| ID |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
| 4629 |
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
1994/1997 |
8"设备完整不缺件,有3台现货(年份1994 |
国外
|
| 4628 |
TEL P-12XLn+探针台 |
TEL |
P-12XLn+ |
2007 |
设备完整不缺件,有2台现货； |
国外
|
| 4620 |
TEL ALPHA-303i LPCVD |
TEL |
ALPHA-303i |
2006 |
12"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
| 4586 |
TEL TELINDY I-RAD扩散炉 |
TEL |
TELINDY I-RAD |
2008 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
| 4580 |
TEL UNITY EP Parts蚀刻机 |
TEL |
UNITY EP Parts |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 4579 |
TEL UNITY EP蚀刻机 |
TEL |
UNITY EP |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 4578 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备 |
TEL |
TRIAS |
2004 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
| 4573 |
TEL MARK VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK VZ |
- |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
| 4572 |
TEL LITHIUS涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS |
2006 |
12"设备完整不缺件,有34台现货(年份20 |
国外
|
| 4571 |
TEL ACT8涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
- |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
| 4549 |
TEL UNITY2e-855DD干式蚀刻机 |
TEL |
UNITY2e-855DD |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4548 |
TEL Telius SP-Vesta干式蚀刻机 |
TEL |
Telius SP-Vesta |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4540 |
TEL UW8000湿法处理设备 |
TEL |
UW8000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4539 |
TEL UW8000湿法处理设备 |
TEL |
UW8000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4538 |
TEL UW300Z湿法处理设备 |
TEL |
UW300Z |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4501 |
TEL ACT8涂胶显影机(2C2D) |
TEL |
ACT8 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 4500 |
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4477 |
TEL PR200Z旋涂仪 |
TEL |
PR200Z |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4449 |
TEL TE-8500M蚀刻机 |
TEL |
TE-8500M |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4423 |
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
200mm设备完整不缺件,有多台现货; |
国外
|
| 4421 |
TEL UF200探针台 |
TEL |
UF200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4419 |
TEL P-12Xln+探针台 |
TEL |
P-12Xln+ |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4418 |
TEL P-12XLn探针台 |
TEL |
P-12XLn |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4414 |
TEL P-12XL探针台 |
TEL |
P-12XL |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4413 |
TEL P-12XL探针台 |
TEL |
P-12XL |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4411 |
TEL 20S PROBER探针台 |
TEL |
20S PROBER |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4409 |
TEL 80S探针台 |
TEL |
80S |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4359 |
TEL Trias Ti/TiN化学气相沉积设备 |
TEL |
Trias Ti/TiN |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4322 |
TEL FORMULA立式扩散炉 |
TEL |
FORMULA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4321 |
TEL FORMULA立式扩散炉 |
TEL |
FORMULA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4320 |
TEL ALPHA-85Z立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-85Z |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4319 |
TEL ALPHA-801D立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-801D |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4318 |
TEL ALPHA-85Z立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-85Z |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4317 |
TEL Indy-PE_6L2B立式扩散炉 |
TEL |
Indy-PE_6L2B |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4311 |
TEL VESTA-NV3蚀刻机 |
TEL |
VESTA-NV3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4310 |
TEL VESTA-NV3蚀刻机 |
TEL |
VESTA-NV3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4304 |
TEL TE-8500蚀刻机 |
