| 图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
 |
NIKON NSR 1755i7B光刻机 |
NIKON |
NSR-1755i7B |
1991 |
6"设备完整不缺件,上海净化车间; |
国内
|
 |
JEOL JBX-8100FS G3电子束光刻机 |
JEOL |
JBX-8100FS G3 |
2024 |
设备完整不缺件,无尘室关机状态,100KV;
配置清单:
国内
|
|
 |
CANON EL3400溅射装置 |
CANON |
EL3400 |
- |
设备完整不缺件在日本刚下线,满足插入式Fan-Out等下一代高密度 |
国外
|
 |
KLA EDR-7380缺陷检测设备 |
KLA |
EDR-7380 |
- |
12"设备完整不缺件300mm; |
国外
|
|
SCREEN SOKUDO RF-310A系统 |
SCREEN / SOKUDO |
RF-310A |
2014 |
设备完整不缺件,2014年380万美元购买; |
国外
|
|
TSK ML200镭射切割机 |
TSK |
ML200 |
2006 |
设备完整不缺件,质保6个月+30W,质保12个月+70W; |
国内
|
|
CANON FPA-3000i5步进式光刻机 |
CANON |
FPA-3000i5 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
 |
TOK TCA3822光刻机 |
TOK |
TCA3822 |
2008 |
8"设备完整不缺件,有6台现货(年份1996,2006,2008年 |
国外
|
|
Mattson AspenⅡ光刻机 |
Mattson |
AspenⅡ |
1997/2018 |
设备完整不缺件,有2台现货(年份1997,2018年); |
国外
|
|
CANON MAS-801HR光刻机 |
CANON |
MAS-801HR |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON MAS-8000光刻机 |
CANON |
MAS-8000 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
USHIO UX-4486SC光刻机 |
USHIO |
UX-4486SC |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
ULTRATECH AP300光刻机 |
ULTRATECH |
AP300 |
2009 |
12"设备完整不缺件,在美国; |
国外
|
|
CANON FPA-5500iZa光刻机 |
CANON |
FPA-5500iZa |
2006 |
12"设备完整不缺件,有9台现货; |
国外
|
|
CANON FPA-1550M4W光刻机 |
CANON |
FPA-1550M4W |
1995 |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASML PAS 5500/100D光刻机 |
ASML |
PAS5500/100D |
1996 |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
|
HITACHI S-9380扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-9380 |
2004 |
设备完整不缺件； |
国外
|
|
ULVAC SME 200溅射台 |
ULVAC |
SME-200 |
2005 |
设备完整不缺件； |
国外
|
|
ULVAC CV-200气相沉积设备 |
ULVAC |
CV-200 |
2005 |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT ENDURA HP气相沉积设备 |
AMAT |
ENDURA HP |
2004 |
8"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
|
ACCRETECH UF3000探针台 |
ACCRETECH东京精密 |
UF3000 |
- |
设备完整不缺件,有7台现货; |
国外
|
|
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
1994/1997 |
8"设备完整不缺件,有3台现货(年份1994,1997年); |
国外
|
|
TEL P-12XLn+探针台 |
TEL |
P-12XLn+ |
2007 |
设备完整不缺件,有2台现货； |
国外
|
|
Agilent 4072B测试系统 |
Agilent |
4072B |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TERADYNE UltraFLEX DC测试系统 |
TERADYNE |
UltraFLEX DC |
2020 |
设备完整不缺件,有5台现货; |
国外
|
|
TERADYNE MicroFlex测试系统 |
TERADYNE |
MicroFlex |
2008 |
设备完整不缺件,有4台现货; |
国外
|
|
TERADYNE J750测试系统 |
TERADYNE |
J750 |
- |
设备完整不缺件,有3台现货; |
国外
|
|
KEITHLEY S450测试系统 |
KEITHLEY |
S450 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
ADVANTEST T6577测试系统 |
ADVANTEST |
T6577 |
- |
设备完整不缺件,有8台现货; |
国外
|
|
ADVANTEST T2000 AiR测试系统 |
ADVANTEST |
T2000 AiR |
- |
设备完整不缺件； |
国外
|
|
TEL ALPHA-303i LPCVD |
TEL |
ALPHA-303i |
2006 |
12"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
|
HITACHI DJ-1206VN-DM LPCVD |
HITACHI |
DJ-1206VN-DM(Quixace1-ALDINNA) |
2006 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI DJ-1206V-DF LPCVD |
HITACHI |
DJ-1206V-DF(Quixace2) |
2007 |
12"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
|
HITACHI DJ-1206V-DF LPCVD |
HITACHI |
DJ-1206V-DF(Quixace1) |
2006/2007 |
12"设备完整不缺件,有2台现货(年份2006,2007年); |
国外
|
|
SEN NV-MC3离子注入机 |
SEN |
NV-MC3 |
2009 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
AXCELIS NV-GSD-A-80离子注入机 |
AXCELIS |
NV-GSD-A-80 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT VIISta HC离子注入机 |
AMAT |
VIISta HC |
- |
设备完整不缺件； |
国外
|
|
SANYO IR-EPOCH5500测量设备 |
SANYO |
IR-EPOCH5500 |
2009 |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
RUDOLPH Matrix S200测量设备 |
RUDOLPH |
Matrix S200 |
2008 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
OTHER Mentor DF3-SE测量设备 |
OTHER |
Mentor DF3-SE |
- |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
Nanometrics M5100测量设备 |
Nanometrics |
M5100 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
N&K 3300测量设备 |
N&K |
3300 |
2003 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA STARLIGHT301(300SL)测量设备 |
KLA |
STARLIGHT301(300SL) |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA SP1-TBI测量设备 |
KLA |
SP1-TBI |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA SCD-XT测量设备 |
KLA |
SCD-XT |
- |
12"设备完整不缺件,有3台现货; |
国外
|
|
KLA Archer A300 AIM测量设备 |
KLA |
Archer A300 AIM |
2010 |
设备完整不缺件,日本仓库中； |
国外
|
|
HITACHI VR-70测量设备 |
HITACHI |
VR-70 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI VR-120测量设备 |
HITACHI |
VR-120 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS VM-2210测量设备 |
DNS |
VM-2210 |
2008/2014 |
8"设备完整不缺件,有两2台现货(年份2008,2014年); |
国外
|
|
DNS VM-2110测量设备 |
DNS |
VM-2110 |
2007 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASML CYMER XLA140光刻机 |
ASML |
XLA140 |
2003 |
设备完整不缺件,无法卖往中国； |
国外
|
|
ASYST SMIF LOADER晶圆传输设备 |
ASYST |
SMIF LOADER |
- |
设备完整不缺件； |
国外
|
|
SAMCO RIE-331LC刻蚀机 |
SAMCO |
RIE-331LC |
2013 |
设备完整不缺件； |
国外
|
|
SAMCO RIE-230LC刻蚀机 |
SAMCO |
RIE-230LC |
- |
设备完整不缺件； |
国外
|
|
HITACHI U-702A刻蚀机 |
HITACHI |
U-702A |
2004/2009 |
12"设备完整不缺件,有2台现货(年份2004,2009年); |
国外
|
|
HITACHI M-712刻蚀机 |
HITACHI |
M-712 |
2006 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI M-631刻蚀机 |
HITACHI |
M-631 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI M-531AE刻蚀机 |
HITACHI |
M-531AE |
1996 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI M-501AW刻蚀机 |
HITACHI |
M-501AW |
2000 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI M-318SX刻蚀机 |
HITACHI |
M-318SX |
1993 |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI M-318NX刻蚀机 |
HITACHI |
M-318NX |
1995 |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI M-308AT刻蚀机 |
HITACHI |
M-308AT |
1999 |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Centura-DPS刻蚀机 |
AMAT |
Centura-DPS |
2007 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Centura AP-DPS刻蚀机 |
AMAT |
Centura AP-DPS |
2005 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TELINDY I-RAD扩散炉 |
