| 图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
 |
气相沉积设备 |
AMAT |
ENDURA HP |
2004 |
8"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
|
大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
设备完整不缺件； |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
Centura-DPS |
2007 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
Centura AP-DPS |
2005 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT Chamber |
- |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
Centura WxZ |
2000 |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
机械抛光设备 |
AMAT |
Reflexion miniship LK |
- |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
扩散炉 |
AMAT |
Vantage_AP |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
化学气相沉积设备 |
AMAT |
Endura-CL MOCVD |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
退火炉 |
AMAT |
RTP XE CENTURA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
Centura Enabler |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
电化学沉积设备 |
AMAT |
Raider ECD310 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
干式刻蚀机 |
AMAT |
CenturaHDP 5300Omega |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
缺陷检测工具 |
AMAT |
UVISION4 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
外延沉积设备 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
外延沉积设备 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
涂胶显影机 |
AMAT |
RF3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
CENTURE MXP |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
 |
气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1996 |
6"PVD System,
Can be converted |
国外
|
 |
刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1996 |
6"设备完整不缺件;
2腔:SiO2+Si3N4,设备在美国已翻 |
国外
|
|
刻蚀机(2腔) |
AMAT |
P5000 |
1999 |
6"设备完整不缺件;
Metal Etch/Trench Etc |
国外
|
 |
化学机械抛光设备 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
2002 |
设备完整不缺件,已翻新在国内; |
国外
|
 |
气相沉积设备 |
AMAT |
Endura Ⅱ |
- |
有2台现货; |
已售出
|
 |
气相沉积设备 |
AMAT |
Endura CL |
1994 |
1台主机+IMP舱室+2个舱室+1台EFEM; |
国内
|
 |
沉积刻蚀 |
AMAT |
CENTRIS MESA ETCH |
- |
有2台现货(1个主机+3个双室,射频机器人涡轮配件齐); |
国内
|
 |
个腔室气相沉积设备 |
AMAT |
Endura Ⅱ PVD 9 |
2007 |
12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库;
AL 2室、TTN |
国外
|
 |
个腔室气相沉积设备 |
AMAT |
Endura Ⅱ PVD 8 |
2007 |
12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库;
SIP 1室、ALP |
国外
|
 |
刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1996 |
6"设备完整不缺件,3腔; |
国内
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,8英寸3腔表观系统; |
国外
|
 |
刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1996 |
CVD 3chamber;nitride
CVD 4chambe |
国外
|
|
干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
- |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片,备件机; |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1988.8 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1990.2 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1990 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1992.6 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1991.5 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1990.5 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1990.7 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1990.7 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1991.4 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1988.6 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
|
干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
AMS-2100 |
- |
在线热机; |
国内
|
 |
气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1995-1997 |
设备完整不缺件,有7台现货,1995年3台,1996年2台,199 |
国外
|
|
等离子化学气相沉积 |
AMAT |
Producer GT3 |
2023-2025 |
设备完整不缺件,有11台现货; |
国外
|
|
去胶机 |
YAMATO |
PR510 |
1985-1999 |
设备完整不缺件,有8台现货; |
国内
|
|
检测仪 |
HAMAMATSU |
PHCMOS-200 |
- |
设备完整不缺件,有1台现货; |
国内
|
|
烤箱 |
YAMATO |
DKN402 |
- |
- |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1988/1991/ |
在购热机 6" 刻压点;18片/炉;最大1800W;机械手传片,有 |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1991.4 |
在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大1800W;机械手传片 |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
AME8111 |
- |
设备完整不缺件,有1台现货; |
国内
|
|
干法刻蚀设备 |
AMAT应用材料 |
MATERIALS CENTURA ENABLER |
2008 |
System
AC Rack
Monitor
M |
国外
|
|
外延沉积 |
AMAT应用材料 |
MATERIALS Centura HTF EPI Syst |
- |
美国已下线 |
国外
|
|
化学气相沉积设备 |
AMAT应用材料 |
Producer-GT CVD |
- |
As-is |
国外
|
|
化学机械抛光设备 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
- |
FULL REPUB |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1995 |
