| ID |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
| 4631 |
AMAT ENDURA HP气相沉积设备 |
AMAT |
ENDURA HP |
2004 |
8"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
| 4614 |
AMAT VIISTA HC大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
设备完整不缺件； |
国外
|
| 4588 |
AMAT Centura-DPS刻蚀机 |
AMAT |
Centura-DPS |
2007 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
| 4587 |
AMAT Centura AP-DPS刻蚀机 |
AMAT |
Centura AP-DPS |
2005 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
| 4575 |
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT Chamber |
- |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
| 4574 |
AMAT Centura WxZ刻蚀机 |
AMAT |
Centura WxZ |
2000 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 4567 |
AMAT Reflexion miniship LK机械抛光设备 |
AMAT |
Reflexion miniship LK |
- |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
| 4450 |
AMAT Vantage_AP扩散炉 |
AMAT |
Vantage_AP |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4384 |
AMAT Endura-CL (MOCVD)化学气相沉积设备 |
AMAT |
Endura-CL (MOCVD) |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4332 |
AMAT RTP XE CENTURA退火炉 |
AMAT |
RTP XE CENTURA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4328 |
AMAT VIISTA HC大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4327 |
AMAT VIISTA HC大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4309 |
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4308 |
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4307 |
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4306 |
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4305 |
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4302 |
AMAT Centura Etch Enabler 300 2蚀刻机 |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4301 |
AMAT Centura Etch Enabler 300 2蚀刻机 |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4294 |
AMAT Centura Enabler蚀刻机 |
AMAT |
Centura Enabler |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4278 |
AMAT Raider ECD310电化学沉积设备 |
AMAT |
Raider ECD310 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4270 |
AMAT CenturaHDP 5300Omega干式蚀刻机 |
AMAT |
CenturaHDP 5300Omega |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4250 |
AMAT UVISION4缺陷检测工具 |
AMAT |
UVISION4 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4247 |
AMAT HTF-Centura EPI外延沉积设备 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4246 |
AMAT HTF-Centura EPI外延沉积设备 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4228 |
AMAT RF3 涂胶显影机 |
AMAT |
RF3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4195 |
AMAT CENTURE MXP刻蚀机 |
AMAT |
CENTURE MXP |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4154 |
AMAT Endura 5500 MOCVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1996 |
6"PVD System,
Can be |
国外
|
| 4107 |
AMAT P5000刻蚀机(PECVD) |
AMAT |
P5000 |
1996 |
6"设备完整不缺件;
2腔:SiO2+Si |
国外
|
| 4106 |
AMAT P5000刻蚀机(2腔) |
AMAT |
P5000 |
1999 |
6"设备完整不缺件;
Metal Etch |
国外
|
| 4020 |
AMAT mirra MESA CMP化学机械抛光设备 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
2002 |
设备完整不缺件,已翻新在国内; |
国外
|
| 4017 |
AMAT Endura II气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II |
- |
有2台现货; |
已售出
|
| 4016 |
AMAT Endura CL PVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura CL |
1994 |
1台主机+IMP舱室+2个舱室+1台EFEM |
国内
|
| 4015 |
AMAT CENTRIS MESA ETCH沉积蚀刻 |
AMAT |
CENTRIS MESA ETCH |
- |
有2台现货(1个主机+3个双室,射频机器人涡 |
国内
|
| 3999 |
AMAT Endura II PVD 9个腔室气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II PVD 9 |
2007 |
12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库;
|
国外
|
| 3998 |
AMAT Endura II PVD 8个腔室气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II PVD 8 |