TEL |
TELINDY I-RAD |
2008 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI DD-853V扩散炉 |
HITACH |
DD-853V |
- |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI DD-1206VN-DM扩散炉 |
HITACH |
DD-1206VN-DM |
2004 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
DISCO DFD6341划片机 |
DISCO |
DFD6341 |
- |
设备完整不缺件,有19台现货; |
国外
|
|
DISCO DFD6340全自动切割机 |
DISCO |
DFD6340 |
- |
设备完整不缺件,有11台现货; |
国外
|
|
DNS SD-W60A-AVP显影机 |
DNS |
SD-W60A-AVP |
2013 |
4"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UNITY EP Parts蚀刻机 |
TEL |
UNITY EP Parts |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UNITY EP蚀刻机 |
TEL |
UNITY EP |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TRIAS气相沉积设备 |
TEL |
TRIAS |
2004 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
LAM Concept Three Speed CVD气相沉积设备 |
LAM |
Concept Three Speed |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI KV-J888 |
HITACHI |
KV-J888 |
2013 |
8"设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT Chamber |
- |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Centura WxZ刻蚀机 |
AMAT |
Centura WxZ |
2000 |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL MARK VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK VZ |
- |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL LITHIUS涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS |
2006 |
12"设备完整不缺件,有34台现货(年份2005年8台,2006年 |
国外
|
|
TEL ACT8涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
- |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS RF3(RF-300A)化学气相沉积 |
DNS |
RF3(RF-300A) |
2006 |
12"设备完整不缺件,有6台现货; |
国外
|
|
KLA Surfscan SP2晶圆检测系统 |
KLA |
SP2 |
- |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
|
DNS HP-60BW-AV晶圆清洗设备 |
DNS |
HP-60BW-AV |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Reflexion miniship LK机械抛光设备 |
AMAT |
Reflexion miniship LK |
- |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
Horiuchi MSEA601S-S001粘合机 |
Horiuchi |
MSEA601S-S001 |
- |
设备完整不缺件,有6台现货; |
国外
|
|
Nordson AP-300A等离子清洗机 |
Nordson |
AP-300A |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
NITTO HR8500II撕膜机 |
NITTO |
HR8500II |
- |
设备完整不缺件; |
国内
|
|
KLA Surfscan SP2晶圆检测系统 |
KLA |
SP2 |
- |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国内
|
|
POWATEC Wafer Mounter晶圆贴片机 |
POWATEC |
Wafer Mounter |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
FOUR Dimensions CVMAP 3092-A测试仪 |
FOUR Dimensions |
CVMAP 3092-A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NC-80E-12量测设备 |
- |
NC-80E-12 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA ES31量测设备 |
KLA |
ES31 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DAITO BN3-S54光刻机 |
DAITO |
BN3-S54 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DANTAKUMA DT-1600光刻机 |
DANTAKUMA |
DT-1600 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DANTAKUMA DT-1600光刻机 |
DANTAKUMA |
DT-1600 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SOKUDO SK-3000光刻机 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SOKUDO SK-3000光刻机 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SOKUDO SK-3000光刻机 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SOKUDO SK-3000光刻机 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SOKUDO SK-3000光刻机 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SOKUDO SK-3000光刻机 |
SOKUDO |
SK-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UNITY2e-855DD干式蚀刻机 |
TEL |
UNITY2e-855DD |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Telius SP-Vesta干式蚀刻机 |
TEL |
Telius SP-Vesta |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TECHNOS TREX610光谱仪 |
TECHNOS |
TREX610 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
PHILIPS PW2800X-Ray检测设备 |
PHILIPS |
PW2800 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TYK NEL-HR8500尾气处理设备 |
TYK |
NEL-HR8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS FL-820L湿法处理设备 |
DNS |
FL-820L |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS FL-820L湿法处理设备 |
DNS |
FL-820L |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS FC-821L湿法处理设备 |
DNS |
FC-821L |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
APPRECIA ExcaliburISR湿法处理设备 |
APPRECIA |
ExcaliburISR |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UW8000湿法处理设备 |
TEL |
UW8000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UW8000湿法处理设备 |
TEL |
UW8000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UW300Z湿法处理设备 |
TEL |
UW300Z |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HUGLE UPC12000R湿法清洗设备 |
HUGLE |
UPC12000R |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SET VRC-200T清洗设备 |
SET |
VRC-200T |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS SS-W60A-AR清洗设备 |
DNS |
SS-W60A-AR |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
K&S 8060封装设备 |
K&S |
8060 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TAKIMOTO TTS-6500WT超声波清洗机 |
TAKIMOTO |
TTS-6500WT |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
KOKUSAI VR120S晶圆表面检测设备 |
KOKUSAI |
VR120S |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI KOKUSAI VR-120晶圆表面检测设备 |
HITACHI KOKUSAI |
VR-120 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI KOKUSAI VR-30B晶圆表面检测设备 |
HITACHI KOKUSAI |
VR-30B |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOPCON WM-5000晶圆表面检测设备 |
TOPCON |
WM-5000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TENCOR Step Guage Αstep晶圆表面检测设备 |
TENCOR |
Step Guage(Αstep) |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK IM-7晶圆表面检测设备 |
NIDEK |
IM-7 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK IM-7晶圆表面检测设备 |
NIDEK |
IM-7 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
RIGAKU SYS-3630晶圆表面检测设备 |
RIGAKU |
SYS-3630 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA 2131晶圆表面检测设备 |
KLA |
2131 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA FLX2908晶圆表面检测设备 |
