| 图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
 |
DISCO-DFD6340全自动切割机 |
DISCO |
DFD6340 |
2010 |
设备完整不缺件,主轴功率1.8KW,有2台现货; |
国内
|
 |
NIKON-NSR-1755i7B光刻机 |
NIKON |
NSR-1755i7B |
1991 |
6"设备完整不缺件,上海净化车间,翻新+安装调试加110万元; |
国内
|
 |
JEOL-JBX-8100FS G3电子束光刻机 |
JEOL |
JBX-8100FS G3 |
2024 |
设备完整不缺件,无尘室关机状态,100KV;
配置清单:
1. |
已售出
|
 |
CANON-EL3400溅射装置 |
CANON |
EL3400 |
- |
设备完整不缺件在日本刚下线,满足插入式Fan-Out等下一代高密度 |
已售出
|
 |
KLA-EDR-7380缺陷检测设备 |
KLA |
EDR-7380 |
- |
12"设备完整不缺件,300mm在线热机; |
国外
|
 |
SCREEN SOKUDO-RF-310A涂胶显影机 |
SCREEN SOKUDO |
RF-310A |
2014 |
设备完整不缺件,2014年380万美元购买; |
国外
|
|
ACCRETECH/TSK-ML200镭射切割机 |
ACCRETECH/TSK |
ML200 |
2006 |
设备完整不缺件,质保6个月+30W,质保12个月+70W; |
国内
|
 |
CANON-FPA-3000i5步进式光刻机 |
CANON |
FPA-3000i5 |
- |
设备完整不缺件,有10台现货在美国,已拆卸在仓库中; |
国外
|
|
TOK-TCA3822光刻机 |
TOK |
TCA3822 |
2008 |
8"设备完整不缺件,有6台现货(年份1996,2006,2008年 |
国外
|
|
Mattson-AspenⅡ光刻机 |
Mattson |
AspenⅡ |
1997/2018 |
设备完整不缺件,有2台现货(年份1997,2018年); |
国外
|
|
CANON-MAS-801HR光刻机 |
CANON |
MAS-801HR |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON-MAS-8000光刻机 |
CANON |
MAS-8000 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
USHIO-UX-4486SC光刻机 |
USHIO |
UX-4486SC |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
 |
ULTRATECH-AP300光刻机 |
ULTRATECH |
AP300 |
2009 |
12"设备完整不缺件,2um在美国300mm; |
国外
|
|
CANON-FPA-5500iZa光刻机 |
CANON |
FPA-5500iZa |
2006 |
12"设备完整不缺件,有9台现货; |
国外
|
|
CANON-FPA-1550M4W光刻机 |
CANON |
FPA-1550M4W |
1995 |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASML-PAS 5500/100D光刻机 |
ASML |
PAS 5500/100D |
1996 |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
|
HITACHI-S-9380扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-9380 |
2004 |
设备完整不缺件,不带硬盘和server; |
国外
|
|
ULVAC-SME200溅射台 |
ULVAC |
SME200 |
2005 |
设备完整不缺件； |
国外
|
|
ULVAC-CV-200气相沉积设备 |
ULVAC |
CV-200 |
2005 |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-ENDURA HP气相沉积设备 |
AMAT |
ENDURA HP |
2004 |
8"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
|
ACCRETECH/TSK-UF3000探针台 |
ACCRETECH/TSK |
UF3000 |
- |
设备完整不缺件,有7台现货; |
国外
|
|
TEL-P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
1994/1997 |
8"设备完整不缺件,有3台现货(年份1994,1997年); |
国外
|
|
TEL-P-12XLn+探针台 |
TEL |
P-12XLn+ |
2007 |
设备完整不缺件,有2台现货； |
国外
|
|
Agilent-4072B参数测试仪 |
Agilent |
4072B |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TERADYNE-UltraFLEX DCATE测试机 |
TERADYNE |
UltraFLEX DC |
2020 |
设备完整不缺件,有5台现货; |
已售出
|
|
TERADYNE-MicroFlexATE测试机 |
TERADYNE |
MicroFlex |
2008 |
设备完整不缺件,有4台现货; |
国外
|
|
TERADYNE-J750ATE测试机 |
TERADYNE |
J750 |
- |
设备完整不缺件,有3台现货; |
国外
|
|
KEITHLEY-S450参数测试仪 |
KEITHLEY |
S450 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
ADVANTEST-T6577ATE测试机 |
ADVANTEST |
T6577 |
- |
设备完整不缺件,有8台现货; |
国外
|
|
ADVANTEST-T2000 AiRATE测试机 |
ADVANTEST |
T2000 AiR |
- |
设备完整不缺件； |
国外
|
|
TEL-ALPHA-303i薄膜沉积设备 |
TEL |
ALPHA-303i |
2006 |
12"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
|
HITACHI-DJ-1206VN-DM(Quixace1-ALDINNA)薄膜沉积设备 |
HITACHI |
DJ-1206VN-DM(Quixace1-ALDINNA) |
2006 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-DJ-1206V-DF(Quixace2)薄膜沉积设备 |
HITACHI |
DJ-1206V-DF(Quixace2) |
2007 |
12"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
|
HITACHI-DJ-1206V-DF(Quixace1)薄膜沉积设备 |
HITACHI |
DJ-1206V-DF(Quixace1) |
2006/2007 |
12"设备完整不缺件,有2台现货(年份2006,2007年); |
国外
|
|
SEN-NV-MC3离子注入机 |
SEN |
NV-MC3 |
2009 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
AXCELIS-NV-GSD-A-80离子注入机 |
AXCELIS |
NV-GSD-A-80 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-VIISTA HC大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
设备完整不缺件； |
国外
|
|
SANYO-IR-EPOCH5500测量设备 |
SANYO |
IR-EPOCH5500 |
2009 |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
Rudolph-Matrix S200测量设备 |
Rudolph |
Matrix S200 |
2008 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
OTHER-Mentor DF3-SE测量设备 |
OTHER |
Mentor DF3-SE |
- |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
Nanometrics-M5100测量设备 |
Nanometrics |
M5100 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
N&K-3300测量设备 |
N&K |
3300 |
2003 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA -STARLIGHT301(300SL)测量设备 |
KLA |
STARLIGHT301(300SL) |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA -SP1-TBI晶圆检测系统 |
KLA |
SP1-TBI |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA -SCD-XT测量设备 |
KLA |
SCD-XT |
- |
12"设备完整不缺件,有3台现货; |
国外
|
|
KLA -Archer A300 AIM测量设备 |
KLA |
Archer A300 AIM |
2010 |
设备完整不缺件,日本仓库中; |
国外
|
|
HITACHI-VR-70测量设备 |
HITACHI |
VR-70 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-VR-120测量设备 |
HITACHI |
VR-120 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-VM-2210测量设备 |
DNS |
VM-2210 |
2008/2014 |
8"设备完整不缺件,有两2台现货(年份2008,2014年); |
国外
|
|
DNS-VM-2110测量设备 |
DNS |
VM-2110 |
2007 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASML-XLA140光刻机 |
ASML |
XLA140 |
2003 |
设备完整不缺件,无法卖往中国； |
国外
|
|
ASYST-SMIF LOADER晶圆传输设备 |
ASYST |
SMIF LOADER |
- |
设备完整不缺件； |
国外
|
|
SAMCO-RIE-331LC刻蚀机 |
SAMCO |
RIE-331LC |
2013 |
设备完整不缺件； |
国外
|
|
SAMCO-RIE-230LC刻蚀机 |
SAMCO |
RIE-230LC |
- |
设备完整不缺件； |
国外
|
|
HITACHI-U-702A刻蚀机 |
HITACHI |
U-702A |
2004/2009 |
12"设备完整不缺件,有2台现货(年份2004,2009年); |
国外
|
|
HITACHI-M-712刻蚀机 |
HITACHI |
M-712 |
2006 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-M-631刻蚀机 |
HITACHI |
M-631 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-M-531AE刻蚀机 |
HITACHI |
M-531AE |
1996 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-M-501AW刻蚀机 |
HITACHI |
M-501AW |
2000 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-M-318SX刻蚀机 |
HITACHI |
M-318SX |
1993 |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-M-318NX刻蚀机 |
HITACHI |
M-318NX |
1995 |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-M-308AT刻蚀机 |
HITACHI |
M-308AT |
1999 |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-Centura-DPS刻蚀机 |
AMAT |
Centura-DPS |