2007 |
12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库;
|
国外
|
| 3921 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1996 |
6"设备完整不缺件,3腔; |
国内
|
| 3914 |
AMAT Centura 5200刻蚀机 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,8英寸3腔表观系统; |
国外
|
| 3795 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1996 |
CVD 3chamber;nitride
|
国外
|
| 3732 |
AMAT 8330干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
- |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片, |
国内
|
| 3731 |
AMAT 8330干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1988.8 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
| 3730 |
AMAT 8330干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1990.2 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
| 3729 |
AMAT 8310干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1990 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
| 3728 |
AMAT 8310干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1992.6 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
| 3727 |
AMAT 8310干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1991.5 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
| 3726 |
AMAT 8330干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1990.5 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
| 3725 |
AMAT 8330干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1990.7 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
| 3724 |
AMAT 8330干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1990.7 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
| 3723 |
AMAT 8330干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1991.4 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
| 3722 |
AMAT 8310干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1988.6 |
6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; |
国内
|
| 3721 |
AMAT AMS-2100干法刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
AMS-2100 |
- |
在线热机; |
国内
|
| 3323 |
AMAT Endura 5500 MOCVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1995-1997 |
设备完整不缺件,有7台现货,1995年3台, |
国外
|
| 3178 |
AMAT Producer GT3 PECVD等离子化学气相沉积 |
AMAT |
Producer GT3 |
2023-2025 |
设备完整不缺件,有11台现货; |
国外
|
| 3124 |
YAMATO PR510去胶机 |
YAMATO |
PR510 |
1985-1999 |
设备完整不缺件,有8台现货; |
国内
|
| 3121 |
HAMAMATSU PHCMOS-200检测仪 |
HAMAMATSU |
PHCMOS-200 |
- |
设备完整不缺件,有1台现货; |
国内
|
| 2825 |
YAMATO DKN402烤箱 |
YAMATO |
DKN402 |
- |
- |
国外
|
| 2661 |
AMAT 8310刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1988/1991/ |
在购热机 6" 刻压点;18片/炉;最大18 |
国外
|
| 2660 |
AMAT 8330刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1991.4 |
在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大18 |
国外
|
| 2491 |
AMAT AME8111刻蚀机 |
AMAT |
AME8111 |
- |
设备完整不缺件,有1台现货; |
国内
|
| 2424 |
AMAT MATERIALS CENTURA ENABLER干法刻蚀设备 |
AMAT应用材料 |
MATERIALS CENTURA ENABLER |
2008 |
System
AC Rack
M |
国外
|
| 2422 |
AMAT MATERIALS Centura HTF EPI外延沉积 |
AMAT应用材料 |
MATERIALS Centura HTF EPI Syst |
- |
美国已下线 |
国外
|
| 2413 |
AMAT Producer-GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT应用材料 |
Producer-GT CVD |
- |
As-is |
国外
|
| 2410 |
AMAT mirra MESA CMP化学机械抛光设备 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
- |
FULL REPUB |
国外
|
| 2397 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1995 |
设备完整不缺件,有10台现货; |
国外
|
| 2391 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
设备完整不缺件,1 CVD+1蚀刻; |
国外
|
| 2374 |
AMAT Amat Centura2 DSP等离子化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Amat Centura2 DSP |
- |
8 As-is |
国外
|
| 2373 |
AMAT Centura Ultima HDP等离子化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Centura Ultima HDP |