KLA |
FLX2908 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA SF4500晶圆表面检测设备 |
KLA |
SF4500 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOKYO AIRCRAFT MAC-92晶圆表面检测设备 |
TOKYO AIRCRAFT |
MAC-92 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE WS-211-4-STA晶圆分选机 |
NONE |
WS-211-4-STA |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE WS-211-4-FA晶圆分选机 |
NONE |
WS-211-4-FA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
RAMGRABER RAMOS300-SST晶圆分选机 |
RAMGRABER |
RAMOS300-SST |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
BROOKS MTX2000/2晶圆分选机 |
BROOKS |
MTX2000/2 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ROTHSE RR6141晶圆分选机 |
ROTHSE |
RR6141 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SEIWA WT256FS晶圆定位系统 |
SEIWA |
WT256FS |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SEIWA WT256FS晶圆定位系统 |
SEIWA |
WT256FS |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS SS-3000晶圆清洗机 |
DNS |
SS-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA AWUS3110晶圆探针台 |
KLA |
AWUS3110 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LH800 LH800晶圆键合机 |
LH800 |
LH800 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
INNOLAS GMBH C3000DPS晶圆打标机 |
INNOLAS GMBH |
C3000DPS |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPAS AL110 + MX61晶圆装卸机 |
OLYMPAS |
AL110 + MX61 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TORAY INSPECTRA 100EX晶圆检测设备 |
TORAY |
INSPECTRA 100EX |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASYST LPT2200晶圆装卸机 |
ASYST |
LPT2200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
VERTEX VERTEX-3 DD-803气相沉积设备 |
VERTEX |
VERTEX-3 DD-803 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
USHIO UMA-802-HC551NW紫外线固化设备 |
USHIO |
UMA-802-HC551NW |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
USHIO UMA-802-HC551NW紫外线固化设备 |
USHIO |
UMA-802-HC551NW |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HORIBA UT-300薄膜测量设备 |
HORIBA |
UT-300 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TERADYNE MAGNUM1-PV测试机 |
TERADYNE |
MAGNUM1-PV |
1996 |
300mm设备完整不缺件,设备在韩国; |
国外
|
|
TEL ACT8 2C2D涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 2C2D |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL MARK 7涂胶显影机 |
TEL |
MARK 7 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA UV1250SE薄膜测量系统 |
KLA |
UV1250SE |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ADVANTEST T5334测试检测设备 |
ADVANTEST |
T5334 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
YAMADA FTOR3测试检测设备 |
YAMADA |
FTOR3 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TESEC 3701-ＴＴTT tester测试检测设备 |
TESEC |
3701-ＴＴTT tester |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TESEC 3701-ＴＴTT tester测试检测设备 |
TESEC |
3701-ＴＴTT tester |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SHIBASOKU WL25测试检测设备 |
SHIBASOKU |
WL25 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SHIBASOKU WL25测试检测设备 |
SHIBASOKU |
WL25 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS STM-603-PLS存储设备 |
DNS |
STM-603-PLS |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NITTO TL-1键合机 |
NITTO |
TL-1 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TAKATORI ATM-2100贴膜机 |
TAKATORI日本高鸟 |
ATM-2100 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TAKATORI ATM-1100B贴膜机 |
TAKATORI日本高鸟 |
ATM-1100B |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TAKATORI ATM-1100B贴膜机 |
TAKATORI日本高鸟 |
ATM-1100B |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPAS MX-50A + AL110 + FD-120M显微镜 |
OLYMPAS |
MX-50A + AL110 + FD-120M |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TORAY SP-500B显微镜 |
TORAY |
SP-500B |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
VEECO DEK-TAK 8000检测系统 |
VEECO |
DEK-TAK 8000 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LYON KL-22浸没式粉尘仪 |
LYON |
KL-22 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LYON KL-25浸没式粉尘仪 |
LYON |
KL-25 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Mattson Aspen III ICP等离子去胶机 |
Mattson |
Aspen III ICP |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON Surpass 320等离子去胶机 |
CANON |
Surpass 320 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON Surpass 320等离子去胶机 |
CANON |
Surpass 320 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON NSR i12D光刻机 |
NIKON |
NSR-i12D |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TRIKON SIGMA2000光刻机 |
TRIKON |
SIGMA2000 |
- |
4"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL PR200Z旋涂仪 |
TEL |
PR200Z |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KOKUSAN G-6甩干机 |
KOKUSAN |
G-6 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE PALS DP2200SI接触式曝光机 |
NONE |
PALS DP2200SI |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
YOKOGAWA TS600芯片测试机 |
YOKOGAWA |
TS600 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOPCON DS-720扫描电子显微镜 |
TOPCON |
DS-720 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI S-5000扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-5000 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI IS3200SE扫描电子显微镜 |
HITACHI |
IS3200SE |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI I-5320N扫描电子显微镜 |
HITACHI |
I-5320N |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI RS-3000扫描电子显微镜 |
HITACHI |
RS-3000 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SCREEN SS-W80A-AR尾气处理设备 |
SCREEN |
SS-W80A-AR |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Inhouse WS-5020尾气处理设备 |
Inhouse |
WS-5020 |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS SPW-813A处理设备 |
DNS |
SPW-813A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS SC-200W涂胶显影机 |
DNS |
SC-200W |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS SDW-629-BV(P)显影机 |
DNS |
SDW-629-BV(P) |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS SDW-629-BV(P)显影机 |
DNS |
