| ID |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
| 4577 |
LAM Concept Three Speed CVD气相沉积设备 |
LAM |
Concept Three Speed |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 4435 |
LAM INOVA物理气相沉积设备 |
LAM |
INOVA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4283 |
LAM TORUS200蚀刻机 |
LAM |
TORUS200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4282 |
LAM TORUS200蚀刻机 |
LAM |
TORUS200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4238 |
LAM ALTUS(Chamber only)气相沉积设备 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4237 |
LAM ALTUS(Chamber only)气相沉积设备 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4148 |
LAM TCP9600SE等离子体刻蚀机 |
LAM |
TCP9600SE |
2005 |
6"设备完整不缺件,150mm; |
国外
|
| 4141 |
LAM RAINBOW 4520i干法刻蚀机 |
LAM |
4520i |
2000 |
设备完整不缺件,在美国仓库中; |
国外
|
| 4140 |
LAM RESEARCH 9400等离子刻蚀机 |
LAM |
9400 |
2000 |
设备完整不缺件,在美国仓库中; |
国外
|
| 4074 |
LAM TE490干法刻蚀机 |
LAM |
TE490 |
- |
6" |
国内
|
| 4073 |
LAM TE490干法刻蚀机 |
LAM |
TE490 |
- |
6" |
国内
|
| 4058 |
LAM SEZ FS 103-6单片旋转腐蚀机 |
LAM泛林 |
FS 103-6 |
1996 |
6" |
国内
|
| 4057 |
LAM SEZ FM101-6-B单片旋转腐蚀机 |
LAM泛林 |
FM101-6-B |
1998 |
4-6" |
国内
|
| 4018 |
LAM 2300 Exelan Flex蚀刻机 |
LAM |
2300 Exelan Flex |
- |
4室Ath-1600涡轮增压+交流箱; |
已售出
|
| 4010 |
LAM C2 Triple SPEED气相沉积 |
LAM |
C2 Triple SPEED |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 3907 |
LAM 2300 Exelan Flex45 ICP蚀刻机 |
LAM |
2300 Exelan Flex45 |
- |
设备型号：2300 Exelan Flex |
国外
|
| 3889 |
LAM RAINBOW 4520 XLE刻蚀机 |
LAM |
4520XL |
2014 |
设备完整不缺件; |
国内
|
| 3836 |
LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
RAINBOW-4420 |
1994 |
设备完整不缺件,目前在亚洲;
ISO蚀刻
|
已售出
|
| 3822 |
LAM RAINBOW 4520XL干法刻蚀机 |
LAM泛林 |
4520XL |
2000 |
热机运行中,但风扇需要更换; |
国外
|
| 3523 |
LAM 490B干法刻蚀机 |
LAM泛林 |
490B |
- |
6"备件机; |
国内
|
| 3235 |
LAM TCP9600SE等离子体刻蚀机 |
LAM |
TCP9600SE |
- |
设备完整不缺件,有9台现货; |
国外
|
| 3153 |
LAM RST201旋转刻蚀机 |
LAM |
RST201 |
1996 |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国内
|
| 3040 |
LAM 2300 Exelan Flex蚀刻机 |
LAM |
2300 Exelan Flex |
2006 |
设备完整不缺件,有2套现货; |
已售出
|
| 2799 |
LAM SEZ203蚀刻机 |
LAM泛林 |
SEZ203 |
- |
设备完整不缺件; |
国内
|
| 2698 |
LAM SEZ223蚀刻机 |
LAM泛林 |
SEZ223 |
2006 |
8"设备完整不缺件,含安装调试; |
国内
|
| 2405 |
LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
RAINBOW 4420 |
- |
6" As-is |
国外
|
| 2334 |
LAM RESEARCH 2300多晶硅蚀刻机 |
LAM泛林 |
2300 |
2005 |
missing parts缺件:
Load |
已售出
|
| 2313 |
LAM RESEARCH 9400 SE等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
9400 SE |
1997 |
整机完整不缺件 |
国外
|
| 2219 |
LAM 4420二氧化硅刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件,现货在江苏;20000372 |
国内
|
| 2218 |
LAM 4520多晶硅刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件,现货在江苏;20000371 |
国内
|
| 2217 |
LAM 590氧化层干法蚀刻机 |
LAM |
590 |
- |
设备完整不缺件,现货在江苏;20000490 |
国内
|
| 2216 |
LAM 590氧化层干法蚀刻机 |