TEL |
TE-8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4303 |
TEL UNITY PE蚀刻机 |
TEL |
UNITY PE |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4300 |
TEL Telius DRM T-3055DD蚀刻机 |
TEL |
Telius DRM T-3055DD |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4298 |
TEL TEL TE-8500PEEATC蚀刻机 |
TEL |
TE-8500PEEATC |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4297 |
TEL UNITY IIe-855PP DP蚀刻机 |
TEL |
UNITY IIe-855PP DP? |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4296 |
TEL UNITY IIe-855II IEM蚀刻机 |
TEL |
UNITY IIe-855II IEM? |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4295 |
TEL TeliusSP-3055SS蚀刻机 |
TEL |
TeliusSP-3055SS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4289 |
TEL TE5000ATC涂胶显影机 |
TEL |
TE5000ATC |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4288 |
TEL Unity2e-855II干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855II |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4287 |
TEL Unity2e-855II干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855II |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4286 |
TEL Unity2e-855II干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855II |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4285 |
TEL Unity2e-855SS 干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855SS |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4272 |
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4271 |
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4269 |
TEL Tactras NCCP SCCM干式蚀刻机 |
TEL |
Tactras NCCP SCCM |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4268 |
TEL VIGUS干式蚀刻机 |
TEL |
VIGUS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4266 |
TEL Unity2e-855DPA干式蚀刻机 |
TEL |
Unity2e-855DPA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4265 |
TEL Unity2e-85TPATC干式蚀刻机 |
TEL |
Unity2e-85TPATC |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4264 |
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4263 |
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4262 |
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4261 |
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4260 |
TEL UNITY2e-855DD干式蚀刻机 |
TEL |
UNITY2e-855DD |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4243 |
KLA Candela 8520表面缺陷检测系统 |
TEL |
TRIAS |
2022 |
6"设备完整不缺件,3线/230伏/20安培 |
国外
|
| 4239 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备 |
TEL |
TRIAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4232 |
TEL ACT12涂胶显影机 |
TEL |
ACT12 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4231 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4220 |
TEL CERTAS刻蚀机 |
TEL |
CERTAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4212 |
TEL FORMULA去胶机 |
TEL |
FORMULA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4192 |
TEL TE8500ATC蚀刻机 |
TEL |
TE8500ATC |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 4169 |
TEL ALPHA-808SC LPCVD化学气相沉积 |
TEL |
ALPHA-808SC |
1994 |
在线热机,设备完整不缺件; |
国外
|
| 4164 |
TEL TE8500蚀刻机 |
TEL |
TE-8500 |
1995 |
设备完整不缺件,单腔,可以刻蚀SiO2和Si |
国内
|
| 4158 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 4155 |
TEL ALPHA 8S高温扩散炉 |
TEL |
ALPHA-8S |
1998 |
设备完整不缺件,有4台现货在美国; |
国外
|
| 4150 |
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
6/8"设备完整不缺件; |
国内
|
| 4133 |
TEL TE8500刻蚀机 |
TEL |
TE-8500 |
- |
设备完整不缺件,在韩国; |
国外
|
| 4114 |
TEL ACT8涂胶显影机(2C2D) |
TEL |
ACT8 |
2001 |
设备完整不缺件,有3台现货在韩国; |
国外
|
| 4109 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1996.08 |
设备完整不缺件,只有一个工艺腔,在日本; |
国外
|
| 4056 |
TEL MARK-VZ涂胶显影机(1C2D) |
TEL |
MARK-VZ |
1997 |
设备完整不缺件,4/5/6"1C2D,已经调 |
国内
|
| 4055 |
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
1993 |
4/5/6"1C1D |
国内
|
| 4054 |
TEL TE8500P ATC干法刻蚀机 |
TEL |
TE-8500P ATC |
1995.11 |