- |
8 As-is |
国外
|
| 2372 |
AMAT Centura Ultima等离子化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Centura Ultima |
- |
8 As-is |
国外
|
| 2371 |
AMAT Centura2 DPS+Poly Etch干法蚀刻机 |
AMAT应用材料 |
Centura2 DPS+Poly Etch |
- |
8 As-is |
国外
|
| 2346 |
AMAT P5000 PLIS刻蚀机 |
AMAT |
P5000 PLIS |
- |
翻新机Standard TEOS USG x |
国外
|
| 2327 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
2CH / 3CH |
国外
|
| 2303 |
AMAT Vera SEM 3D测量系统 |
AMAT应用材料 |
Vera SEM 3D |
- |
Metrology |
国外
|
| 2302 |
AMAT Vera SEM 3D测量系统 |
AMAT应用材料 |
Vera SEM 3D |
- |
Metrology |
国外
|
| 2270 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1995 |
2 chambers CVD
3 cham |
国外
|
| 2261 |
AMAT Centura 5200刻蚀机 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
CVD System,6"(3)Chambe |
国外
|
| 2260 |
AMAT Centura AP Minos Polysili蚀刻机 |
AMAT |
Centura AP Minos Polysili |
- |
- |
国内
|
| 2205 |
AMAT VIISta9003D高温中束流离子注入机 |
AMAT |
VIISta9003D |
- |
设备完整不缺件,现货在浙江B;2000275 |
国内
|
| 2204 |
AMAT VIISta9003D高温中束流离子注入机 |
AMAT |
VIISta9003D |
- |
设备完整不缺件,现货在浙江B;2000275 |
国内
|
| 2203 |
AMAT Endura5500正面金属溅镀机 |
AMAT |
Endura5500 |
- |
设备完整不缺件,现货在浙江B;2000285 |
国内
|
| 2175 |
AMAT P5000化学气相沉积台 |
AMAT |
P5000 |
- |
设备完整不缺件,现货在浙江;20002218 |
国内
|
| 2174 |
AMAT P5000多晶硅干法蚀刻机 |
AMAT |
P5000 |
- |
设备完整不缺件,现货在浙江;20000739 |
国内
|
| 2143 |
AMAT P-5000多晶硅等离子体刻蚀机 |
AMAT |
P-5000 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000637 |
国内
|
| 2142 |
AMAT Centura HTF 3ch外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000792 |
国内
|
| 2141 |
AMAT Centura HTF 3ch外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000791 |
国内
|
| 2140 |
AMAT Centura HTF 3ch外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000790 |
国内
|
| 2139 |
AMAT Centura HTF 3ch外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000789 |
国内
|
| 2138 |
AMAT Centura HTF 3ch外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000788 |
国内
|
| 2137 |
AMAT Centura HTF 3ch外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000787 |
国内
|
| 2136 |
AMAT Centura HTF 3ch外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000786 |
国内
|
| 2135 |
AMAT Centura HTF 3ch外延设备 |
AMAT |
Centura HTF 3ch |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000785 |
国内
|
| 2134 |
AMAT Centura PVD溅镀机 |
AMAT |
Centura PVD |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000758 |
国内
|
| 2132 |
AMAT Centura 5200外延设备 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000798 |
国内
|
| 2131 |
AMAT Centura 5200外延设备 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000797 |
国内
|
| 2130 |
AMAT Centura 5200外延设备 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000796 |
国内
|
| 2129 |
AMAT Centura 5200外延设备 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000795 |
国内
|
| 2128 |
AMAT Centura 5200外延设备 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000794 |
国内
|
| 2127 |
AMAT Centura 5200外延设备 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;20000793 |
国内
|
| 2112 |
AMAT Centura 5200外延炉连接 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;30000930 |
国内
|
| 2111 |
AMAT Centura 5200外延炉连接 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;30000929 |
国内
|
| 2110 |
AMAT Centura 5200外延炉连接 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在山东;30000928 |
国内
|
| 1987 |
AMAT MATERIALS CENTURA AP MINOS蚀刻机 |
AMAT应用材料 |
APPLIED MATERIALS CENTURA AP M |
- |
- |
国外
|
| 1981 |
AMAT 8310氧化物蚀刻器 |
AMAT应用材料 |
8310 |
- |
8" |
国外
|
| 1963 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
- |
国内
|
| 1801 |
AMAT CENTURA PVD溅射机 |
AMAT |
CENTURA PVD |
- |
设备完整不缺件;10300138 |
国内
|
| 1786 |
AMAT Endura 5500物理气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
