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名称:
ULVAC 离子蚀刻设备RMD-200M
类别:
半导体设备(预处理)
制造商:
ULVAC
设备型号:
RMD-200M
制造日期:
2000-11
人气:
在 线 咨 询
详细介绍
制造商:ULVAC
型号:RMD-200M
制造日期:2000-11
规格参数:
基板尺寸φ200 t1.2
电源46.3kVA 3φ 50Hz
所需冷却水-设备55.5ℓ/min
所需冷却水-所需气压4.5~6MPa
所需冷却水-设备重量1555kg
水压31.5~3MPa
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