6"RIE SiO2 Etcher |
国内
|
| 4053 |
TEL TE8500P ATC干法刻蚀机 |
TEL |
TE-8500P ATC |
1995.11 |
6"RIE SiO2 Etcher |
国内
|
| 4052 |
TEL TE8500P干法刻蚀机 |
TEL |
TE-8500P |
- |
6"RIE SiO2 Etcher |
国内
|
| 4051 |
TEL TE8500P ATC干法刻蚀机 |
TEL |
TE-8500P ATC |
1993.03 |
6"RIE SiO2 Etcher |
国内
|
| 4031 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1998 |
设备完整不缺件,已拆机在日本; |
国外
|
| 4028 |
TEL UnityIIe-855II刻蚀机 |
TEL |
UnityIIe-855II |
1996 |
设备完整不缺件,在日本仓库; |
国外
|
| 4027 |
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
2000 |
设备完整不缺件,在线热机在日本(1C 3D |
国外
|
| 3995 |
TEL ACT8涂胶显影机(2C2D) |
TEL |
ACT8 |
2003 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 3987 |
TEL P-12XL探针台 |
TEL |
P-12XL |
2005 |
12"设备完整不缺件,有4台+2台chill |
国内
|
| 3935 |
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
1999 |
设备完整不缺件,有22台现货; |
国内
|
| 3934 |
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
1999 |
设备完整不缺件,有17台现货; |
国内
|
| 3933 |
TEL P-12Xln探针台 |
TEL |
P-12Xln |
2005 |
设备完整不缺件,有5台现货,翻新的加1万美元 |
国内
|
| 3927 |
TEL A-PM-90A探针台 |
TEL |
A-PM-90A |
- |
设备完整不缺件,有6台现货; |
国内
|
| 3900 |
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
- |
国外
|
| 3899 |
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
- |
- |
国外
|
| 3865 |
TEL NT333扩散炉 |
TEL |
NT333 |
2018 |
设备完整不缺件,有2套; |
国内
|
| 3766 |
TEL MARK8涂胶显影机(2C2D) |
TEL |
MARK8 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
| 3690 |
TEL MAC-92CV掩膜版测试仪 |
TEL |
MAC-92CV |
1997 |
6"overlay; |
国内
|
| 3689 |
TEL UL-2604-08L扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08L |
1990 |
6"四管卧式氧化; |
国内
|
| 3688 |
TEL UL-2604-08-HS扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08-HS |
1988 |
6"四管卧式氧化; |
国内
|
| 3687 |
TEL UL-2604-08-HS扩散炉-重 |
TEL |
UL-2604-08-HS |
1988 |
6"四管卧式氧化; |
国内
|
| 3667 |
TEL VDF610S扩散炉 |
TEL |
VDF610S |
1989 |
6"立式扩散; |
国内
|
| 3666 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3665 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6",在线热机; |
国内
|
| 3664 |
TEL 20S探针台 |
TEL |
20S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机(第六批) |
国内
|
| 3663 |
TEL 20S探针台 |
TEL |
20S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3662 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3661 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3660 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3659 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3658 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3657 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3656 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3655 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3654 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3653 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3652 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3651 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3650 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3649 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3648 |
TEL 20S探针台 |
TEL |
20S |
- |
4",5",6",8"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3647 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3646 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3645 |
TEL 20S探针台 |
TEL |
20S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3644 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3643 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3642 |
TEL 20S探针台 |
TEL |
20S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3641 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3634 |
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
4",5",6",8"CP测试,有多台现货; |
国内
|
| 3631 |
TEL Trias METAL CVD化学气相沉积 |
TEL |
Trias |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
| 3627 |
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
- |
