名称：ALD原子层沉积设备 类别：真空设备 制造商：- 设备型号：- 制造日期：- 人气： 在 线 咨 询

详细介绍

原子层沉积技术以精准控制薄层厚度，均匀性，保型性而著称，广泛应用于集成电路（IC）行业，它使得电子器件持续微型化成为可能，逐渐成为了微电子器件制造，半导体领域的必要技术。例如用于制备晶体管栅堆垛、刻蚀终止层。