LAM |
590 |
- |
设备完整不缺件,现货在江苏;20000489 |
国内
|
| 2164 |
LAM TCP9400多晶硅干法蚀刻机 |
LAM |
TCP9400 |
- |
设备完整不缺件,现货在浙江;20000986 |
国内
|
| 2161 |
LAM 4420多晶硅干法蚀刻机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件,现货在浙江;20002073 |
国内
|
| 2154 |
LAM TCP 9400SE刻蚀机 |
LAM |
TCP 9400SE |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20001075 |
国内
|
| 2005 |
KEM Lamda200干法去胶机 |
KEM |
Lamda200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000673 |
国内
|
| 2000 |
LAM TCP 9400SE蚀刻机 |
LAM |
TCP 9400SE |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000864 |
国内
|
| 1986 |
LAM Chambers for Altus原子层沉积设备 |
LAM泛林 |
Chambers for Altus |
- |
12" |
国外
|
| 1977 |
LAM RESEARCH EOS湿式晶圆清洗设备 |
LAM泛林 |
RESEARCH EOS |
- |
- |
国外
|
| 1862 |
LAM 4420刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件;30100092 |
国内
|
| 1774 |
LAM TCP 9400SE刻蚀机 |
LAM |
TCP 9400SE |
- |
设备完整不缺件;10300159 |
国内
|
| 1773 |
LAM TCP 9400SE DFM刻蚀机 |
LAM |
TCP 9400SE DFM |
- |
设备完整不缺件;10300193 |
国内
|
| 1772 |
LAM TCP 9600SE刻蚀机 |
LAM |
TCP 9600SE |
- |
设备完整不缺件;10300188 |
国内
|
| 1771 |
LAM TCP 9600SE刻蚀机 |
LAM |
TCP 9600SE |
- |
设备完整不缺件;10300030 |
国内
|
| 1728 |
LAM SEZ304喷涂应力释放刻蚀 |
LAM |
SEZ304 |
- |
设备完整不缺件;10300196 |
国内
|
| 1727 |
LAM SEZ304喷涂应力释放刻蚀 |
LAM |
SEZ304 |
- |
设备完整不缺件;10300145 |
国内
|
| 1717 |
LAM SEZ203蚀刻机 |
LAM泛林 |
SEZ203 |
- |
设备完整不缺件,含安装调试,有3台现货; |
国内
|
| 1693 |
LAM 2300e5 KIYO MCX刻蚀去胶一体机 |
LAM |
2300e5 KIYO MCX |
- |
12"设备完整不缺件,金属刻蚀/去胶一体机; |
国内
|
| 1689 |
LAM 2300e4 KIYO MCX刻蚀去胶一体机 |
LAM |
2300e4 KIYO MCX |
- |
12"设备完整不缺件,金属刻蚀/去胶一体机; |
已售出
|
| 1677 |
LAM Research EOS晶圆清洗设备(16腔) |
LAM |
Research EOS |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
| 1655 |
LAM ONE-W PECVD等离子化学气相沉积 |
LAM泛林 |
ONE-W |
1995 |
PECVD; |
国外
|
| 1654 |
LAM TWO PLASMA CVD等离子化学气相沉积 |
LAM泛林 |
TWO |
2000 |
CVD |
国外
|
| 1653 |
LAM TWO Speed PLASMA CVD薄膜沉积设备 |
LAM泛林 |
TWO Speed |
2000 |
CVD |
国外
|
| 1652 |
LAM RST201刻蚀机 |
LAM泛林 |
RST201 |
1996 |
WET |
国外
|
| 1637 |
LAM 2300 Exelan Flex45蚀刻机 |
LAM |
2300 Exelan Flex45 |
- |
12"设备完整不缺件; |
已售出
|
| 1629 |
LAM Research EOS晶圆清洗设备(8腔) |
LAM |
Research EOS |
- |
12"设备完整不缺件,缺控制板; |
国内
|
| 1628 |
LAM Vector Express CVD化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector Express CVD |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
| 1559 |
LAM 4400B干法刻蚀机 |
LAM |
4400B |
2000 |
设备完整不缺件,有1台现货; |
国内
|
| 1558 |
LAM RAINBOW 4520干法刻蚀机 |
LAM |
4520 |
1996/1997/ |
设备完整不缺件,有3台现货; |
国内
|
| 1557 |
LAM 490干法刻蚀机 |
LAM |
490 |
1993/1995 |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国内
|
| 1520 |
LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
RAINBOW 4420 |
- |
6" As-is |
国外
|
| 1387 |
LAM Synergy CMP薄膜沉积设备 |
LAM泛林 |
Synergy |
1997 |
- |
国外
|
| 1160 |
LAM Vector Express CVD化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector Express |