SDW-629-BV(P) |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS SSW-60A-AR尾气处理设备 |
DNS |
SSW-60A-AR |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS SSW-629B尾气处理设备 |
DNS |
SSW-629B |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS SSW-60A-AR尾气处理设备 |
DNS |
SSW-60A-AR |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS SSW-629B尾气处理设备 |
DNS |
SSW-629B |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
EBARA GDC250A晶圆清洗设备 |
EBARA |
GDC250A |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
EBARA GDC250SA晶圆清洗设备 |
EBARA |
GDC250SA |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
EBARA GDS250SA晶圆清洗设备 |
EBARA |
GDS250SA |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
EBARA GDS500SA晶圆清洗设备 |
EBARA |
GDS500SA |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON NSR SF130光刻机 |
NIKON |
NSR-SF130 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON S307光刻机 |
NIKON |
S307 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI S-8820扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-8820 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LEICA/VISTEC MIS-200圆缺陷检测设备 |
LEICA/VISTEC |
MIS-200 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Vantage_AP扩散炉 |
AMAT |
Vantage_AP |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE-8500M蚀刻机 |
TEL |
TE-8500M |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Semilab FAAST230DP SPV缺陷检测设备 |
Semilab |
FAAST230DP SPV |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LEICA INS-2000缺陷检测设备 |
LEICA |
INS-2000 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE JFS9855S电子束缺陷检测设备 |
NONE |
JFS9855S |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
PD-3000掩模设备 |
- |
PD-3000 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOKYO TR6132UD-BF涂布机 |
TOKYO |
TR6132UD-BF |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS DUO涂胶显影机 |
DNS |
DUO |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AP-SYSTEM KORONA-1200P快速退火炉 |
AP-SYSTEM |
KORONA-1200P |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AP-SYSTEM KORONA-1200P快速退火炉 |
AP-SYSTEM |
KORONA-1200P |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LEICA UV Optic Scope紫外光学观测仪 |
LEICA |
UV Optic Scope |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SHINSUNG Eng SGL-30晶圆传输设备 |
SHINSUNG Eng |
SGL-30 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON COSMOS I-1201物理气相沉积设备 |
CANON |
COSMOS I-1201 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON COSMOS I-1201物理气相沉积设备 |
CANON |
COSMOS I-1201 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON COSMOS I-1201物理气相沉积设备 |
CANON |
COSMOS I-1201 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LAM INOVA物理气相沉积设备 |
LAM |
INOVA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMJ Endura-CL MOCVD物理气相沉积设备 |
AMJ |
Endura-CL MOCVD |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA AIT-3缺陷检测系统 |
KLA |
AIT-3 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA 2139缺陷检测系统 |
KLA |
2139 |
- |
200mm设备完整不缺件,设备状态差; |
国外
|
|
ACCRETECH UF200A探针台 |
ACCRETECH |
UF200A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ACCRETECH UF200A探针台 |
ACCRETECH |
UF200A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UF200探针台 |
TEL |
UF200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TSK A-PM-90A探针台 |
TSK |
A-PM-90A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-12Xln+探针台 |
TEL |
P-12Xln+ |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-12XLn探针台 |
TEL |
P-12XLn |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ACCRETECH UF200SA探针台 |
ACCRETECH东京精密 |
UF200SA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ACCRETECH UF200SA探针台 |
ACCRETECH东京精密 |
UF200SA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ADVANTEST T3347A探针台 |
ADVANTEST |
T3347A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-12XL探针台 |
TEL |
P-12XL |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-12XL探针台 |
TEL |
P-12XL |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI HA5030Q探针台 |
HITACHI |
HA5030Q |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL 20S PROBER探针台 |
TEL |
20S PROBER |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Electroglas EG-4080X探针台 |
Electroglas |
EG-4080X |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL 80S探针台 |
TEL |
80S |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KCTEC KCT-W300F减薄设备 |
KCTEC |
KCT-W300F |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DANTAKUMA SNOS 302FX晶圆封装设备 |
DANTAKUMA |
SNOS 302FX |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON S204光刻机 |
NIKON |
S204 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
USHIO SE-521D-NW光刻机 |
USHIO |
SE-521D-NW |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM Eagle12等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle12 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM Eagle-12 Rapidfire等离子体气相沉积设备 |
ASM |
Eagle-12 Rapidfire |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ASM DRAGON气相沉积设备 |
ASM |
DRAGON |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LION KZ-30U颗粒物采样设备 |
LION |
KZ-30U |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AGILENT/HP HP4071A参数分析仪 |
AGILENT/HP |
HP4071A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AGILENT/HP HP4071A参数分析仪 |
AGILENT/HP |
HP4071A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE OZ-4000刻蚀机 |
NONE |
OZ-4000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE OZ-4000刻蚀机 |
NONE |
OZ-4000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE ILD-4033刻蚀机 |
NONE |
ILD-4033 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA ARCHER 10套刻精度测量设备 |
KLA |
ARCHER 10 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE SST-C-632-281有机剥离设备 |
NONE |
SST-C-632-281 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Endura-CL (MOCVD)化学气相沉积设备 |
AMAT |