2007 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-Centura AP-DPS刻蚀机 |
AMAT |
Centura AP-DPS |
2005 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-INDY I-RAD扩散炉 |
TEL |
INDY I-RAD |
2008 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-DD-853V扩散炉 |
HITACHI |
DD-853V |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-DD-1206VN-DM扩散炉 |
HITACHI |
DD-1206VN-DM |
2004 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
 |
DISCO-DFD6341划片机 |
DISCO |
DFD6341 |
2012-2018 |
设备完整不缺件,主轴功率1.8KW,有19台现货; |
已售出
|
|
DISCO-DFD6340全自动切割机 |
DISCO |
DFD6340 |
- |
设备完整不缺件,有11台现货; |
国外
|
|
DNS-SD-W60A-AVP显影机 |
DNS |
SD-W60A-AVP |
2013 |
4"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-UNITY EP Parts刻蚀机 |
TEL |
UNITY EP Parts |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-UNITY EP刻蚀机 |
TEL |
UNITY EP |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-TRIAS化学气相沉积设备 |
TEL |
TRIAS |
2004 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
LAM-Concept Three Speed气相沉积设备 |
LAM |
Concept Three Speed |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-KV-J888立式炉管退火设备 |
HITACHI |
KV-J888 |
2013 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-Producer GT Chamber化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT Chamber |
- |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-Centura WxZ刻蚀机 |
AMAT |
Centura WxZ |
2000 |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-MARK VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK VZ |
- |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-LITHIUS涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS |
2006 |
12"设备完整不缺件,有34台现货(年份2005年8台,2006年 |
国外
|
|
TEL-ACT8涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
- |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-RF3(RF-300A)化学气相沉积 |
DNS |
RF3(RF-300A) |
2006 |
12"设备完整不缺件,有6台现货; |
国外
|
|
KLA-SP2晶圆检测系统 |
KLA |
SP2 |
- |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
|
DNS-HP-60BW-AV晶圆清洗机 |
DNS |
HP-60BW-AV |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-Reflexion miniship LK机械抛光设备 |
AMAT |
Reflexion miniship LK |
- |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
Horiuchi-MSEA601S-S001粘合机 |
Horiuchi |
MSEA601S-S001 |
- |
设备完整不缺件,有6台现货; |
国外
|
|
Nordson-AP-300A等离子清洗机 |
Nordson |
AP-300A |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
NITTO-HR8500Ⅱ撕膜机 |
NITTO |
HR8500Ⅱ |
- |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
KLA-SP2晶圆检测系统 |
KLA |
SP2 |
2007/2012 |
设备完整不缺件,有2台现货,安装调试+质保6个月; |
国内
|
|
POWATEC-Wafer Mounter晶圆贴片机 |
POWATEC |
Wafer Mounter |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
FOUR Dimensions-CVMAP 3092-A测试仪 |
FOUR Dimensions |
CVMAP 3092-A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
--NC-80E-12量测设备 |
- |
NC-80E-12 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA-ES31量测设备 |
KLA |
ES31 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DAITO-BN3-S54光刻机 |
DAITO |
BN3-S54 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DANTAKUMA-DT-1600光刻机 |
DANTAKUMA |
DT-1600 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DANTAKUMA-DT-1600光刻机 |
DANTAKUMA |
DT-1600 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SOKUDO-SK-3000光刻机 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SOKUDO-SK-3000光刻机 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SOKUDO-SK-3000光刻机 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SOKUDO-SK-3000光刻机 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SOKUDO-SK-3000光刻机 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SOKUDO-SK-3000光刻机 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-UNITY 2e-855DD 干式刻蚀机 |
TEL |
UNITY 2e-855DD |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-Telius SP-Vesta干式刻蚀机 |
TEL |
Telius SP-Vesta |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TECHNOS-TREX610光谱仪 |
TECHNOS |
TREX610 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
PHILIPS-PW2800 X-Ray检测设备 |
PHILIPS |
PW2800 X-Ray |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TYK-NEL-HR8500尾气处理设备 |
TYK |
NEL-HR8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-FL-820L湿法处理设备 |
DNS |
FL-820L |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-FL-820L湿法处理设备 |
DNS |
FL-820L |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-FC-821L湿法处理设备 |
DNS |
FC-821L |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
APPRECIA-ExcaliburISR湿法处理设备 |
APPRECIA |
ExcaliburISR |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-UW8000湿法处理设备 |
TEL |
UW8000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-UW8000湿法处理设备 |
TEL |
UW8000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-UW300Z湿法处理设备 |
TEL |
UW300Z |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HUGLE-UPC12000R湿法清洗设备 |
HUGLE |
UPC12000R |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SET-VRC-200T清洗机 |
SET |
VRC-200T |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-SS-W60A-AR清洗机 |
DNS |
SS-W60A-AR |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KNS-8060封装设备 |
KNS |
8060 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TAKIMOTO-TTS-6500WT超声波清洗机 |
TAKIMOTO |
TTS-6500WT |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
KOKUSAI-VR120S晶圆表面检测设备 |
KOKUSAI |
VR120S |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KOKUSAI-VR-120晶圆表面检测设备 |
KOKUSAI |
VR-120 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KOKUSAI-VR-30B晶圆表面检测设备 |
KOKUSAI |
VR-30B |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOPCON-WM-5000 晶圆表面检测设备 |
TOPCON |
WM-5000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TENCOR-Step Guage(Αstep)晶圆表面检测设备 |
TENCOR |
Step Guage(Αstep) |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK-IM-7晶圆表面检测设备 |
NIDEK |
IM-7 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK-IM-7晶圆表面检测设备 |
NIDEK |
IM-7 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
RIGAKU-SYS-3630晶圆表面检测设备 |
RIGAKU |