设备完整不缺件,有12台现货; |
国外
|
| 3626 |
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
- |
4",5",6",8"CP测试,在线热机; |
国内
|
| 3624 |
TEL TE480HGC干法刻蚀机 |
TEL |
TE480HGC |
1989 |
6"SIN刻蚀; |
国内
|
| 3622 |
TEL TE5000干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000 |
- |
6"SIO2刻蚀机; |
国内
|
| 3621 |
TEL TE5000干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000 |
- |
5"SIO2刻蚀,在线热机(第二批); |
国内
|
| 3620 |
TEL TE5000S干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000S |
- |
SIO2刻蚀,在线热机(第二批); |
国内
|
| 3619 |
TEL VCF 615扩散炉 |
TEL |
VCF 615 |
- |
6"立式低压SIN CVD炉; |
国内
|
| 3618 |
TEL Horizontal Furnace扩散炉 |
TEL |
Horizontal Furnace |
1989 |
6"四管卧式常压氧化; |
国内
|
| 3617 |
TEL UL2604-10H扩散炉 |
TEL |
UL2604-10H |
- |
6" |
国内
|
| 3616 |
TEL IW-6D扩散炉 |
TEL |
IW-6D |
1997 |
5"设备完整不缺件,立式氧化有多台现货; |
国内
|
| 3612 |
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
- |
6"1C 1D 2MA 1AD 1COL 4 |
国内
|
| 3611 |
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
- |
6"1C 1D 1WEE MA 1AD 5 |
国内
|
| 3610 |
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
- |
6"2D wEE 7HP 2COL MA C |
国内
|
| 3609 |
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
- |
6"2C 1AD MA 3HP 2CP; |
国内
|
| 3608 |
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
- |
6"2D 3CP 5HP MA Cs; |
国内
|
| 3607 |
TEL MARK-VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK-VZ |
- |
6" |
国内
|
| 3606 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1997.3 |
8",Turnkey加15万美元2C/1D; |
国内
|
| 3605 |
TEL LITHIUS(4C4D)涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS |
2005.3 |
8"4C4D集成式; |
国内
|
| 3604 |
TEL MARK-II涂胶显影机 |
TEL |
MARK-II |
1989 |
6"2D; |
国内
|
| 3603 |
TEL MARK-II涂胶显影机 |
TEL |
MARK-II |
1989 |
6"2D; |
国内
|
| 3590 |
TEL SVG-8800显影机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6"2D; |
国内
|
| 3589 |
TEL SVG-8800显影机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6"2D; |
国内
|
| 3588 |
TEL SVG-8800涂胶机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6"2C; |
国内
|
| 3587 |
TEL SVG-8800涂胶机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6"2C; |
国内
|
| 3368 |
TEL TE5000S干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000S |
- |
- |
国内
|
| 3360 |
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
- |
- |
国内
|
| 3251 |
TEL A-PM-60B探针台 |
TEL |
A-PM-60B |
1999 |
- |
国内
|
| 3177 |
TEL TE 5000LEC刻蚀机 |
TEL |
TE 5000LEC |
1990 |
- |
国内
|
| 3173 |
TEL TE-5000ATC刻蚀机 |
TEL |
TE-5000ATC |
1992 |
- |
国内
|
| 3172 |
TEL TE-5000ATC刻蚀机 |
TEL |
TE-5000ATC |
1991 |
- |
国内
|
| 3169 |
TEL UL-2604-08HS扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08HS |
1993 |
- |
国内
|
| 3168 |
TEL UL-2604-08L扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08L |
1988 |
- |
国内
|
| 3167 |
TEL UL-2604-08HS扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08HS |
1992 |
- |
国内
|
| 3166 |
TEL UL-2604-08LS扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08LS |
1993 |
- |
国内
|
| 3165 |
TEL UL-2604-08HS扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08HS |
1993 |
- |
国内
|
| 3139 |
TEL ALPHA 602C立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA 602C |
1991 |
LP-CVD竖式; |
国内
|
| 3135 |
TEL TE-8400P刻蚀机 |
TEL |
TE-8400P |
1996 |
- |
国内
|
| 3134 |
TEL TE8500 PEATC刻蚀机 |
TEL |
TE-8500 PEATC |
1993 |
- |
国内
|
| 3133 |
TEL TE8500 PE刻蚀机 |
TEL |
TE-8500 PE |
1993 |
- |
国内
|
| 3132 |
TEL TE-8400P刻蚀机 |
TEL |
TE-8400P |
1995 |
- |
国内
|
| 3131 |
TEL TE-8400P刻蚀机 |
TEL |
TE-8400P |
1995 |
- |
国内
|
| 3129 |
TEL TE-5000 ATC刻蚀机 |
TEL |
TE-5000 ATC |
1991 |
- |
国内
|
| 3126 |
TEL IW-6D立式扩散炉 |
TEL |
IW-6D |
2005 |
- |
国内
|
| 3125 |
TEL IW-6D立式扩散炉 |
TEL |
IW-6D |
2005 |
- |
国内
|
| 3124 |
TEL ALPHA 602C立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA 602C |
1991 |
- |
国内
|
| 3118 |
TEL ALPHA 602C立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA 602C |