- |
设备完整不缺件;30100105 |
国内
|
| 1785 |
AMAT Endura 5500溅射机 |
AMAT |
Endura 5500 |
- |
设备完整不缺件;10300157 |
国内
|
| 1738 |
AMAT P5000化学气相沉积 |
AMAT |
P5000 |
- |
设备完整不缺件;30100047 |
国内
|
| 1704 |
AMAT AKT-3500蚀刻机 |
AMAT应用材料 |
AKT-3500 |
2018 |
CVD |
国外
|
| 1703 |
AMAT Centura DPS刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura DPS |
1998 |
ETCH |
国外
|
| 1702 |
AMAT Centura DXZ刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura DXZ |
1999 |
CVD |
国外
|
| 1701 |
AMAT Centura MXP刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura MXP |
1997 |
ETCH |
国外
|
| 1700 |
AMAT Centura XE刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura XE |
2003 |
RTP |
国外
|
| 1699 |
AMAT Centura XE+刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura XE+ |
2003 |
RTP |
国外
|
| 1698 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
设备完整不缺件,有4台现货; |
国内
|
| 1634 |
AMAT Centura DPs Metal Etch刻蚀机 |
AMAT |
Centura DPs Metal Etch |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
| 1633 |
AMAT Centura DPS2 Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Etch |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
| 1632 |
AMAT Centura DPS2 Poly Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Poly Etch |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
| 1631 |
AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer SE CVD |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
| 1630 |
AMAT Centura DPS2 AdvantEdge G等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 AdvantEdge G |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
| 1561 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1998/1999/ |
设备完整不缺件,有6台现货; |
国内
|
| 1560 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1995/1999/ |
设备完整不缺件,有3台现货; |
国内
|
| 1506 |
AMAT Centura DPS+Poly Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS+Poly Etch |
- |
As-is |
国外
|
| 1505 |
AMAT Producer-GT CVD化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Producer-GT CVD |
- |
As-is |
国外
|
| 1504 |
AMAT mirra MESA CMP化学机械抛光设备 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
- |
FULL REPUB |
国外
|
| 1473 |
AMAT Centura DPS2 Metal等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(NT, Yaskawa), 3x |
国外
|
| 1472 |
AMAT Centura Axiom Chamber薄膜沉积设备 |
AMAT |
Centura Axiom Chamber |
2006 |
Axiom Only (w/VODM) |
国外
|
| 1461 |
AMAT Reflexion FA抛光设备 |
AMAT |
Reflexion FA |
2005 |
CMP |
国外
|
| 1456 |
AMAT Vantage 5外延炉 |
AMAT |
Vantage 5 |
2012 |
RTP |
国外
|
| 1425 |
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2011 |
3 Twin(HARP USG, RPC_F |
国外
|
| 1357 |
AMAT Centura Enabler Etch刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura Enabler |
2007 |
- |
国外
|
| 1329 |
AMAT Centura Chamber刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura Chamber |
2010 |
2 x Minos, 1 x Carina, |
国外
|
| 1322 |
AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2002 |
MULTIPLE UNITS AVAILAB |
国外
|
| 1311 |
AMAT Centura Enabler Chamber蚀刻机 |
AMAT |
Centura Enabler Chamber |
2004 |
Condition : Very Good |
国外
|
| 1310 |
AMAT Vantage Vulcan外延炉 |
AMAT |
Vantage Vulcan |
2013 |
2 Chamber RTP System |
国外
|
| 1280 |
AMAT Olympia CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Olympia |
2015 |
2Ch ALD System, Single |
国外
|
| 1277 |
AMAT ACMS XT II Component晶圆清洗 |
AMAT |
ACMS XT II |
2005 |
- |
国外
|
| 1276 |
AMAT ACMS0XT-ASG-E Component清洗设备 |
AMAT |
ACMS0XT-ASG-E |
2006 |
- |
国外
|
| 1275 |
AMAT UVision 5 Metrology光学检测计量设备 |
AMAT |
UVision 5 |
2011 |
- |
国外
|
| 1266 |
AMAT Centura Carina Chamber Etch刻蚀机 |
AMAT |
Centura Carina Chamber |
- |
Chamber Only.