SYS-3630 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA-2131缺陷检测设备 |
KLA |
2131 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA-FLX2908晶圆表面检测设备 |
KLA |
FLX2908 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA-SFS-4500颗粒检测系统 |
KLA |
SFS-4500 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOKYO AIRCRAFT-MAC-92晶圆表面检测设备 |
TOKYO AIRCRAFT |
MAC-92 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE-WS-211-4-STA晶圆分选机 |
NONE |
WS-211-4-STA |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE-WS-211-4-FA晶圆分选机 |
NONE |
WS-211-4-FA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
RAMGRABER-RAMOS300-SST晶圆分选机 |
RAMGRABER |
RAMOS300-SST |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
BROOKS-MTX2000/2晶圆分选机 |
BROOKS |
MTX2000/2 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ROTHSE-RR6141晶圆分选机 |
ROTHSE |
RR6141 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SEIWA-WT256FS晶圆定位系统 |
SEIWA |
WT256FS |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SEIWA-WT256FS晶圆定位系统 |
SEIWA |
WT256FS |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-SS-3000晶圆清洗机 |
DNS |
SS-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA-AWUS3110探针台 |
KLA |
AWUS3110 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LH800-LH800晶圆键合机 |
LH800 |
LH800 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
INNOLAS GMBH-C3000DPS晶圆打标机 |
INNOLAS GMBH |
C3000DPS |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPAS-AL110 + MX61晶圆装卸机 |
OLYMPAS |
AL110 + MX61 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TORAY-INSPECTRA 100EX晶圆检测设备 |
TORAY |
INSPECTRA 100EX |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASYST-LPT2200晶圆装卸机 |
ASYST |
LPT2200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
VERTEX-VERTEX-3 DD-803气相沉积设备 |
VERTEX |
VERTEX-3 DD-803 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
USHIO-UMA-802-HC551NW紫外线固化设备 |
USHIO |
UMA-802-HC551NW |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
USHIO-UMA-802-HC551NW紫外线固化设备 |
USHIO |
UMA-802-HC551NW |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HORIBA-UT-300薄膜测量设备 |
HORIBA |
UT-300 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TERADYNE-MAGNUM1-PV测试机 |
TERADYNE |
MAGNUM1-PV |
1996 |
300mm设备完整不缺件,设备在韩国; |
国外
|
|
TEL-ACT8涂胶显影机(2C2D) |
TEL |
ACT8 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA-UV-1250SE薄膜测量系统 |
KLA |
UV-1250SE |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ADVANTEST-T5334测试检测设备 |
ADVANTEST |
T5334 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
YAMADA-FTOR3测试检测设备 |
YAMADA |
FTOR3 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TESEC-3701-ＴＴTT tester测试检测设备 |
TESEC |
3701-ＴＴTT tester |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TESEC-3701-ＴＴTT tester测试检测设备 |
TESEC |
3701-ＴＴTT tester |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SHIBASOKU-WL25测试检测设备 |
SHIBASOKU |
WL25 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SHIBASOKU-WL25测试检测设备 |
SHIBASOKU |
WL25 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-STM-603-PLS存储设备 |
DNS |
STM-603-PLS |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NITTO-TL-1键合机 |
NITTO |
TL-1 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TAKATORI-ATM-2100贴膜机 |
TAKATORI |
ATM-2100 |
- |
150mm设备完整不缺件(日本高鸟); |
国外
|
|
TAKATORI-ATM-1100B贴膜机 |
TAKATORI |
ATM-1100B |
- |
150mm设备完整不缺件(日本高鸟); |
国外
|
|
TAKATORI-ATM-1100B贴膜机 |
TAKATORI |
ATM-1100B |
- |
150mm设备完整不缺件(日本高鸟); |
国外
|
|
OLYMPAS-MX-50A+AL110+FD-120M显微镜 |
OLYMPAS |
MX-50A+AL110+FD-120M |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TORAY-SP-500B显微镜 |
TORAY |
SP-500B |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
VEECO-DEK-TAK 8000检测系统 |
VEECO |
DEK-TAK 8000 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LYON-KL-22浸没式粉尘仪 |
LYON |
KL-22 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LYON-KL-25浸没式粉尘仪 |
LYON |
KL-25 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Mattson-Aspen Ⅲ ICP等离子去胶机 |
Mattson |
Aspen Ⅲ ICP |
- |
300mm设备完整不缺件; |
已售出
|
|
CANON-Surpass 320等离子去胶机 |
CANON |
Surpass 320 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON-Surpass 320等离子去胶机 |
CANON |
Surpass 320 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON-NSR-2205i12D光刻机 |
NIKON |
NSR-2205i12D |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TRIKON-SIGMA2000光刻机 |
TRIKON |
SIGMA2000 |
- |
4"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-PR200Z旋涂仪 |
TEL |
PR200Z |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KOKUSAN-G-6甩干机 |
KOKUSAN |
G-6 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE-PALS DP2200SI接触式曝光机 |
NONE |
PALS DP2200SI |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
YOKOGAWA-TS600芯片测试机 |
YOKOGAWA |
TS600 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOPCON-DS-720扫描电子显微镜 |
TOPCON |
DS-720 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-S-5000扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-5000 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-IS3200SE扫描电子显微镜 |
HITACHI |
IS3200SE |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-I-5320N扫描电子显微镜 |
HITACHI |
I-5320N |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-RS-3000扫描电子显微镜 |
HITACHI |
RS-3000 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SCREEN-SS-W80A-AR尾气处理设备 |
SCREEN |
SS-W80A-AR |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Inhouse-WS-5020尾气处理设备 |
Inhouse |
WS-5020 |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-SPW-813A处理设备 |
DNS |
SPW-813A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-SC-200W涂胶显影机 |
DNS |
SC-200W |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-SDW-629-BV(P)显影机 |
DNS |
SDW-629-BV(P) |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-SDW-629-BV(P)显影机 |
DNS |
SDW-629-BV(P) |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-SSW-60A-AR尾气处理设备 |
DNS |
SSW-60A-AR |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-SSW-629B尾气处理设备 |