Endura-CL (MOCVD) |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DAITRON IM-15显微镜 |
DAITRON |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DAITRON IM-15显微镜 |
DAITRON |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPUS AHMT3显微镜 |
OLYMPUS |
AHMT3 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPUS AL120-AMB6-150显微镜 |
OLYMPUS |
AL120-AMB6-150 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPUS OLS3000显微镜 |
OLYMPUS |
OLS3000 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK IM-15显微镜 |
NIDEK |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK IM-15显微镜 |
NIDEK |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK IM-15显微镜 |
NIDEK |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK IM-15显微镜 |
NIDEK |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK IM-15显微镜 |
NIDEK |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK IM-15显微镜 |
NIDEK |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIDEK IM-15显微镜 |
NIDEK |
IM-15 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPUS INSPB01显微镜 |
OLYMPUS |
INSPB01 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPUS BH2显微镜 |
OLYMPUS |
BH2 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPUS BH2显微镜 |
OLYMPUS |
BH2 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
OLYMPUS BH2显微镜 |
OLYMPUS |
BH2 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE NWS-200R 量测设备 |
NONE |
NWS-200R |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE WS-211-4-FAR 量测设备 |
NONE |
WS-211-4-FAR |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE ST-3525量测设备 |
NONE |
ST-3525 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Rudolph MP200膜厚测试仪 |
Rudolph |
MP200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
MIWA L115C 1520AK量测设备 |
MIWA |
L115C 1520AK |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Rudolph MPC 200XCu膜厚测试仪 |
Rudolph |
MPC 200XCu |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Rudolph MP200膜厚测试仪 |
Rudolph |
MP200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TRIAS化学气相沉积 |
TEL |
TRIAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Trias Ti/TiN化学气相沉积 |
TEL |
Trias Ti/TiN |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Trias Ti/TiN化学气相沉积 |
TEL |
Trias Ti/TiN |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI S-9220扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-9220 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SONY IRG-12光罩缺陷检测设备 |
SONY |
IRG-12 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LASERTEC 9MD62S掩模缺陷检测设备 |
LASERTEC |
9MD62S |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON MPA-500Fab光刻机 |
CANON |
MPA-500Fab |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON NSR 1755G7A光刻机 |
NIKON |
NSR-1755G7A |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON NSR 2005i8A光刻机 |
NIKON |
NSR-2005i8A |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
N/A MNW-201B光刻机 |
N/A |
MNW-201B |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON PLA-501FA光刻机 |
CANON |
PLA-501FA |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON PLA-501FA光刻机 |
CANON |
PLA-501FA |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON MPA-500Fab光刻机 |
CANON |
MPA-500Fab |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOKYO MAC-92光罩缺陷检测设备 |
TOKYO |
MAC-92 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KLA 2131光罩缺陷检测设备 |
KLA |
2131 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TORAY 1000EX-2光罩缺陷检测设备 |
TORAY |
1000EX-2 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TORAY 1000EX-2光罩缺陷检测设备 |
TORAY |
1000EX-2 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TORAY 1000EX-2光罩缺陷检测设备 |
TORAY |
1000EX-2 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON AMI-3500量测对准设备 |
NIKON |
AMI-3500 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON AMI-3000量测对准设备 |
NIKON |
AMI-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON AMI-3000量测对准设备 |
NIKON |
AMI-3000 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SCREEN SK-3000-BVPEU 干法刻蚀机 |
SCREEN |
SK-3000-BVPEU |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TKK RETICLE TRANSFER掩模设备 |
TKK |
RETICLE TRANSFER |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LION KH-02颗粒检测仪 |
LION |
KH-02 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LION KZ-36U颗粒检测仪 |
LION |
KZ-36U |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
KOBELCO LTA-1000量测设备 |
KOBELCO |
LTA-1000 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI TS-3700粉尘监测仪 |
HITACHI |
TS-3700 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS LA-820退火炉 |
DNS |
LA-820 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT RTP XE CENTURA退火炉 |
AMAT |
RTP XE CENTURA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
CANON HP-2106退火炉 |
CANON |
HP-2106 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOPCON VI-3200载盘检测系统 |
TOPCON |
VI-3200 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
RIGAKU 3604光谱分析仪 |
RIGAKU |
3604 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT VIISTA HC 大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT VIISTA HC 大束流离子注入机 |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON NSR i9光刻机 |
NIKON |
NSR-i9 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON NSR 1755i8A光刻机 |
NIKON |
NSR-1755i8A |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SUSS Falcon Polyimid Developer晶圆键合设备 |
SUSS |
Falcon Polyimid Developer |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SUSS CB200晶圆键合设备 |
SUSS |
CB200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL FORMULA立式扩散炉 |
TEL |
FORMULA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL FORMULA立式扩散炉 |
TEL |