设备完整不缺件,有10台现货; |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
设备完整不缺件,1 CVD+1蚀刻; |
国外
|
|
等离子化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Amat Centura2 DSP |
- |
8 As-is |
国外
|
|
等离子化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Centura Ultima HDP |
- |
8 As-is |
国外
|
|
等离子化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Centura Ultima |
- |
8 As-is |
国外
|
|
干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura2 DPS+Poly Etch |
- |
8 As-is |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
P5000 PLIS |
- |
翻新机Standard TEOS USG x3 Chamber |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
2CH / 3CH |
国外
|
|
中束流离子注入机 |
AMAT |
Vera SEM 3D |
- |
Metrology |
国外
|
|
中束流离子注入机 |
AMAT |
Vera SEM 3D |
- |
Metrology |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1995 |
2 chambers CVD
3 chambers CVD |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
CVD System,6"(3)Chambers. |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
Centura AP Minos Polysili |
- |
- |
国内
|
|
高温中束流离子注入机 |
AMAT |
VIISta9003D |
- |
设备完整不缺件,现货在浙江B;20002751 |
国内
|
|
高温中束流离子注入机 |
AMAT |
VIISta9003D |
- |
设备完整不缺件,现货在浙江B;20002750 |
国内
|
|
正面金属溅镀机 |
AMAT |
Endura5500 |
- |
设备完整不缺件,现货在浙江B;20002851 |
国内
|
|
化学气相沉积台 |
AMAT |
P5000 |
- |
设备完整不缺件,现货在浙江;20002218 |
国内
|
|
多晶硅干法刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
设备完整不缺件,现货在浙江;20000739 |
国内
|
|
多晶硅等离子体刻蚀机 |
AMAT |
P-5000 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000637 |
国内
|
|
外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000792 |
国内
|
|
外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000791 |
国内
|
|
外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000790 |
国内
|
|
外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000789 |
国内
|
|
外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000788 |
国内
|
|
外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000787 |
国内
|
|
外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000786 |
国内
|
|
外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000785 |
国内
|
|
溅镀机 |
AMAT |
Centura PVD |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000758 |
国内
|
|
外延设备 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000798 |
国内
|
|
外延设备 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000797 |
国内
|
|
外延设备 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000796 |
国内
|
|
外延设备 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000795 |
国内
|
|
外延设备 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000794 |
国内
|
|
外延设备 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000793 |
国内
|
|
外延炉连接 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;30000930 |
国内
|
|
外延炉连接 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;30000929 |
国内
|
|
外延炉连接 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;30000928 |
国内
|
|
刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
APPLIED MATERIALS CENTURA AP M |
- |
- |
国外
|
|
氧化物刻蚀器 |
AMAT应用材料 |
8310 |
- |
8" |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
- |
国内
|
|
|
AMAT |
Centura PVD |
- |
设备完整不缺件;10300138 |
国内
|
|
物理气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
- |
设备完整不缺件;30100105 |
国内
|
|
溅射机 |
AMAT |
Endura 5500 |
- |
设备完整不缺件;10300157 |
国内
|
|
化学气相沉积 |
AMAT |
P5000 |
- |
设备完整不缺件;30100047 |
国内
|
|
刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
AKT-3500 |
2018 |
CVD |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura DPS |
1998 |
ETCH |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura DXZ |
1999 |
CVD |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura MXP |
1997 |
ETCH |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura XE |
2003 |
RTP |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura XE+ |
2003 |
RTP |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
设备完整不缺件,有4台现货; |
国内
|
|
中束流离子注入机 |
AMAT |
Vera SEM 3D |
2002 |
12"设备完整不缺件300mm; |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
Centura DPs Metal Etch |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
|
等离子体刻蚀设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Etch |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
|
等离子体刻蚀设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Poly Etch |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
|
化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer SE CVD |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
|
等离子体刻蚀设备 |
AMAT |
Centura DPS2 AdvantEdge G |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1998/1999/ |