1991 |
- |
国内
|
| 3116 |
TEL ALPHA 602C立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA 602C |
1991 |
- |
国内
|
| 3114 |
TEL ALPHA 602C立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA 602C |
1992 |
- |
国内
|
| 3027 |
TEL TCE-4802刻蚀机 |
TEL |
TCE-4802 |
2000 |
- |
国内
|
| 3026 |
TEL TCE-4802刻蚀机 |
TEL |
TCE-4802 |
2000 |
- |
国内
|
| 3025 |
TEL A-PM-60B探针台 |
TEL |
A-PM-60B |
2000 |
- |
国内
|
| 3011 |
TEL A-PM-60B探针台 |
TEL |
A-PM-60B |
2000 |
- |
国内
|
| 3010 |
TEL A-PM-60B探针台 |
TEL |
A-PM-60B |
1999 |
- |
国内
|
| 3009 |
TEL A-PM-60B探针台 |
TEL |
A-PM-60B |
1999 |
- |
国内
|
| 3008 |
TEL A-PM-60B探针台 |
TEL |
A-PM-60B |
1999 |
- |
国内
|
| 2936 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
1991 |
- |
国内
|
| 2935 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
1991 |
- |
国内
|
| 2934 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
1996 |
- |
国内
|
| 2933 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
1989 |
- |
国内
|
| 2932 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
1995 |
- |
国内
|
| 2906 |
TEL A-PM-90A探针台 |
TEL |
A-PM-90A |
1999 |
- |
国内
|
| 2895 |
TEL UL-2604-10H扩散炉 |
TEL |
UL-2604-10H |
1993 |
- |
国内
|
| 2805 |
TEL ACT8涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
2014-12-17 |
已打包 |
国外
|
| 2793 |
TEL Trias (SFD TIN)化学气相沉积设备 |
TEL |
Trias (SFD TIN) |
2007 |
300mm As-Is, Where-Is |
国外
|
| 2792 |
TEL Trias (SFD TIN)化学气相沉积设备-重 |
TEL |
Trias (SFD TIN) |
2007 |
300mm As-Is, Where-Is |
国外
|
| 2781 |
TEL ACT-12涂胶显影机 |
TEL |
ACT-12 |
2004.4 |
300mm As-Is, Where-Is; |
国外
|
| 2780 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备 |
TEL |
Trias |
2003.11 |
300mm As-Is, Where-Is; |
国外
|
| 2779 |
TEL UW300Z晶圆清洗设备 |
TEL |
UW300Z |
2002.3 |
300mm As-Is, Where-Is; |
国外
|
| 2738 |
TEL MARK-II涂胶显影机 |
TEL |
MARK-II |
1989 |
6" 2D |
国外
|
| 2737 |
TEL MARK-II涂胶显影机 |
TEL |
MARK-II |
1989 |
6" 2D |
国外
|
| 2736 |
TEL IW-6D扩散炉-重 |
TEL |
IW-6D |
1996 |
5" 立式氧化 |
国内
|
| 2735 |
TEL IW-6D扩散炉-重 |
TEL |
IW-6D |
1997 |
5" 立式氧化 |
国内
|
| 2734 |
TEL UL-2604-08-HS扩散炉-重 |
TEL |
UL-2604-08-HS |
1988 |
6" 四管卧式氧化 |
国内
|
| 2733 |
TEL UL-2604-08-HS扩散炉-重 |
TEL |
UL-2604-08-HS |
1988 |
6" 四管卧式氧化 |
国内
|
| 2732 |
TEL UL-2604-08L扩散炉-重 |
TEL |
UL-2604-08L |
1990 |
6" 四管卧式氧化 |
国内
|
| 2718 |
TEL TE480HGC干法刻蚀机-重 |
TEL |
TE480HGC |
1989 |
6" SIN刻蚀 |
国内
|
| 2717 |
TEL TE480HGC干法刻蚀机-重 |
TEL |
TE480HGC |
1989 |
6" SIN刻蚀 |
国内
|
| 2716 |
TEL VDF610S立式扩散炉 |
TEL |
VDF610S |
1989 |
6" 立式扩散 |
国外
|
| 2711 |
TEL MAC-92CV掩膜版测试仪-重 |
TEL |
MAC-92CV |
1997 |
6" overlay |
国内
|
| 2692 |
TEL LITHIUS涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS |
2005.3 |
8"暂停销售 |
已售出
|
| 2680 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1994/1995 |
8"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
| 2679 |
TEL SVG-8800涂胶机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6" 2C |
国外
|
| 2678 |
TEL SVG-8800涂胶机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6" 2C |
国外
|
| 2677 |
TEL SVG-8800显影机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6" 2D |
国外
|
| 2676 |
TEL SVG-8800显影机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6" 2D |
国外
|
| 2620 |
TEL Horizontal Furnace扩散炉 |
TEL |
Horizontal Furnace |
1989 |
6"四管卧式常压氧化; |
国外
|
| 2616 |
TEL TE5000干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000 |
- |
6"SIO2刻蚀机; |
国外
|
| 2615 |
TEL VCF 615扩散炉 |
TEL |
VCF 615 |
- |
6"立式低压SIN CVD炉; |
国外
|
| 2604 |
TEL INDYPLUS-B-M氧化炉 |
TEL |
INDYPLUS-B-M |
2013.06 |
300mm DIFF |
国外
|
| 2603 |
TEL INDYPLUS氧化扩散炉 |
TEL |
INDYPLUS |
- |
300mm DIFF |
国外
|
| 2602 |
TEL ALPHA-303I-H扩散炉 |
TEL |
ALPHA-303I-H |
2001.07 |
300mm DIFF |
国外
|
| 2601 |
TEL ALPHA-303I-H扩散炉 |
TEL |
ALPHA-303I-H |
2006.11 |
300mm DIFF |
国外
|
| 2600 |
TEL ALPHA-303I-K扩散炉 |
TEL |
ALPHA-303I-K |
2005.1 |