2011 |
CVD34x, underutilized |
国外
|
| 1109 |
LAM Research EOS晶圆清洗设备(8腔) |
LAM |
Research EOS |
2016 |
12"设备完整不缺件,无HDD; |
国外
|
| 1101 |
LAM Research EOS晶圆清洗设备(16腔) |
LAM |
Research EOS |
2015 |
12"设备完整不缺件,无HDD; |
国外
|
| 1059 |
LAM RAINBOW 4520XL干法刻蚀机 |
LAM |
4520XL |
2019 |
设备完整不缺件,二氧化硅RIE; |
国内
|
| 900 |
LAM 4420干法刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20001073 |
国内
|
| 897 |
LAM 4420干法刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004120 |
国内
|
| 893 |
LAM 4420干法刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004119 |
国内
|
| 892 |
LAM 4420等离子刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004107 |
国内
|
| 891 |
LAM 4420等离子刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004106 |
国内
|
| 890 |
LAM DSM9800亚气压化学气相沉积仪 |
LAM |
DSM9800 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004076 |
国内
|
| 836 |
LAM Vector CVD化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector |
2005 |
Vector RPC |
国外
|
| 777 |
LAM 4428等离子刻蚀机 |
LAM |
4428 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004121 |
国内
|
| 735 |
LAM RAINBOW 4520干法刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
150mm设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
| 734 |
LAM 2300e6等离子干法刻蚀机 |
LAM |
2300e6 |
2019 |
设备完整不缺件,有2台现货在原厂无尘车间,6 |
国内
|
| 715 |
LAM 2300e6等离子干法刻蚀机 |
LAM |
2300e6 |
2019 |
12"设备完整不缺件,有2台现货在台湾,20 |
国内
|
| 714 |
LAM 4420刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件;30100068 |
国内
|
| 711 |
LAM 4420刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件;10300182 |
国内
|
| 704 |
LAM 4420刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件;10300181 |
国内
|
| 703 |
LAM 4420刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件;10300164 |
国内
|
| 702 |
LAM 4420刻蚀机 |
LAM |
4420 |
- |
设备完整不缺件;10300163 |
国内
|
| 701 |
LAM 4520刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件;30100067 |
国内
|
| 700 |
LAM 4520刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件;10300160 |
国内
|
| 699 |
LAM 4520刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件;10300154 |
国内
|
| 698 |
LAM 4520刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件;10300153 |
国内
|
| 697 |
LAM 4520刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件;10300024 |
国内
|
| 696 |
LAM 4520刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件;10300014 |
国内
|
| 695 |
LAM 4520刻蚀机 |
LAM |
4520 |
- |
设备完整不缺件;10300011 |
国内
|
| 656 |
Novellus Sabre 3D电镀设备 |
Novellus-LAM |
Sabre 3D |
2017 |
BU: eWLB, Tool Conditi |
国外
|
| 516 |
LAM Strip45 Chamber Etch刻蚀机 |
LAM |
Strip45 Chamber |
2010 |
Strip45 chamber only |
国外
|
| 504 |
LAM Vector SOLA xT CVD化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector SOLA xT |
2011 |
UV Cure |
国外
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