DNS |
SSW-629B |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS -SSW-60A-AR尾气处理设备 |
DNS |
SSW-60A-AR |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-SSW-629B尾气处理设备 |
DNS |
SSW-629B |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
EBARA-GDC250A晶圆清洗机 |
EBARA |
GDC250A |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
EBARA-GDC250SA晶圆清洗机 |
EBARA |
GDC250SA |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
EBARA-GDS250SA晶圆清洗机 |
EBARA |
GDS250SA |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
EBARA-GDS500SA晶圆清洗机 |
EBARA |
GDS500SA |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON-NSR-SF130光刻机 |
NIKON |
NSR-SF130 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON-NSR-S307光刻机 |
NIKON |
NSR-S307 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-S-8820扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-8820 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LEICA/VISTEC-MIS-200圆缺陷检测设备 |
LEICA/VISTEC |
MIS-200 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-Vantage_AP扩散炉 |
AMAT |
Vantage_AP |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-TE-8500M刻蚀机 |
TEL |
TE-8500M |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Semilab-FAAST 230DP SPV缺陷检测设备 |
Semilab |
FAAST 230DP SPV |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LEICA-INS-2000缺陷检测设备 |
LEICA |
INS-2000 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE-JFS9855S电子束缺陷检测设备 |
NONE |
JFS9855S |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
--PD-3000掩模设备 |
- |
PD-3000 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOKYO-TR6132UD-BF涂布机 |
TOKYO |
TR6132UD-BF |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-DUO涂胶显影机 |
DNS |
DUO |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AP-SYSTEM-KORONA-1200P快速退火炉 |
AP-SYSTEM |
KORONA-1200P |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AP-SYSTEM-KORONA-1200P快速退火炉 |
AP-SYSTEM |
KORONA-1200P |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LEICA-UV Optic Scope紫外光学观测仪 |
LEICA |
UV Optic Scope |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SHINSUNG Eng-SGL-30晶圆传输设备 |
SHINSUNG Eng |
SGL-30 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON-COSMOS I-1201物理气相沉积设备 |
CANON |
COSMOS I-1201 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON-COSMOS I-1201物理气相沉积设备 |
CANON |
COSMOS I-1201 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON-COSMOS I-1201物理气相沉积设备 |
CANON |
COSMOS I-1201 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LAM-INOVA物理气相沉积设备 |
LAM |
INOVA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMJ-Endura-CL MOCVD物理气相沉积设备 |
AMJ |
Endura-CL MOCVD |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA-AIT-3缺陷检测系统 |
KLA |
AIT-3 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA-2139缺陷检测设备 |
KLA |
2139 |
- |
200mm设备完整不缺件,设备状态差; |
国外
|
|
ACCRETECH/TSK-UF200A探针台 |
ACCRETECH/TSK |
UF200A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ACCRETECH/TSK-UF200A探针台 |
ACCRETECH/TSK |
UF200A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
MGI Electronics-ET-2000倒片机 |
MGI Electronics |
ET-2000 |
- |
6"设备完整不缺件,有2台现货; |
国内
|
|
DNS-SS-W60A晶圆湿法擦片清洗设备 |
DNS |
SS-W60A |
- |
6"设备完整不缺件; |
国内
|
|
DNS-SD-W80A-AVP显影机(2D) |
DNS |
SD-W80A-AVP |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
|
DNS-SS-W80A晶圆湿法擦片清洗设备 |
DNS |
SS-W80A |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
|
DNS-SCW-629B涂胶机(2C) |
DNS |
SCW-629B |
- |
6"设备完整不缺件; |
国内
|
|
DNS-SDW-629B显影机(2D) |
DNS |
SDW-629B |
- |
6"设备完整不缺件; |
国内
|
|
TEL-P-8 探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
200mm设备完整不缺件,有多台现货; |
国外
|
|
DNS-80A涂胶显影机(1C2D) |
DNS |
80A |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
|
ACCRETECH/TSK-UF200探针台 |
ACCRETECH/TSK |
UF200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-A-PM-90A探针台 |
TEL |
A-PM-90A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-P-12Xln+探针台 |
TEL |
P-12Xln+ |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-P-12XLn探针台 |
TEL |
P-12XLn |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ACCRETECH/TSK-UF200SA 探针台 |
ACCRETECH/TSK |
UF200SA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-SKW-80A-AVPE显影机(3D) |
DNS |
SKW-80A-AVPE |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
|
ADVANTEST-T3347A探针台 |
ADVANTEST |
T3347A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-P-12XL探针台 |
TEL |
P-12XL |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-P-12XL探针台 |
TEL |
P-12XL |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-HA5030Q探针台 |
HITACHI |
HA5030Q |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-20S PROBER探针台 |
TEL |
20S PROBER |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Electroglas-EG-4080X探针台 |
Electroglas |
EG-4080X |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-80S探针台 |
TEL |
80S |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KCTEC-KCT-W300F减薄机 |
KCTEC |
KCT-W300F |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DANTAKUMA-SNOS 302FX晶圆封装设备 |
DANTAKUMA |
SNOS 302FX |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON-NSR-S204光刻机 |
NIKON |
NSR-S204 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
USHIO-SE-521D-NW光刻机 |
USHIO |
SE-521D-NW |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM-Eagle12等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle12 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM-Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM-Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM-Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM-Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM-Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM-Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM-Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM-Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM-Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