300mm DIFF |
国外
|
| 2599 |
TEL ALPHA-303I-K扩散炉-重 |
TEL |
ALPHA-303I-K |
2005.11 |
300mm DIFF |
国外
|
| 2598 |
TEL FORMUAL-1S-H蚀刻和灰化设备 |
TEL |
FORMUAL-1S-H |
2005.01 |
300mm DIFF |
国外
|
| 2524 |
TEL TE5000干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000 |
- |
5"有1台; |
国内
|
| 2523 |
TEL TE480刻蚀机 |
TEL |
TE480 |
- |
5",6"有2台; |
国内
|
| 2522 |
TEL TE580刻蚀机 |
TEL |
TE580 |
- |
6"有1台; |
国内
|
| 2518 |
TEL TE8500刻蚀机 |
TEL |
TE-8500 |
- |
6"有1台; |
国内
|
| 2490 |
TEL UX-1080扩散炉 |
TEL |
UX-1080 |
- |
5"有2台;; |
国内
|
| 2470 |
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
6"有1台; |
国内
|
| 2456 |
TEL TE8500刻蚀机 |
TEL |
TE-8500 |
- |
6"有1台; |
国内
|
| 2412 |
TEL MARK-VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK-VZ |
- |
As-is 2C2D |
国外
|
| 2390 |
TEL P-12XL Probe探针台 |
TEL |
P-12XL Probe |
- |
12" As-is |
国外
|
| 2382 |
TEL ACT12涂胶显影机 |
TEL |
ACT12 |
- |
12 As-is |
国外
|
| 2381 |
TEL ACT8涂胶显影机(2C4D) |
TEL |
ACT8 |
- |
8 working |
国外
|
| 2365 |
TEL ALPHA 8S高温扩散炉 |
TEL |
ALPHA-8S |
- |
8 As-is |
国外
|
| 2352 |
TEL ACT12涂胶显影机 |
TEL |
ACT12 |
- |
12 Parts MC |
国外
|
| 2347 |
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
6 As-is 1C2D |
国外
|
| 2343 |
TEL ALPHA 8SE高温立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-8SE |
- |
6,8 working |
国外
|
| 2308 |
TEL INDY Plus-B-M化学气相沉积设备 |
TEL |
INDY Plus-B-M |
2010 |
12"Furance |
国外
|
| 2307 |
TEL TE8500刻蚀机 |
TEL |
TE-8500 |
- |
6" Dry Etch |
国外
|
| 2301 |
TEL Telius SP干法刻蚀机 |
TEL |
Telius SP |
- |
Dry Etch |
国外
|
| 2300 |
TEL SCCM TE干法刻蚀机 |
TEL |
SCCM TE |
- |
Dry Etch |
国外
|
| 2293 |
TEL TE-8401刻蚀机 |
TEL |
TE-8401 |
1996 |
Dry Etcher |
国外
|
| 2281 |
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
2C 3D生产线工作条件 |
国外
|
| 2280 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
1C 2D原样仓库 |
国外
|
| 2273 |
TEL LITHIUS清洗设备 |
TEL |
LITHIUS |
2003.12 |
韩国价 |
国外
|
| 2269 |
TEL SP-308蚀刻去胶设备 |
TEL |
SP-308 |
2007 |
按现状,有3台 |
国外
|
| 1994 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
- |
国外
|
| 1924 |
TEL MK-2涂胶显影 |
TEL |
MK-2 |
- |
- |
国内
|
| 1923 |
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
- |
- |
国内
|
| 1920 |
TEL A-PM-90A探针台 |
TEL |
A-PM-90A |
- |
- |
国内
|
| 1898 |
TEL MARK-II显影机 |
TEL |
MARK-II |
- |
6" |
国内
|
| 1897 |
TEL MARK-II显影机-重 |
TEL |
MARK-II |
- |
6" |
国内
|
| 1896 |
TEL IW-6D扩散炉-重 |
TEL |
IW-6D |
1996 |
5" |
国内
|
| 1895 |
TEL IW-6D扩散炉-重 |
TEL |
IW-6D |
1997 |
5" |
国内
|
| 1894 |
TEL UL-2604-08-HS扩散炉-重 |
TEL |
UL-2604-08-HS |
- |
6" |
国内
|
| 1893 |
TEL UL-2604-08-HS扩散炉-重 |
TEL |
UL-2604-08-HS |
- |
6" |
国内
|
| 1892 |
TEL UL-2604-08-HS扩散炉-重 |
TEL |
UL-2604-08-HS |
- |
6" |
国内
|
| 1891 |
TEL UL-2604-08L扩散炉-重 |
TEL |
UL-2604-08L |
1990 |
6" |
国内
|
| 1877 |
TEL TE480HGC干法刻蚀机-重 |
TEL |
TE480HGC |
- |
6" |
国内
|
| 1876 |
TEL TE480HGC干法刻蚀机-重 |
TEL |
TE480HGC |
- |
6" |
国内
|
| 1875 |
TEL VDF610S扩散炉-重 |
TEL |
VDF610S |
- |
6" |
国内
|
| 1870 |
TEL MAC-92CV掩膜版测试仪-重 |
TEL |
MAC-92CV |
- |
6" |
国内
|
| 1851 |
TEL LITHIUS涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS |
- |
12"设备完整不缺件2C5D; |
国外
|
| 1839 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
| 1838 |
TEL SVG-8800涂胶显影机-重 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6" |
国内
|
| 1837 |
TEL SVG-8800涂胶显影机-重 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6" |
国内
|
| 1836 |
TEL SVG-8800涂胶显影机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6" |
国内
|
| 1621 |
TEL ACT8涂胶显影机(2C2D) |
TEL |
ACT8 |
1998 |
PHOTOLITHO |
国外
|
| 1620 |
TEL ALPHA 8SE高温立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-8SE |
2005 |
设备完整不缺件; |
已售出
|
| 1619 |
TEL IW-6C CVD气相沉积管式炉 |
TEL |
IW-6C |
1994 |
FURNACE |
国外
|
| 1618 |
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
1993 |
WET |
国外
|
| 1617 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 1616 |