FORMULA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL ALPHA-85Z立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-85Z |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL ALPHA-801D立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-801D |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL ALPHA-85Z立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-85Z |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Indy-PE_6L2B立式扩散炉 |
TEL |
Indy-PE_6L2B |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TBC Bio-Rad红外光谱仪 |
TBC |
Bio-Rad |
- |
5"设备完整不缺件; |
国外
|
|
ESPEC PHH-201M 环境测试设备 |
ESPEC |
PHH-201M |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
RIGAKU GXR300射线分析仪 |
RIGAKU |
GXR300 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SCREEN SP-W621刻蚀机 |
SCREEN |
SP-W621 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI M-602A干法刻蚀机 |
HITACHI |
M-602A |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL VESTA-NV3蚀刻机 |
TEL |
VESTA-NV3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL VESTA-NV3蚀刻机 |
TEL |
VESTA-NV3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT G5-MESA蚀刻机 |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE-8500蚀刻机 |
TEL |
TE-8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UNITY PE蚀刻机 |
TEL |
UNITY PE |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Centura Etch Enabler 300 2蚀刻机 |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Centura Etch Enabler 300 2蚀刻机 |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Telius DRM T-3055DD蚀刻机 |
TEL |
Telius DRM T-3055DD |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI U-702A刻蚀机 |
HITACHI |
U-702A |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TEL TE-8500PEEATC蚀刻机 |
TEL |
TE-8500PEEATC |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UNITY IIe-855PP DP蚀刻机 |
TEL |
UNITY IIe-855PP DP? |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UNITY IIe-855II IEM蚀刻机 |
TEL |
UNITY IIe-855II IEM? |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TeliusSP-3055SS蚀刻机 |
TEL |
TeliusSP-3055SS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Centura Enabler蚀刻机 |
AMAT |
Centura Enabler |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AXCELIS ES3蚀刻机 |
AXCELIS |
ES3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AXCELIS ES3蚀刻机 |
AXCELIS |
ES3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ANELVA ILD-4015蚀刻机 |
ANELVA |
ILD-4015 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
ANELVA ILD-4015蚀刻机 |
ANELVA |
ILD-4015 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE5000ATC涂胶显影机 |
TEL |
TE5000ATC |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Unity2e-855II干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855II |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Unity2e-855II干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855II |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Unity2e-855II干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855II |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Unity2e-855SS 干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855SS |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
PSK ULTIMA3(AC Rack only)蚀刻机 |
PSK |
ULTIMA3(AC Rack only) |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LAM TORUS200蚀刻机 |
LAM |
TORUS200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LAM TORUS200蚀刻机 |
LAM |
TORUS200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TAKAKI ETM-3010S测试仪 |
TAKAKI |
ETM-3010S |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Rudolph FE-7薄膜厚度测量仪 |
Rudolph |
FE-7 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON NSR SF130光刻机 |
NIKON |
NSR-SF130 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT Raider ECD310电化学沉积设备 |
AMAT |
Raider ECD310 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
INFICON 14115 UL200 DRY氦质谱检漏仪 |
INFICON |
14115 UL200 DRY |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NEC RIE Dry Etching干式蚀刻机 |
NEC |
RIE Dry Etching |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE TSE-2600SE干式蚀刻机 |
NONE |
TSE-2600SE |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOK TCA-2600SE干式蚀刻机 |
TOK |
TCA-2600SE |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TOK TCA-3822干式蚀刻机 |
TOK |
TCA-3822 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT CenturaHDP 5300Omega干式蚀刻机 |
AMAT |
CenturaHDP 5300Omega |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Tactras NCCP SCCM干式蚀刻机 |
TEL |
Tactras NCCP SCCM |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL VIGUS干式蚀刻机 |
TEL |
VIGUS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
HITACHI U-702干式蚀刻机 |
HITACHI |
U-702 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Unity2e-855DPA干式蚀刻机 |
TEL |
Unity2e-855DPA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Unity2e-85TPATC干式蚀刻机 |
TEL |
Unity2e-85TPATC |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UNITY2e-855DD干式蚀刻机 |
TEL |
UNITY2e-855DD |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
FUJITSU VA-2000测试系统 |
FUJITSU |
VA-2000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SHINKO SEIKI SPR-30MLP2G探针台 |
SHINKO SEIKI |
SPR-30MLP2G |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS SS-W80A-AR清洗机 |
DNS |
SS-W80A-AR |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Hewlett-Packard DIGITAL MULTI METER测量设备 |
Hewlett-Packard |
DIGITAL MULTI METER |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
Datacon 2200 apm全自动贴片机 |
Datacon |
2200 apm |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NAGASE SANGYO HE LEAK_ASM-12检测设备 |
NAGASE SANGYO |
HE LEAK_ASM-12 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS MIS-200缺陷复检工具 |
DNS |
MIS-200 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS MIS-200缺陷复检工具 |
DNS |
MIS-200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS MIS-200缺陷复检工具 |
DNS |
MIS-200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT UVISION4缺陷检测工具 |
AMAT |
UVISION4 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE SYSTEM1188去胶设备 |
NONE |