Carina |
国外
|
| 1227 |
AMAT 5200 ULTIMA化学气相沉积台 |
AMAT |
5200 ULTIMA |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20002529 |
国内
|
| 1226 |
AMAT Endura II PVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II |
2020 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 1225 |
AMAT 5200 ULTIMA化学气相沉积台 |
AMAT |
5200 ULTIMA |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004075 |
国内
|
| 1222 |
AMAT 5200 ULTIMA化学气相沉积台 |
AMAT |
5200 ULTIMA |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20002524 |
国内
|
| 1221 |
AMAT 5200 ULTIMA化学气相沉积台 |
AMAT |
5200 ULTIMA |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20002452 |
国内
|
| 1220 |
AMAT 5200 ULTIMA化学气相沉积台 |
AMAT |
5200 ULTIMA |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20002443 |
国内
|
| 1217 |
AMAT Centura 5200 CVD化学气相沉积 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
System controller(无寻边电 |
国内
|
| 1215 |
AMAT Centura 5200 CVD化学气相沉积 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
System controller(无寻边电 |
国内
|
| 1214 |
AMAT Centura 5200 CVD化学气相沉积 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
System controller(无寻边电 |
国内
|
| 1213 |
AMAT EP-17700化学气相沉积台 |
AMAT |
EP-17700 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20002384 |
国内
|
| 1212 |
AMAT Mirra-3400化学机械研磨机 |
AMAT |
Mirra-3400 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004115 |
国内
|
| 1211 |
AMAT PRECISION 5000 MK2化学气相沉积台 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004116 |
国内
|
| 1210 |
AMAT PRECISION 5000 MK2化学气相沉积台 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004095 |
国内
|
| 1208 |
AMAT PRECISION 5000 MK2化学气相沉积台 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004093 |
国内
|
| 1201 |
AMAT PRECISION 5000 MK2化学气相沉积台 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004089 |
国内
|
| 1196 |
AMAT PRECISION 5000 MK2化学气相沉积台 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004088 |
国内
|
| 1185 |
AMAT PRECISION 5000 MK2化学气相沉积台 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004087 |
国内
|
| 1173 |
AMAT Octane G2 assy气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Octane G2 assy |
1999 |
- |
国外
|
| 1172 |
AMAT PRECISION 5000 MK2化学气相沉积台 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004086 |
国内
|
| 1170 |
AMAT PRECISION 5000 MK2化学气相沉积台 |
AMAT |
PRECISION 5000 MK2 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004085 |
国内
|
| 1167 |
AMAT SEMVISION缺陷自动检测仪器 |
AMAT |
SEMVISION |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20002468 |
国内
|
| 1132 |
AMAT Centura 5200 CVD化学气相沉积 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
8"设备完整不缺件,现货在湖南;200010 |
国内
|
| 1131 |
AMAT Centura 5200 CVD化学气相沉积 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004113 |
国内
|
| 1125 |
AMAT Centura 5200 CVD化学气相沉积 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004112 |
国内
|
| 1123 |
AMAT Centura 5200 CVD化学气相沉积 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004111 |
国内
|
| 1098 |
AMAT Endura 5500 MOCVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1998 |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 1079 |
AMAT Endura 5500 MOCVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1998 |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 1057 |
AMAT P5000蚀刻机 |
AMAT |
P5000 |
2019 |
设备完整不缺件,Poly SiO2/SIN; |
国内
|
| 1055 |
AMAT MRC STAR金属溅镀机 |