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
1992 |
PHOTOLITHO |
国外
|
| 1615 |
TEL MARK-VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK-VZ |
1998 |
PHOTOLITHO |
国外
|
| 1611 |
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
- |
8"设备完整不缺件,有5台现货; |
国外
|
| 1494 |
TEL MARK-VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK-VZ |
- |
As-is 2C2D |
国外
|
| 1493 |
TEL ACT8涂胶显影机(2C4D) |
TEL |
ACT8 |
- |
- |
国外
|
| 1492 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
working track (2c1d) |
国外
|
| 1491 |
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
200 As-is Single Block |
国外
|
| 1490 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1996 |
- |
国外
|
| 1489 |
TEL ACT12涂胶显影机 |
TEL |
ACT12 |
- |
300 As-is |
国外
|
| 1488 |
TEL ACT8涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
- |
200 As-is |
国外
|
| 1463 |
TEL LITHIUS Pro-i涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS Pro-i |
2007 |
9COT 3DEV with many CC |
国外
|
| 1462 |
TEL LITHIUS涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS |
2007 |
5C5D, Inlined type(AT- |
国外
|
| 1435 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备-重 |
TEL |
Trias |
2004 |
4 x CVD TiN, 3 x load |
国外
|
| 1434 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备-重 |
TEL |
Trias |
2011 |
Trias E+, UV RF CH x3 |
国外
|
| 1433 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备-重 |
TEL |
Trias |
2006 |
Ti Ch x2, TiN Ch x2, S |
国外
|
| 1432 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备-重 |
TEL |
Trias |
2012 |
3CH |
国外
|
| 1431 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备-重 |
TEL |
Trias |
2013 |
EXII ALD TiN 1CH Syste |
国外
|
| 1430 |
TEL Trias SPA CVD化学气相沉积设备 |
TEL |
Trias SPA |
2010 |
LM+TM+AC Rack, Missing |
国外
|
| 1421 |
TEL TSP 305 SCCM TE Etch刻蚀机 |
TEL |
TSP 305 SCCM TE |
2007 |
3x TE configured |
国外
|
| 1358 |
TEL Alpha-303i Furnace扩散炉 |
TEL |
Alpha-303i |
- |
VMM-56-002, 2 boats, S |
国外
|
| 1350 |
TEL Alpha-303i Furnace刻蚀机 |
TEL |
Alpha-303i |
- |
VMM-56-002, 2 boats |
国外
|
| 1349 |
TEL Alpha-303i扩散炉 |
TEL |
Alpha-303i |
- |
VMM-56-002, 2 boats, S |
国外
|
| 1348 |
TEL Alpha-303i Furnace刻蚀机-重 |
TEL |
Alpha-303i |
- |
VMM-56-002, 2 boats, S |
国外
|
| 1342 |
TEL nFusion 700 Implant离子注入设备 |
TEL |
nFusion 700 |
2013 |
- |
国外
|
| 1328 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备-重 |
TEL |
Trias |
2010 |
- |
国外
|
| 1305 |
TEL RLSA-H Chambers Etch刻蚀机 |
TEL |
RLSA-H Chambers |
2011 |
Dry Etch, Bx-, Cx-, E1 |
国外
|
| 1283 |
TEL Tactras Vigus-0 Etch刻蚀机 |
TEL |
Tactras Vigus-0 |
2010 |
NCCP |
国外
|
| 1282 |
TEL Certas LEAGA Etch刻蚀机 |
TEL |
Certas LEAGA |
2016 |
In a line. SW V1.90, C |
国外
|
| 1204 |
TEL Indy Irad Furnace垂直炉设备 |
TEL |
Indy Irad |
2007 |
- |
国外
|
| 1177 |
TEL Precio octo ATE探针台 |
TEL |
Precio octo |
2017 |
- |
国外
|
| 1157 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备-重 |
TEL |
Trias |
2006 |
- |
国外
|
| 1156 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备 |
TEL |
Trias |
2006 |
- |
国外
|
| 1155 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备-重 |
TEL |
Trias |
2006 |
CVD; |
国外
|
| 1151 |
TEL LITHIUS Pro-i涂胶显影机-重 |
TEL |
LITHIUS Pro-i |
2005 |
Missing parts |
国外
|
| 1126 |
TEL Air Dryers空气干燥设备 |
TEL |
Air Dryers |
2000 |
- |
国外
|
| 1125 |
TEL Air Dryers空气干燥设备-重 |
TEL |
Air Dryers |
2001 |
- |
国外
|
| 1124 |
TEL D214热发生器冷却器设备 |
TEL |
D214 |
2001 |
- |
国外
|
| 1111 |
TEL P-12XLn探针台 |
TEL |
P-12XLn+ |
2006 |
Missing parts in datas |
国外
|
| 1108 |
TEL P-12XLn+ ATE探针台 |
TEL |
P-12XLn+ |
2006 |
Missing parts in datas |
国外
|
| 1106 |
TEL P-12XLn+探针台 |
TEL |
P-12XLn+ |
2006 |
Missing parts in datas |
国外
|
| 1105 |
TEL P-12XLn+ ATE探针台-重 |
TEL |
P-12XLn+ |
2006 |
Missing parts in datas |
国外
|
| 1103 |
TEL P-12XLn+ ATE探针台-重 |
TEL |
P-12XLn+ |
2006 |
Missing parts in datas |
