名称：ULVAC 离子蚀刻设备RMD-200M 类别：半导体设备(预处理) 制造商：ULVAC 设备型号：RMD-200M 制造日期：2000-11 人气： 在 线 咨 询

详细介绍

制造商：ULVAC 型号：RMD-200M 制造日期：2000-11 规格参数： 基板尺寸φ200 t1.2 电源46.3kVA 3φ 50Hz 所需冷却水-设备55.5ℓ/min 所需冷却水-所需气压4.5~6MPa 所需冷却水-设备重量1555kg 水压31.5~3MPa