设备完整不缺件,有6台现货; |
国内
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1995/1999/ |
设备完整不缺件,有3台现货; |
国内
|
|
等离子体刻蚀设备 |
AMAT |
Centura DPS+Poly Etch |
- |
As-is |
国外
|
|
化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Producer-GT CVD |
- |
As-is |
国外
|
|
化学机械抛光设备 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
- |
FULL REPUB |
国外
|
|
等离子体刻蚀设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(NT, Yaskawa), 3x G2 Metal, 1 |
国外
|
|
薄膜沉积设备 |
AMAT |
Centura Axiom Chamber |
2006 |
Axiom Only (w/VODM) |
国外
|
|
抛光设备 |
AMAT |
Reflexion FA |
2005 |
CMP |
国外
|
|
外延炉 |
AMAT |
Vantage 5 |
2012 |
RTP |
国外
|
|
化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2011 |
3 Twin(HARP USG, RPC_FI80131), FI |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura Enabler |
2007 |
- |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura Chamber |
2010 |
2 x Minos, 1 x Carina, 1 x Axion, |
国外
|
|
扫描电子显微镜 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2002 |
MULTIPLE UNITS AVAILABLE. PLEASE |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
Centura Enabler Chamber |
2004 |
Condition : Very Good , CE Marked |
国外
|
|
外延炉 |
AMAT |
Vantage Vulcan |
2013 |
2 Chamber RTP System |
国外
|
|
化学气相沉积设备 |
AMAT |
Olympia |
2015 |
2Ch ALD System, Single chamber, I |
国外
|
|
晶圆清洗 |
AMAT |
ACMS XT Ⅱ |
2005 |
- |
国外
|
|
清洗设备 |
AMAT |
ACMS0XT-ASG-E |
2006 |
- |
国外
|
|
光学检测计量设备 |
AMAT |
UVision 5 |
2011 |
- |
国外
|
|
刻蚀机 |
AMAT |
Centura Carina Chamber |
- |
Chamber Only.
Carina Etch Chambe |
国外
|
|
化学气相沉积台 |
AMAT |
5200 ULTIMA |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20002529 |
国内
|
|
气相沉积设备 |
AMAT |
Endura Ⅱ |
2020 |
设备完整不缺件,台湾在线热机; |
国外
|
|
化学气相沉积台 |
AMAT |
5200 ULTIMA |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004075 |
国内
|
|
化学气相沉积台 |
AMAT |
5200 ULTIMA |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20002524 |
国内
|
|
化学气相沉积台 |
AMAT |
5200 ULTIMA |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20002452 |
国内
|
|
化学气相沉积台 |
AMAT |
5200 ULTIMA |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20002443 |
国内
|
|
化学气相沉积 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
System controller(无寻边电路板),chiller |
国内
|
|
化学气相沉积 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
System controller(无寻边电路板),ETOA&B& |
国内
|
|
化学气相沉积 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
System controller(无寻边电路板),chiller |
国内
|
|
化学气相沉积台 |
AMAT |
EP-17700 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20002384 |
国内
|
|
化学机械研磨机 |
AMAT |
Mirra-3400 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004115 |
国内
|
|
化学气相沉积台 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004116 |
国内
|
|
化学气相沉积台 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004095 |
国内
|
|
化学气相沉积台 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004093 |
国内
|
|
化学气相沉积台 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004089 |
国内
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化学气相沉积台 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004088 |
国内
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化学气相沉积 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004087 |
国内
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气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Octane G2 assy |
1999 |
- |
国外
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化学气相沉积台 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004086 |
国内
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化学气相沉积台 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004085 |
国内
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缺陷自动检测仪器 |
AMAT |
SEMVISION |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20002468 |
国内
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化学气相沉积 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
8"设备完整不缺件,现货在湖南;20001070 |
国内
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化学气相沉积 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004113 |
国内
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化学气相沉积 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004112 |
国内
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化学气相沉积 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004111 |
国内
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气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1998 |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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|