 |
DISCO-DFG8560研磨机 |
DISCO |
DFG8560 |
2005/2007 |
12"设备完整不缺件,有2台现货,含安装调试+质保6个月; |
国内
|
|
ASM-DRAGON气相沉积设备 |
ASM |
DRAGON |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LION-KZ-30U空气颗粒物采样设备 |
LION |
KZ-30U |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AGILENT/HP-HP4071A参数分析仪 |
AGILENT/HP |
HP4071A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AGILENT/HP-HP4071A参数分析仪 |
AGILENT/HP |
HP4071A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE-OZ-4000刻蚀机 |
NONE |
OZ-4000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE-OZ-4000刻蚀机 |
NONE |
OZ-4000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE-ILD-4033刻蚀机 |
NONE |
ILD-4033 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA-Archer 10套刻精度测量设备 |
KLA |
Archer 10 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE-SST-C-632-281有机剥离设备 |
NONE |
SST-C-632-281 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-Endura-CL MOCVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Endura-CL MOCVD |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DAITRON-IM-15显微镜 |
DAITRON |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DAITRON-IM-15显微镜 |
DAITRON |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPUS-AHMT3显微镜 |
OLYMPUS |
AHMT3 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPUS-AL120-AMB6-150显微镜 |
OLYMPUS |
AL120-AMB6-150 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPUS-OLS3000显微镜 |
OLYMPUS |
OLS3000 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK-IM-15显微镜 |
NIDEK |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK-IM-15显微镜 |
NIDEK |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK-IM-15显微镜 |
NIDEK |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK-IM-15显微镜 |
NIDEK |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK-IM-15显微镜 |
NIDEK |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK-IM-15显微镜 |
NIDEK |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK-IM-15显微镜 |
NIDEK |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPUS-INSPB01显微镜 |
OLYMPUS |
INSPB01 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPUS-BH2显微镜 |
OLYMPUS |
BH2 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPUS-BH2显微镜 |
OLYMPUS |
BH2 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPUS-BH2显微镜 |
OLYMPUS |
BH2 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE-NWS-200R 量测设备 |
NONE |
NWS-200R |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE- WS-211-4-FAR 量测设备 |
NONE |
WS-211-4-FAR |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE-ST-3525量测设备 |
NONE |
ST-3525 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Rudolph-MP200膜厚测试仪 |
Rudolph |
MP200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
MIWA-L115C 1520AK量测设备 |
MIWA |
L115C 1520AK |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Rudolph-MPC 200XCu膜厚测试仪 |
Rudolph |
MPC 200XCu |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Rudolph-MP200膜厚测试仪 |
Rudolph |
MP200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-SK-W80A-AVP涂胶显影机(3C2D) |
DNS |
SK-W80A-AVP |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
|
TEL-Trias Ti/TiN化学气相沉积设备 |
TEL |
Trias Ti/TiN |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON-NSR-1505G4D步进式光刻机 |
NIKON |
NSR-1505G4D |
- |
6"设备完整不缺件,有5台现货; |
国内
|
|
HITACHI-S-9220扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-9220 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SONY-IRG-12光罩缺陷检测设备 |
SONY |
IRG-12 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LASERTEC-9MD62S掩模缺陷检测设备 |
LASERTEC |
9MD62S |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON-MPA-500FAB光刻机 |
CANON |
MPA-500FAB |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON-NSR-1755G7A光刻机 |
NIKON |
NSR-1755G7A |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON-NSR-2005i8A光刻机 |
NIKON |
NSR-2005i8A |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
N/A-MNW-201B光刻机 |
N/A |
MNW-201B |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON-PLA-501FA投影式光刻机 |
CANON |
PLA-501FA |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON-PLA-501FA投影式光刻机 |
CANON |
PLA-501FA |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON-MPA-500FAB光刻机 |
CANON |
MPA-500FAB |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOKYO-MAC-92光罩缺陷检测设备 |
TOKYO |
MAC-92 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA-2131缺陷检测设备 |
KLA |
2131 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TORAY-1000EX-2光罩缺陷检测设备 |
TORAY |
1000EX-2 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TORAY-1000EX-2光罩缺陷检测设备 |
TORAY |
1000EX-2 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TORAY-1000EX-2光罩缺陷检测设备 |
TORAY |
1000EX-2 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON-AMI-3500量测对准设备 |
NIKON |
AMI-3500 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON-AMI-3000量测对准设备 |
NIKON |
AMI-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON-AMI-3000量测对准设备 |
NIKON |
AMI-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SCREEN -SK-3000-BVPEU干法刻蚀机 |
SCREEN |
SK-3000-BVPEU |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TKK-RETICLE TRANSFER掩模设备 |
TKK |
RETICLE TRANSFER |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LION-KH-02颗粒检测仪 |
LION |
KH-02 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LION-KZ-36U颗粒检测仪 |
LION |
KZ-36U |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KOBELCO -LTA-1000量测设备 |
KOBELCO |
LTA-1000 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-TS-3700粉尘监测仪 |
HITACHI |
TS-3700 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-LA-820退火炉 |
DNS |
LA-820 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-RTP XE CENTURA退火炉 |
AMAT |
RTP XE CENTURA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON-HP-2106退火炉 |
CANON |
HP-2106 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOPCON-VI-3200载盘检测系统 |
TOPCON |
VI-3200 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