SYSTEM1188 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
UNAXIS CLC200薄膜沉积设备 |
UNAXIS |
CLC200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT HTF-Centura EPI外延沉积设备 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT HTF-Centura EPI外延沉积设备 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TRIAS气相沉积设备 |
TEL |
TRIAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TRIAS气相沉积设备 |
TEL |
TRIAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TRIAS气相沉积设备 |
TEL |
TRIAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TRIAS气相沉积设备 |
TEL |
TRIAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TRIAS气相沉积设备 |
TEL |
TRIAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
IPS MAHA-SP气相沉积设备 |
IPS |
MAHA-SP |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TRIAS气相沉积设备 |
TEL |
TRIAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LAM ALTUS(Chamber only)气相沉积设备 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
LAM ALTUS(Chamber only)气相沉积设备 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
FRONTIER FSM128LC2C气相沉积设备 |
FRONTIER |
FSM128LC2C |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AGILENT PA200HS测试仪 |
AGILENT |
PA200HS |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NIKON NSR S306光刻机 |
NIKON |
NSR-S306 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
NONE GEMINI PCU设备 |
NONE |
GEMINI PCU |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL ACT12涂胶显影机 |
TEL |
ACT12 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Mark 8涂胶显影机 |
TEL |
Mark 8 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SCREEN SDW-80A涂胶显影机 |
SCREEN |
SDW-80A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SCREEN SCW-80A涂胶显影机 |
SCREEN |
SCW-80A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
AMAT RF3 涂胶显影机 |
AMAT |
RF3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS RF3S涂胶显影机 |
DNS |
RF3S |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS RF3涂胶显影机 |
DNS |
RF3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS RF3涂胶显影机 |
DNS |
RF3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
DNS RF3涂胶显影机 |
DNS |
RF3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SPEED FAM SPEEDFAM CMP-2机械抛光设备 |
SPEED FAM |
SPEEDFAM CMP-2 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SANKYO AC-6022清洗机 |
SANKYO |
AC-6022 |
- |
5"6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
ZEUS PEGASUS_NEW清洗机 |
ZEUS |
PEGASUS_NEW |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL CERTAS刻蚀机 |
TEL |
CERTAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
SEMITOOL A870S甩干机 |
SEMITOOL |
A870S#1 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
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SHIBAURA CDE-7-3晶圆清洗机 |
SHIBAURA |
CDE-7-3 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
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SHIBAURA CDE-7-3B晶圆清洗机 |
SHIBAURA |
CDE-7-3B |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
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SHIBAURA CDE-7-3A晶圆清洗机 |
SHIBAURA |
CDE-7-3A |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
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EBARA EAC300bi-T研磨设备 |
EBARA |
EAC300bi-T |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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EBARA EAC300bi-T研磨设备 |
EBARA |
EAC300bi-T |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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KLA 2401缺陷检测设备 |
KLA |
2401 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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TEL FORMULA去胶机 |
TEL |
FORMULA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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TOKYO TCA-3822去胶机 |
TOKYO |
TCA-3822 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
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FUSION 200ACU去胶机 |
FUSION |
200ACU |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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FUSION 200ACU去胶机 |
FUSION |
200ACU |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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FUSION 200ACU去胶机 |
FUSION |
200ACU |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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RAMCO RAM8500去胶机 |
RAMCO |
RAM8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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RAMCO RAM8500去胶机 |
RAMCO |
RAM8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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RAMCO RAM8500去胶机 |
RAMCO |
RAM8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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|
RAMCO RAM8500去胶机 |
RAMCO |
RAM8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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SHIBA TEC ICE300去胶机 |
SHIBA TEC |
ICE300 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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SHIBA TEC ICE300去胶机 |
SHIBA TEC |
ICE300 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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SHIBA TEC ICE300去胶机 |
SHIBA TEC |
ICE300 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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SHIBA TEC ICE300去胶机 |
SHIBA TEC |
ICE300 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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ULVAC UNA2200去胶机 |
ULVAC |
UNA2200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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ULVAC PHOENIX Ⅱ去胶机 |
ULVAC |
PHOENIX Ⅱ |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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DNS DUOI涂胶显影机 |
DNS |
DUOI |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