AMAT |
MRC STAR |
2019 |
设备完整不缺件; |
国内
|
| 1049 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
2019 |
设备完整不缺件,CVD氮化硅/氧化硅; |
国内
|
| 1035 |
AMAT MRC MARKII金属溅镀机 |
AMAT |
MRC MARKII |
2019 |
设备完整不缺件; |
国内
|
| 1026 |
AMAT P5000蚀刻机 |
AMAT |
P5000 |
2019 |
设备完整不缺件,金属Ti/AI/Ni; |
国内
|
| 1020 |
AMAT Endura 5500物理气相沉积台 |
AMAT |
Endura 5500 |
- |
缺件较多,缺Heater/Process k |
国内
|
| 1008 |
AMAT Endura CL PVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura CL |
2004 |
EFEM(2Ports, Kensingto |
国外
|
| 969 |
AMAT Uvision 4量测设备 |
AMAT |
UVision 4 |
2009 |
[As-is]2ea*TDK load po |
国外
|
| 915 |
AMAT Centura DPS2 532 Metal等离子体蚀刻设备 |
AMAT应用材料 |
Centura DPS2 532 Metal |
2006 |
EFEM(Yaskawa), 2xDPS53 |
国外
|
| 914 |
AMAT Endura II气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II |
2010-2024 |
设备完整不缺件,有12台现货;
DMD*2 |
国外
|
| 913 |
AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer SE |
2003 |
2 Twiin( HF_Apex3013, |
国外
|
| 886 |
AMAT Centura DPS2 Poly Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT应用材料 |
Centura DPS2 Poly |
2007 |
EFEM, TM, 3x DPS2 Poly |
国外
|
| 850 |
AMAT Centura DPS2 AdvantEdge G等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 AdvantEdge G5 Mes |
2007 |
G5 Mesa. EFEM(Server, |
国外
|
| 848 |
AMAT Centura DPS2 Chamber等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Chamber |
- |
DPS2 Poly Chamber, Par |
国外
|
| 846 |
AMAT Centura DPS2 Chamber Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Chamber |
- |
DPS2 Poly Chamber, Par |
国外
|
| 843 |
AMAT Centura DPS2 Metal Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(Server, Kawasaki) |
国外
|
| 842 |
AMAT Centura eMax CT+ Etch蚀刻机 |
AMAT |
Centura eMax CT+ |
2007 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
| 832 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1996 |
CVD MarkII, 2x DLH_Del |
国外
|
| 831 |
AMAT Centura DPS Metal Etch刻蚀机 |
AMAT |
Centura DPS Metal |
1996 |
C1P1, WBLL, 1x Orient, |
国外
|
| 822 |
AMAT DPS2 532 Metal Chamber Etch刻蚀机 |
AMAT |
DPS2 532 Metal Chamber |
2004 |
DPS2 532 Metal Chamber |
国外
|
| 810 |
AMAT P5000金属蚀刻机 |
AMAT |
P5000 |
- |
现货在湖南;20002550
仓库闲置,手 |
国内
|
| 809 |
AMAT P5000干法刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
设备完整不缺件,现货在湖南;20004122 |
国内
|
| 807 |
AMAT P5000刻蚀机(PECVD) |
AMAT |
P5000 |
1996 |
设备完整不缺件,国内在线热机; |
国内
|
| 546 |
AMAT P5000刻蚀机(4腔) |
AMAT |
P5000 |
1989 |
设备完整不缺件; |
国内
|
| 541 |
AMAT Centura Enabler刻蚀机 |
AMAT |
Centura Enabler |
2006 |
EFEM(NT, Yaskawa, miss |
国外
|
| 537 |
AMAT Centura DPS2 Poly刻蚀机 |
AMAT |
Centura DPS2 Poly |
2007 |
EFEM(Kawasaki, Server) |
国外
|
| 535 |
AMAT Centura AP ISPRINT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Centura AP ISPRINT |
2008 |
4 xALD W CH, OS_SErver |
国外
|
| 534 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
在线热机,有2台; |
国外
|
| 530 |
AMAT Centura Enabler E2刻蚀机 |
AMAT |
Centura Enabler E2 |
2010 |
EFEM(Server, Yaskawa), |
国外
|
| 517 |
AMAT Centura Avatar Etch刻蚀机 |
AMAT |
Centura Avatar |
- |
AVATAR 4x Chamber only |
国外
|
| 480 |
AMAT Orbot WF720晶圆检测系统 |
AMAT |
Orbot WF720 |
- |
- |
国外
|
| 466 |
AMAT AMC7811外延炉 |
AMAT |
AMC-7811 |
1990 |
Epitaxy |
国外
|
| 465 |
AMAT AMC7800RPX外延炉 |
AMAT |
AMC7800RPX |
1982 |
Epitaxy |
国外
|
| 464 |
AMAT AMC7821外延炉 |
AMAT |
AMC7821 |
1983 |
epitaxy |
国外
|
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