国外
|
| 1054 |
TEL ACT8涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
2021 |
设备完整不缺件,有2台现货; |
已售出
|
| 1045 |
TEL P-12XLn+ ATE探针台-重 |
TEL |
P-12XLn+ |
2007 |
- |
国外
|
| 1044 |
TEL P-12XLn+ ATE探针台-重 |
TEL |
P-12XLn+ |
2007 |
- |
国外
|
| 1042 |
TEL P-12XLn+ ATE探针台-重 |
TEL |
P-12XLn+ |
2008 |
- |
国外
|
| 1041 |
TEL P-12XLn+ ATE探针台-重 |
TEL |
P-12XLn+ |
2008 |
- |
国外
|
| 1040 |
TEL P-12XLn+ ATE探针台-重 |
TEL |
P-12XLn+ |
2008 |
- |
国外
|
| 1038 |
TEL P-12XLn+ ATE探针台-重 |
TEL |
P-12XLn+ |
2008 |
- |
国外
|
| 1037 |
TEL MARK8涂布显影机(3C) |
TEL |
MARK8 |
2021 |
设备完整不缺件; |
国内
|
| 1036 |
TEL P-12XLm探针台 |
TEL |
P-12XLm |
- |
设备完整不缺件,有18台现货; |
国外
|
| 1033 |
TEL MARK8涂胶显影机(3C) |
TEL |
MARK8 |
2021 |
设备完整不缺件(4D); |
国内
|
| 1027 |
TEL P-12XLn+ ATE探针台-重 |
TEL |
P-12XLn+ |
2007 |
- |
国外
|
| 1010 |
TEL MBB-830 PVD气相沉积设备 |
TEL |
MBB-830 |
1995 |
TiN 3CH(Cryo_CTI OB8) |
国外
|
| 999 |
TEL LITHIUS Track涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS |
2006 |
2C5D, Inlined type(550 |
国外
|
| 959 |
TEL Alpha-303i-K扩散炉 |
TEL |
Alpha-303i-K |
2006 |
1. GFC : N2, N2O, SiH4 |
国外
|
| 958 |
TEL Alpha-303i-K扩散炉-重 |
TEL |
Alpha-303i-K |
2003 |
GFC (N2, SiH4, Si2H6, |
国外
|
| 957 |
TEL Alpha-303i-K扩散炉-重 |
TEL |
Alpha-303i-K |
2003 |
Process: D-Poly, Gas: |
国外
|
| 956 |
TEL Indy-B Furnace立式扩散炉 |
TEL |
Indy-B |
2012 |
Indy-B-L, MFC(N2, NH3, |
国外
|
| 955 |
TEL Alpha-303i-K扩散炉-重 |
TEL |
Alpha-303i-K |
2005 |
GFC(N2, NH3, SiH4, SiH |
国外
|
| 954 |
TEL Indy-A Furnace立式扩散炉 |
TEL |
Indy-A |
2005 |
GAS (N2, NH3, SiH2Cl2, |
国外
|
| 953 |
TEL Alpha-303i-K扩散炉-重 |
TEL |
Alpha-303i-K |
2004 |
1. GFC : N2, N2O, SiH4 |
国外
|
| 952 |
TEL Alpha-303i-K扩散炉-重 |
TEL |
Alpha-303i-K |
2005 |
GFC(SiH4,0.1%PH3/N2,Ci |
国外
|
| 934 |
TEL ACT8涂胶显影机(4C4D) |
TEL |
ACT8 |
2013 |
4C4D, Inline type, R-> |
国外
|
| 932 |
TEL LITHIUS Track涂胶显影机-重 |
TEL |
LITHIUS |
2006 |
2C5D, Inlined type(550 |
国外
|
| 931 |
TEL LITHIUS Track涂胶显影机-重 |
TEL |
LITHIUS |
2006 |
2C5D, Inlined type(550 |
国外
|
| 929 |
TEL LITHIUS Track涂胶显影机-重 |
TEL |
LITHIUS |
2005 |
2C5D, Inlined type(550 |
国外
|
| 928 |
TEL LITHIUS Track涂胶显影机-重 |
TEL |
LITHIUS |
2007 |
2C5D, Inlined type(550 |
国外
|
| 927 |
TEL LITHIUS Track涂胶显影机-重 |
TEL |
LITHIUS |
2006 |
2C5D, Inlined type(550 |
国外
|
| 926 |
TEL LITHIUS Track涂胶显影机-重 |
TEL |
LITHIUS |
2007 |
2C5D, Inlined type(550 |
国外
|
| 925 |
TEL LITHIUS Track涂胶显影机-重 |
TEL |
LITHIUS |
2005 |
2C5D, Inlined type(550 |
国外
|
| 924 |
TEL LITHIUS Track涂胶显影机-重 |
TEL |
LITHIUS |
2005 |
2C5D, Inlined type(550 |
国外
|
| 920 |
TEL Cellesta-i清洗机 |
TEL |
Cellesta-i |
2012 |
Single wet tool, 12 ch |
国外
|
| 855 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备-重 |
TEL |
Trias |
- |
CVD Ti Ch( RF generato |
国外
|
| 854 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备-重 |
TEL |
Trias |
- |
CVD Ti Ch( RF generato |
国外
|
| 853 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备-重 |
TEL |
Trias |
2016 |
CVD Ti Ch( RF generato |
国外
|
| 852 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备-重 |
TEL |
Trias |
2016 |
CVD Ti Ch( RF generato |
国外
|
| 851 |
TEL Trias CVD化学气相沉积设备-重 |
TEL |
Trias |
2016 |
CVD Ti Ch( RF generato |
国外
|
| 849 |
TEL Alpha-303i-K扩散炉-重 |
TEL |
Alpha-303i-K |
2004 |
1. GFC : N2, N2O, SiH4 |
国外
|
| 845 |
TEL Trias SPA CVD化学气相沉积设备-重 |
TEL |
Trias SPA |
2010 |
LM+TM+AC Rack, Missing |
国外
|
| 815 |
TEL LITHIUS Track涂胶显影机-重 |
TEL |
LITHIUS |
2005 |
2C5D, Inlined type(550 |
国外
|
| 543 |
TEL NS300晶圆清洗设备 |
TEL |
NS300 |
2005 |
CSB (3Foup), ACT #3 Co |
国外
|
| 532 |
TEL LITHIUS Track涂胶显影机-重 |
TEL |
LITHIUS |
2007 |
2C5D, Inlined type(550 |
国外
|
| 531 |
TEL LITHIUS Track涂胶显影机-重 |
TEL |
LITHIUS |
2006 |
5C5D, Inlined type(AT- |
国外
|
| 154 |
TEL MANIPULATOR晶圆搬运 |
TEL |
MANIPULATOR |
- |
1 SET |
国外
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