
设备完整不缺件;10300196 |
国内
|
|
喷涂应力释放刻蚀 |
LAM |
SEZ304 |
- |
设备完整不缺件;10300145 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM泛林 |
SEZ203 |
- |
设备完整不缺件,含安装调试,有3台现货; |
国内
|
|
刻蚀去胶一体机 |
LAM |
2300e5 KIYO MCX |
- |
12"设备完整不缺件,金属刻蚀/去胶一体机; |
国内
|
|
刻蚀去胶一体机 |
LAM |
2300e4 KIYO MCX |
- |
12"设备完整不缺件,金属刻蚀/去胶一体机; |
已售出
|
|
晶圆清洗机(16腔) |
LAM |
Research EOS |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
|
等离子化学气相沉积 |
LAM泛林 |
TWO |
2000 |
CVD |
国外
|
|
薄膜沉积设备 |
LAM泛林 |
TWO Speed |
2000 |
CVD |
国外
|
|
刻蚀机 |
LAM泛林 |
RST201 |
1996 |
WET |
国外
|
|
刻蚀机 |
LAM |
2300 Exelan Flex45 |
- |
12"设备完整不缺件; |
已售出
|
|
晶圆清洗机(8腔) |
LAM |
Research EOS |
- |
12"设备完整不缺件,缺控制板; |
国内
|
|
化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector Express CVD |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
LAM |
4400B |
2000 |
设备完整不缺件,有1台现货; |
国内
|
 |
干法刻蚀机 |
LAM |
4520 |
1996/1997/ |
设备完整不缺件,有3台现货; |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
LAM |
490 |
1993/1995 |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国内
|
|
等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
RAINBOW 4420 |
- |
6" As-is |
国外
|
|
薄膜沉积设备 |
LAM泛林 |
Synergy |
1997 |
- |
国外
|
|
化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector Express |
2011 |
CVD34x, underutilized at FAB8, us |
国外
|
 |
晶圆清洗机(8腔) |
LAM |
Research EOS |
2016 |
12"设备完整不缺件,无HDD; |
国外
|
 |
晶圆清洗机(16腔) |
LAM |
Research EOS |
2015 |
12"设备完整不缺件,无HDD; |
国外
|
|
干法刻蚀机 |
LAM |
4520XL |
2019 |
设备完整不缺件,二氧化硅RIE; |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20001073 |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004120 |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004119 |
国内
|
|
等离子刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004107 |
国内
|
|
等离子刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004106 |
国内
|
|
亚气压化学气相沉积仪 |
LAM |
DSM9800 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004076 |
国内
|
|
化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector |
2005 |
Vector RPC |
国外
|
|
等离子刻蚀机 |
LAM |
4428 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004121 |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
150mm设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
 |
等离子干法刻蚀机 |
LAM |
2300e6 |
2019 |
设备完整不缺件,有2台现货在原厂无尘车间,6个FLFX腔体,EFA |
国内
|
 |
等离子干法刻蚀机 |
LAM |
2300e6 |
2019 |
12"设备完整不缺件,有2台现货在台湾,2023年下线; |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件;30100068 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件;10300182 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件;10300181 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件;10300164 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件;10300163 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件;30100067 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件;10300160 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件;10300154 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件;10300153 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件;10300024 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件;10300014 |
国内
|
|
刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件;10300011 |
国内
|
|
电镀设备 |
Novellus-LAM |
Sabre 3D |
2017 |
BU: eWLB, Tool Condition: Down, C |
国外
|
|
刻蚀机 |
LAM |
Strip45 Chamber |
2010 |
Strip45 chamber only |
国外
|
|
化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector SOLA xT |
2011 |
UV Cure |
国外
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