RIGAKU-3604光谱分析仪 |
RIGAKU |
3604 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-VIISTA HC 大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-VIISTA HC 大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON-NSR-2005i9C步进式光刻机 |
NIKON |
NSR-2005i9C |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON-NSR-2005i8A光刻机-备件机 |
NIKON |
NSR-2005i8A |
- |
备件机; |
已售出
|
|
SUSS-Falcon Polyimid Developer晶圆键合设备 |
SUSS |
Falcon Polyimid Developer |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SUSS-CB200晶圆键合设备 |
SUSS |
CB200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-FORMULA立式扩散炉 |
TEL |
FORMULA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-FORMULA立式扩散炉 |
TEL |
FORMULA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-ALPHA-85Z立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-85Z |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-ALPHA-801D立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-801D |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-ALPHA-85Z立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-85Z |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-INDY-PE_6L2B立式扩散炉 |
TEL |
INDY-PE_6L2B |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TBC-Bio-Rad红外光谱仪 |
TBC |
Bio-Rad |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
ESPEC -PHH-201M 环境测试设备 |
ESPEC |
PHH-201M |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
RIGAKU-GXR300射线分析仪 |
RIGAKU |
GXR300 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SCREEN-SP-W621刻蚀机 |
SCREEN |
SP-W621 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-M-602A干法刻蚀机 |
HITACHI |
M-602A |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-VESTA-NV3刻蚀机 |
TEL |
VESTA-NV3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-VESTA-NV3刻蚀机 |
TEL |
VESTA-NV3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-G5-MESA刻蚀机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-G5-MESA刻蚀机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-G5-MESA刻蚀机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-G5-MESA刻蚀机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-G5-MESA刻蚀机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-TE-8500刻蚀机 |
TEL |
TE-8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-UNITY PE刻蚀机 |
TEL |
UNITY PE |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-Centura Etch Enabler 300 2刻蚀机 |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-Centura Etch Enabler 300 2刻蚀机 |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-Telius DRM T-3055DD刻蚀机 |
TEL |
Telius DRM T-3055DD |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-U-702A刻蚀机 |
HITACHI |
U-702A |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-TE-8500PEEATC刻蚀机 |
TEL |
TE-8500PEEATC |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-UNITY IIe-855PP DP?刻蚀机 |
TEL |
UNITY IIe-855PP DP? |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-UNITY IIe-855Ⅱ IEM刻蚀机 |
TEL |
UNITY IIe-855Ⅱ IEM |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-TeliusSP-3055SS刻蚀机 |
TEL |
TeliusSP-3055SS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-Centura Enabler刻蚀机 |
AMAT |
Centura Enabler |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AXCELIS-ES3刻蚀机 |
AXCELIS |
ES3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AXCELIS-ES3刻蚀机 |
AXCELIS |
ES3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ANELVA- ILD-4015刻蚀机 |
ANELVA |
ILD-4015 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ANELVA- ILD-4015刻蚀机 |
ANELVA |
ILD-4015 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-TE5000ATC涂胶显影机 |
TEL |
TE5000ATC |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-Unity2e-855Ⅱ干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855Ⅱ |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-Unity2e-855Ⅱ干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855Ⅱ |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-Unity2e-855Ⅱ干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855Ⅱ |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-Unity2e-855SS 干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855SS |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
PSK-ULTIMA3(AC Rack only)刻蚀机 |
PSK |
ULTIMA3(AC Rack only) |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LAM-TORUS200刻蚀机 |
LAM |
TORUS200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LAM-TORUS200刻蚀机 |
LAM |
TORUS200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TAKAKI-ETM-3010S测试仪 |
TAKAKI |
ETM-3010S |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Rudolph-FE-7薄膜厚度测量仪 |
Rudolph |
FE-7 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON-NSR-SF130光刻机 |
NIKON |
NSR-SF130 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-Raider ECD310电化学沉积设备 |
AMAT |
Raider ECD310 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
INFICON-14115 UL200 DRY氦质谱检漏仪 |
INFICON |
14115 UL200 DRY |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NEC-RIE Dry Etching干式刻蚀机 |
NEC |
RIE Dry Etching |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE-TSE-2600SE干式刻蚀机 |
NONE |
TSE-2600SE |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOK-TCA-2600SE干式刻蚀机 |
TOK |
TCA-2600SE |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOK-TCA-3822干式刻蚀机 |
TOK |
TCA-3822 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-TE8500干式刻蚀机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-TE8500干式刻蚀机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-CenturaHDP 5300Omega干式刻蚀机 |
AMAT |
CenturaHDP 5300Omega |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-Tactras NCCP SCCM干式刻蚀机 |
TEL |
Tactras NCCP SCCM |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-VIGUS干式刻蚀机 |
TEL |
VIGUS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI-U-702干式刻蚀机 |
HITACHI |