气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1998 |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
2019 |
设备完整不缺件,Poly SiO2/SIN; |
国内
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金属溅镀机 |
AMAT |
MRC STAR |
2019 |
设备完整不缺件; |
国内
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刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
2019 |
设备完整不缺件,CVD氮化硅/氧化硅; |
国内
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|
金属溅镀机 |
AMAT |
MRC MARKⅡ |
2019 |
设备完整不缺件; |
国内
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刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
2019 |
设备完整不缺件,金属Ti/AI/Ni; |
国内
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物理气相沉积台 |
AMAT |
Endura 5500 |
- |
缺件较多,缺Heater/Process kit/DC power |
国内
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气相沉积设备 |
AMAT |
Endura CL |
2004 |
EFEM(2Ports, Kensington), , 2x AC |
国外
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量测设备 |
AMAT |
UVision 4 |
2009 |
[As-is]2ea*TDK load port, Kawasak |
国外
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等离子体刻蚀设备 |
AMAT应用材料 |
Centura DPS2 532 Metal |
2006 |
EFEM(Yaskawa), 2xDPS532, 1xAxiom, |
国外
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|
气相沉积设备 |
AMAT |
Endura Ⅱ |
2010-2024 |
设备完整不缺件,有12台现货;
DMD*2ch+std AL*2 |
国外
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化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer SE |
2003 |
2 Twiin( HF_Apex3013, LF_PDX9002V |
国外
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|
等离子体刻蚀设备 |
AMAT应用材料 |
Centura DPS2 Poly |
2007 |
EFEM, TM, 3x DPS2 Poly; 1x Axiom, |
国外
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|
等离子体刻蚀设备 |
AMAT |
Centura DPS2 AdvantEdge G5 Mes |
2007 |
G5 Mesa. EFEM(Server, Kawasaki) 3 |
国外
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|
等离子体刻蚀设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Chamber |
- |
DPS2 Poly Chamber, Parts |
国外
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|
等离子体刻蚀设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Chamber |
- |
DPS2 Poly Chamber, Parts |
国外
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|
等离子体刻蚀设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(Server, Kawasaki), 3x G2 Met |
国外
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|
刻蚀机 |
AMAT |
Centura eMax CT+ |
2007 |
12"设备完整不缺件; |
国外
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刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1996 |
CVD MarkII, 2x DLH_Delta, 2x Etch |
国外
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|
刻蚀机 |
AMAT |
Centura DPS Metal |
1996 |
C1P1, WBLL, 1x Orient, 1x CD, 2x |
国外
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|
刻蚀机 |
AMAT |
DPS2 532 Metal Chamber |
2004 |
DPS2 532 Metal Chamber only |
国外
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|
金属刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
现货在湖南;20002550
仓库闲置,手臂+载台+腔体+供气柜 |
国内
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干法刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004122 |
国内
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刻蚀机(PECVD) |
AMAT |
P5000 |
1996 |
设备完整不缺件,国内在线热机; |
国内
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刻蚀机(4腔) |
AMAT |
P5000 |
1989 |
设备完整不缺件; |
国内
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刻蚀机 |
AMAT |
Centura Enabler |
2006 |
EFEM(NT, Yaskawa, missing Blade), |
国外
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刻蚀机 |
AMAT |
Centura DPS2 Poly |
2007 |
EFEM(Kawasaki, Server), TM, 3x G5 |
国外
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|
化学气相沉积设备 |
AMAT |
Centura AP ISPRINT |
2008 |
4 xALD W CH, OS_SErver Type, AP F |
国外
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刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
在线热机,有2台; |
国外
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刻蚀机 |
AMAT |
Centura Enabler E2 |
2010 |
EFEM(Server, Yaskawa), TM(VHP), 3 |
国外
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刻蚀机 |
AMAT |
Centura Avatar |
- |
AVATAR 4x Chamber only |
国外
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晶圆检测系统 |
AMAT |
Orbot WF720 |
- |
- |
国外
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外延炉 |
AMAT |
AMC-7811 |
1990 |
Epitaxy |
国外
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外延炉 |
AMAT |
AMC7800RPX |
1982 |
Epitaxy |
国外
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页次：
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9[1][2]: 总共有2页
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