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OLYMPUS MX50/AL100显微镜 |
OLYMPUS |
MX50/AL100 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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AMAT CENTURE MXP刻蚀机 |
AMAT |
CENTURE MXP |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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HITACHI WA-200缺陷检测设备 |
HITACHI |
WA-200 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
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|
AKIM ATTS56退火炉 |
AKIM |
ATTS56 |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
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TEL TE8500ATC蚀刻机 |
TEL |
TE8500ATC |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
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DNK MA-4200光刻机 |
DNK |
MA-1200 |
2010 |
设备完整不缺件; |
国内
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 |
JEOL JBX-8100FS G2电子束光刻机 |
JEOL |
JBX-8100FS G2 |
2022 |
设备完整不缺件,设备很少使用,50KV; |
国内
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KARL SUSS MA6光刻机(双面) |
KARL SUSS |
MA6/BA6 |
1997 |
6"设备完整不缺件,欧洲翻新中; |
国外
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DISCO DFL7161激光开槽机 |
DISCO |
DFL7161 |
2020 |
设备完整不缺件,之前切2"&4"蓝宝石Wafer,镭射波长355n |
国外
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KLA SF27缺陷检测 |
KLA |
SF27 |
- |
设备完整不缺件; |
国内
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 |
CANON FPA-3000EX5光刻机 |
CANON |
FPA-3000EX5 |
1998 |
设备完整不缺件,国内交货,含安装调试; |
国外
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CANON FPA-3000EX6光刻机 |
CANON |
FPA-3000EX6 |
2001 |
8"设备完整不缺件,可改6"4"; |
国内
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NIKON NSR 2005i10C光刻机 |
NIKON |
NSR-2005i10C |
- |
设备完整不缺件; |
国内
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 |
KLA candela CS20表面分析仪 |
KLA |
CS20 |
2010 |
设备完整不缺件; |
国内
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ASML PAS 5500/1150C光刻机 |
ASML |
PAS5500/1150C |
- |
8"/200mm设备完整不缺件; |
国外
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 |
HITACHI SU-8010扫描电镜 |
HITACHI |
SU-8010 |
2013 |
设备完整不缺件,含安装调试培训; |
国内
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PVA TePla IoN 40等离子清洗机 |
PVA TePla |
IoN 40 |
2022 |
德国产设备完整不缺件; |
国内
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DELTA 5001离线分拣机 |
DELTA |
5001 |
2018 |
设备完整不缺件,有2台现货,无硬盘; |
国内
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 |
FSE FU-20PEB-RH-1200蒸发台 |
FSE |
FU-20PEB-RH-1200 |
2007 |
设备完整不缺件,台湾富临1米2腔体,在无尘室没有拆机,坩埚4个*4 |
已售出
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TOHO FLX-2320-S应力测试仪 |
TOHO |
FLX-2320-S |
2007 |
设备完整不缺件; |
国内
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|
Aixtron Aix 2800G5+ MOCVD设备 |
Aixtron |
Aix 2800G5+ |
2013 |
设备完整不缺件; |
国外
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Aixtron Aix 2800G4 HT MOCVD设备 |
Aixtron |
Aix 2800G4 HT |
2007 |
设备完整不缺件; |
国外
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EVATEC RAD BPM3 PVD薄膜沉积设备 |
EVATEC |
RAD BPM3 |
2019 |
设备完整不缺件; |
国内
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|
HITACHI S-7840扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-7840 |
2000 |
4"设备完整不缺件100mm; |
国外
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EBARA F-REX300 CMP化学机械研磨 |
EBARA |
F-REX300 CMP |
2002 |
12"设备完整不缺件300mm; |
国外
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 |
ULVAC Zi-1000N薄膜测量系统 |
ULVAC |
Zi-1000N |
2001 |
少冷冻机,其他都完整; |
国内
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KLA Leica INS3300晶圆缺陷检测 |
KLA |
Leica INS3300 |
2015 |
设备完整不缺件; |
国内
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 |
TEL ALPHA-808SC LPCVD化学气相沉积 |
TEL |
ALPHA-808SC |
1994 |
在线热机,设备完整不缺件; |
国外
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|
Aixtron AIX 2800G5 HT MOCVD化学气相沉积 |
Aixtron |
G5 HT |
2016 |
4"6"设备完整不缺件, 3相,4线+地,208/120V,满载安 |
国外
|
 |
ASM Epsilon 2000 EPI PR外延沉积设备 |
ASM |
Epsilon 2000 EPI PR |
2001 |
设备完整不缺件,在线热机在欧洲,有4台现货(有台2000年); |
国外
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|
VEECO K475 MOCVD化学气相沉积 |
VEECO |
K475 |
2015 |
6"(可设置为任何晶圆尺寸),AsH3 PH3 N2 H2, 8片 |
国外
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|
DNS CW-2000晶圆清洗设备 |
DNS |
CW-2000 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
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 |
TEL TE8500蚀刻机 |
TEL |
TE-8500 |
1995 |
设备完整不缺件,单腔,可以刻蚀SiO2和SiN,150mm已调试好 |
国内
|
 |
ASM AD838L-G2全自动固晶机 |
ASM |
AD838L-G2 |
2015 |
设备完整不缺件; |
国内
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|
NIKON NSR TFHi14DL光刻机 |
NIKON |
NSR-TFHi14DL |
2006 |
8"设备完整不缺件,200mm; |
国外
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|
DISCO DFG840研磨机 |
DISCO |
DFG840 |
2005 |
设备完整不缺件; |
国外
|
 |
DISCO DFG8560研磨机 |
DISCO |
DFG8560 |
2004 |
12"设备完整不缺件,在线热机; |
国内
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|
DISCO DFD6350晶圆切割机 |
DISCO |
DFD6350 |
2003 |
设备完整不缺件; |
国外
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|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
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|
KLA Surfscan SP2晶圆检测系统 |
KLA |
SP2 |
2011 |
设备完整不缺件,在线热机,晶圆片300mm; |
国外
|
 |
DISCO DFG850研磨机 |
DISCO |
DFG850 |
2000 |
设备完整不缺件,设备已被拆卸并存储在仓库中; |
国外
|
 |
TEL ALPHA 8S高温扩散炉 |
TEL |
ALPHA-8S |
1998 |
设备完整不缺件,有4台现货在美国; |
国外
|
 |
AMAT Endura 5500 MOCVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1996 |
6"PVD System,
Can be converted |
国外
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 |
DISCO DFG8540研磨机 |
DISCO |
DFG8540 |
2018 |
设备完整不缺件,美国仓库中; |
国外
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|
KLA Candela 8420表面缺陷检测系统 |
KLA |
Candela 8420 |
2020 |
2-8"设备完整不缺件,20年入厂,设备九成新以上,目前机台为6" |
国内
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|
DISCO DAD3350晶圆切割机 |
DISCO |
DAD3350 |
2014 |
设备完整不缺件; |
国内
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