U-702 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-Unity2e-855DPA干式刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855DPA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-Unity2e-85TPATC干式刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-85TPATC |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL -TE8500干式刻蚀机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL -TE8500干式刻蚀机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL -TE8500干式刻蚀机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL -TE8500干式刻蚀机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-UNITY 2e-855DD 干式刻蚀机 |
TEL |
UNITY 2e-855DD |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
FUJITSU-VA-2000测试系统 |
FUJITSU |
VA-2000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SHINKO SEIKI-SPR-30MLP2G探针台 |
SHINKO SEIKI |
SPR-30MLP2G |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-SS-W80A-AR清洗机 |
DNS |
SS-W80A-AR |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Hewlett-Packard-DIGITAL MULTI METER测量设备 |
Hewlett-Packard |
DIGITAL MULTI METER |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Datacon-2200 apm全自动贴片机 |
Datacon |
2200 apm |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NAGASE SANGYO-HE LEAK_ASM-12检测设备 |
NAGASE SANGYO |
HE LEAK_ASM-12 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS -MIS-200缺陷复检工具 |
DNS |
MIS-200 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS -MIS-200缺陷复检工具 |
DNS |
MIS-200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS -MIS-200缺陷复检工具 |
DNS |
MIS-200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-UVISION4缺陷检测工具 |
AMAT |
UVISION4 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE-SYSTEM1188去胶设备 |
NONE |
SYSTEM1188 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
UNAXIS-CLC200薄膜沉积设备 |
UNAXIS |
CLC200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-HTF-Centura EPI外延沉积设备 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT-HTF-Centura EPI外延沉积设备 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON-PLA-501FA投影式光刻机 |
CANON |
PLA-501FA |
- |
6"设备完整不缺件,有3台现货; |
国内
|
|
ATV-PEO-601桌面退火炉 |
ATV |
PEO-601 |
- |
6"设备完整不缺件; |
国内
|
 |
KLA-8520表面缺陷检测系统 |
KLA |
8520 |
2022 |
6"设备完整不缺件;
电压:208/230+10% VAC,单相 |
国外
|
|
ATV-PEO-603桌面退火炉 |
ATV |
PEO-603 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
 |
CANON-FPA-5500iZ+步进式光刻机 |
CANON |
FPA-5500iZ+ |
2004 |
12"设备完整不缺件,在欧洲;
Block 2:- 4x Coa |
国外
|
|
IPS-MAHA-SP气相沉积设备 |
IPS |
MAHA-SP |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-TRIAS化学气相沉积设备 |
TEL |
TRIAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LAM-ALTUS(Chamber only)气相沉积设备 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LAM-ALTUS(Chamber only)气相沉积设备 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
FRONTIER-FSM128LC2C气相沉积设备 |
FRONTIER |
FSM128LC2C |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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AGILENT-PA200HS测试仪 |
AGILENT |
PA200HS |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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NIKON-NSR-S306光刻机 |
NIKON |
NSR-S306 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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NONE-GEMINI PCU干法等离子去胶机 |
NONE |
GEMINI PCU |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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TEL-ACT12涂胶显影机 |
TEL |
ACT12 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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TEL-MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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SCREEN-SDW-80A涂胶显影机 |
SCREEN |
SDW-80A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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SCREEN-SCW-80A涂胶显影机 |
SCREEN |
SCW-80A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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AMAT-RF3 涂胶显影机 |
AMAT |
RF3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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DNS-RF3S涂胶显影机 |
DNS |
RF3S |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-RF3涂胶显影机 |
DNS |
RF3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-RF3涂胶显影机 |
DNS |
RF3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS-RF3涂胶显影机 |
DNS |
RF3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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SPEED FAM-SPEEDFAM CMP-2机械抛光设备 |
SPEED FAM |
SPEEDFAM CMP-2 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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SANKYO-AC-6022清洗机 |
SANKYO |
AC-6022 |
- |
5-6"设备完整不缺件; |
国外
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ZEUS-PEGASUS_NEW清洗机 |
ZEUS |
PEGASUS_NEW |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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TEL-CERTAS刻蚀机 |
TEL |
CERTAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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SEMITOOL-A870S#1甩干机 |
SEMITOOL |
A870S#1 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
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SHIBAURA-CDE-7-3晶圆清洗机 |
SHIBAURA |
CDE-7-3 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
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SHIBAURA-CDE-7-3B晶圆清洗机 |
SHIBAURA |
CDE-7-3B |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
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SHIBAURA-CDE-7-3A晶圆清洗机 |
SHIBAURA |
CDE-7-3A |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
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EBARA-EAC300bi-T研磨设备 |
EBARA |
EAC300bi-T |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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|
EBARA-EAC300bi-T研磨设备 |
EBARA |
EAC300bi-T |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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KLA-2401缺陷检测设备 |
KLA |
2401 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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TEL-FORMULA去胶机 |
TEL |
FORMULA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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TOKYO-TCA-3822去胶机 |
TOKYO |
TCA-3822 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
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FUSION-200ACU去胶机 |
FUSION |
200ACU |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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FUSION-200ACU去胶机 |
FUSION |
200ACU |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
FUSION-200ACU去胶机 |
FUSION |
200ACU |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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|
RAMCO-RAM8500去胶机 |
RAMCO |
RAM8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
RAMCO-RAM8500去胶机 |
RAMCO |
RAM8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
RAMCO-RAM8500去胶机 |
RAMCO |
RAM8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
RAMCO-RAM8500去胶机 |
RAMCO |
RAM8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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SHIBA TEC-ICE300去胶机 |
SHIBA TEC |
ICE300 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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SHIBA TEC-ICE300去胶机 |
SHIBA TEC |
ICE300 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SHIBA TEC-ICE300去胶机 |
SHIBA TEC |
ICE300 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SHIBA TEC-ICE300去胶机 |
SHIBA TEC |
ICE300 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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|
ULVAC-UNA2200去胶机 |
ULVAC |
UNA2200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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ULVAC-PHOENIX Ⅱ去胶机 |
ULVAC |
PHOENIX Ⅱ |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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|
DNS-DUOI涂胶显影机 |
DNS |
DUOI |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
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OLYMPUS-MX50/AL100显微镜 |
OLYMPUS |
MX50/AL100 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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|
AMAT-CENTURE MXP刻蚀机 |
AMAT |
CENTURE MXP |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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HITACHI-WA-200缺陷检测设备 |
HITACHI |
WA-200 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AKIM-ATTS56退火炉 |
AKIM |
ATTS56 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-TE8500ATC刻蚀机 |
TEL |
TE8500ATC |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNK-MA-4200光刻机 |
DNK |
MA-4200 |
2010 |
设备完整不缺件,江西在线热机; |
国内
|
 |
JEOL-JBX-8100FS G2电子束光刻机 |
JEOL |
JBX-8100FS G2 |
2022 |
设备完整不缺件,设备很少使用,50KV; |
已售出
|
 |
SUSS-MA6/BA6光刻机(双面) |
SUSS |
MA6/BA6 |
1997 |
6"设备完整不缺件,欧洲翻新中; |
国外
|
 |
DISCO-DFL7161激光开槽机 |
DISCO |
DFL7161 |
2020 |
6"设备完整不缺件,有2台现货,之前切2"&4"蓝宝石Wafer, |
国外
|
 |
KLA-SF27缺陷检测 |
KLA |
SF27 |
- |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
CANON-FPA-3000EX5光刻机 |
CANON |
FPA-3000EX5 |
1998 |
设备完整不缺件,国内交货,含安装调试; |
国外
|
 |
CANON-FPA-3000EX6光刻机 |
CANON |
FPA-3000EX6 |
2001 |
8"设备完整不缺件,可改6"4"; |
国内
|
 |
NIKON-NSR-2005i10C光刻机 |
NIKON |
NSR-2005i10C |
- |
设备完整不缺件; |
已售出
|
 |
KLA-CS20R表面分析仪 |
KLA |
CS20R |
2010 |
设备完整不缺件,安装调试+质保6个月,费用加25万元; |
国内
|
 |
ASML-PAS 5500/1150C光刻机 |
ASML |
PAS 5500/1150C |
2006 |
8"设备完整不缺件200mm,在欧洲; |
国外
|
 |
HITACHI-SU-8010扫描电镜 |
HITACHI |
SU-8010 |
2013 |
设备完整不缺件,含安装调试培训; |
国内
|
 |
PVA TePla-IoN 40等离子清洗机 |
PVA TePla |
IoN 40 |
2022 |
德国产设备完整不缺件; |
已售出
|
 |
DELTA-5001离线分拣机 |
DELTA |
5001 |
2018 |
设备完整不缺件,有2台现货,无硬盘; |
国内
|
 |
FULINTEC-FU-20 PEB-RH-1200蒸发台 |
FULINTEC |
FU-20 PEB-RH-1200 |
2007 |
设备完整不缺件,台湾富临1米2腔体,在无尘室没有拆机,坩埚4个*4 |
已售出
|
 |
TOHO-FLX-2320-S应力测试仪 |
TOHO |
FLX-2320-S |
2007 |
设备完整不缺件; |
已售出
|
|
Aixtron-2800G5+化学气相沉积 |
Aixtron |
2800G5+ |
2013 |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
Aixtron-2800G4 HT设备 |
Aixtron |
2800G4 HT |
2007 |
设备完整不缺件; |
国外
|
 |
EVATEC-RAD BPM3薄膜沉积设备 |
EVATEC |
RAD BPM3 |
2019 |
设备完整不缺件; |
国内
|
|
HITACHI-S-7840扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-7840 |
2000 |
4"设备完整不缺件100mm; |
国外
|
 |
EBARA-F-REX300 CMP化学机械研磨 |
EBARA |
F-REX300 CMP |
2002 |
12"设备完整不缺件300mm; |
国外
|
 |
ULVAC-Zi-1000N薄膜测量系统 |
ULVAC |
Zi-1000N |
2001 |
少冷冻机,其他都完整; |
国内
|
 |
KLA-Leica INS3300晶圆缺陷检测 |
KLA |
Leica INS3300 |
2015 |
设备完整不缺件; |
国内
|
 |
TEL-ALPHA-808SC化学气相沉积 |
TEL |
ALPHA-808SC |
1994 |
在线热机,设备完整不缺件; |
国外
|
 |
Aixtron-2800G5 HT化学气相沉积 |
Aixtron |
2800G5 HT |
2016 |
4"6"设备完整不缺件,3相,4线+地,208/120V,满载安培 |
国外
|
 |
ASM-Epsilon 2000 EPI PR外延沉积设备 |
ASM |
Epsilon 2000 EPI PR |
2001 |
设备完整不缺件,在线热机在欧洲,有4台现货(有台2000年); |
国外
|
|
VEECO-K475化学气相沉积 |
VEECO |
K475 |
2015 |
6"(可设置为任何晶圆尺寸),AsH3 PH3 N2 H2, 8片 |
国外
|
|
DNS-CW-2000晶圆清洗机 |
DNS |
CW-2000 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
 |
TEL-TE-8500刻蚀机 |
TEL |
TE-8500 |
1995 |
设备完整不缺件,单腔,可以刻蚀SiO2和SiN,150mm已调试好 |
国内
|
 |
ASM-AD838L-G2全自动固晶机 |
ASM |
AD838L-G2 |
2015 |
设备完整不缺件; |
国内
|
|
NIKON-NSR-TFHi14DL光刻机 |
NIKON |
NSR-TFHi14DL |
2006 |
8"设备完整不缺件,200mm; |
已售出
|
|
DISCO-DFG840晶圆减薄机 |
DISCO |
DFG840 |
2005 |
设备完整不缺件; |
国外
|
 |
DISCO-DFG8560研磨机 |
DISCO |
DFG8560 |
2004 |
12"设备完整不缺件,在线热机; |
已售出
|
|
DISCO-DFD6350晶圆切割机 |
DISCO |
DFD6350 |
2003 |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL-MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA-SP2晶圆检测系统 |
KLA |
SP2 |
2011 |
设备完整不缺件,在线热机,晶圆片300mm; |
国外
|
 |
DISCO-DFG850晶圆减薄机 |
DISCO |
DFG850 |
2000 |
设备完整不缺件,设备已被拆卸并存储在仓库中; |
国外
|
 |
TEL-ALPHA-8S高温扩散炉 |
TEL |
ALPHA-8S |
1998 |
设备完整不缺件,有4台现货在美国; |
国外
|
 |
AMAT-Endura 5500气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1996 |
6"PVD System,
Can be converted |
国外
|
 |
DISCO-DFG8540研磨机 |
DISCO |
DFG8540 |
2017 |
8"设备完整不缺件,含安装调试+6个月质保; |
国内
|
 |
KLA-8420表面缺陷检测系统 |
KLA |
8420 |
2020 |
6"设备完整不缺件,20年入厂,设备九成新以上,目前在湖南仓库中, |
国内
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