2023-3-24二手设备列表
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首页 CANON NIKON DISCO ASML AMAT TEL LAM KNS Semics Hitachi Yokogawa
ID 设备名称 制造商 型号 年份 报价(¥) 详细配置 状 态
2741 TEL Mark-II 显影机 TEL Mark-II 1989 面议 6" 2D 国外
2740 TEL Mark-II 显影机 TEL Mark-II 1989 面议 6" 2D 国外
2739 TEL IW-6D 扩散炉 TEL IW-6D 1996 面议 5" 立式氧化 国外
2738 TEL IW-6D 扩散炉 TEL IW-6D 1997 面议 5" 立式氧化 国外
2721 TEL TE480HGC 干法刻蚀机 TEL TE480HGC 1989 面议 6" SIN刻蚀 国外
2720 TEL TE480HGC 干法刻蚀机 TEL TE480HGC 1989 面议 6" SIN刻蚀 国外
2719 TEL SAGAMI LIMITED VDF610S 扩散炉 TEL SAGAMI LIMITED VDF610S 1989 面议 6" 立式扩散 国外
2695 TEL Lithius 涂胶显影机集成式 TEL Lithius 2005.3 面议 8"暂停销售 已售出
2683 TEL Mark8 涂胶显影机 TEL Mark8 1997.3 面议 8" 2C/1D 国外
2623 TEL Horizontal Furnace 扩散炉 TEL Horizontal Furnace 1989 面议 6" 四管卧式常压氧化 国外
2619 TEL TE5000 干法刻蚀机 TEL TE5000 - 面议 6" SIO2刻蚀机 国外
2607 TEL INDYPLUS-B-M TEL INDYPLUS-B-M 2013.06 面议 300mm DIFF 国外
2606 TEL INDYPLUS- TEL INDYPLUS- - 面议 300mm DIFF 国外
2605 TEL ALPHA-303I-H TEL ALPHA-303I-H 2001.07 面议 300mm DIFF 国外
2604 TEL ALPHA-303I-H TEL ALPHA-303I-H 2006.11 面议 300mm DIFF 国外
2603 TEL ALPHA-303I-K TEL ALPHA-303I-K 2005.1 面议 300mm DIFF 国外
2602 TEL ALPHA-303I-K TEL ALPHA-303I-K 2005.11 面议 300mm DIFF 国外
2601 TEL FORMUAL-1S-H TEL FORMUAL-1S-H 2005.01 面议 300mm DIFF 国外
2473 探针台 - TEL 19S 面议 6" 国内
2412 TEL Mark Vz 2C2D TEL Mark Vz 2C2D - 面议 As-is 国外
2390 TEL P-12XL Probe TEL P-12XL Probe - 面议 12" As-is 国外
2382 TEL ACT12 Single Block TEL ACT12 Single Block - 面议 12 As-is 国外
2381 TEL ACT8 2C4D, Double Block TEL ACT8 2C4D,Double Block - 面议 8 working 国外
2365 TEL ALPHA 8S TEL ALPHA 8S - 面议 8 As-is 国外
2352 TEL ACT12 TEL ACT12 - 面议 12 Parts MC 国外
2347 TEL Mark 7 1C2D TEL Mark 7 1C2D - 面议 6 As-is 国外
2343 TEL 8S-E POLC3 TEL 8S-E POLC3 - 面议 6,8 working 国外
2308 TEL INDY Plus-B-M 12" TEL INDY Plus-B-M 2010 面议 Furance 国外
2307 TEL TE8500P 6" TEL TE8500P 面议 Dry Etch 国外
2301 TEL Telius SP 12" TEL Telius SP - 面议 Dry Etch 国外
2300 TEL SCCM TE 12" TEL SCCM TE - 面议 Dry Etch 国外
2293 TEL TE-8401 8" TEL TE-8401 1996 面议 Dry Etcher 国外
2287 NIKON NSR-S204B(激光器是giga) NIKON NSR-S204B - 面议 Manufacturer : 国外
2283 AIXTRON AIX 2600 G3 HT MOCVD AIXTRON AIX 2600 G3 HT 2006 面议 The owner of th 国外
2281 TEL Mark-7 Track TEL Mark-7 - 面议 2C 3D生产线工作条件 国外
2280 TEL Mark-8 Track TEL Mark-8 - 面议 1C 2D原样仓库 国外
2269 TEL TOKYO ELECTRON蚀刻去胶设备 TEL TELIUS SP-308 SCCM 2007 面议 按现状,有3台 国外
2267 AIXTRON AIX 2600 G3 HT AIXTRON AIX 2600 G3 HT 2006 面议 III-N Process
国外
1994 TEL MARK 8涂布机 TEL MARK 8涂布机 - 面议 - 国外
1924 TEL CLEAN TRACK MK-2涂胶显影 TEL MK-2 - 面议 - 国内
1923 TEL涂布机显影机 mark v TEL mark v - 面议 - 国内
1898 显影机 TEL Mark-II - 面议 6" 国内
1897 显影机 TEL Mark-II - 面议 6" 国内
1896 扩散炉 TEL IW-6D 1996 面议 5" 国内
1895 扩散炉 TEL IW-6D 1997 面议 5" 国内
1877 干法刻蚀机 TEL TE480HGC - 面议 6" 国内
1876 干法刻蚀机 TEL TE480HGC - 面议 6" 国内
1875 扩散炉 TEL SAGAMI LIMITED VDF610S - 面议 6" 国内
1851 涂胶显影机 TEL Lithius 2005.3 面议 8" 国内
1839 Mark-8涂胶显影机 TEL Mark-8 1997.3 面议 8" 国内
1621 COATER&DEVELOPER TEL ACT8(2C2D) 1998 面议 PHOTOLITHO 国外
1620 DIFFUSION TEL Alpha-8SE 2005 面议 DIFFUSION 国外
1619 FURNACE_LP-CVD TEL IW-6C 1994 面议 FURNACE 国外
1618 CLEANING SYSTEM TEL MARK-7 1993 面议 WET 国外
1617 COATER TEL MARK-8 1999 面议 PHOTOLITHO 国外
1616 COATER&DEVELOPER TEL MARK-V 1992 面议 PHOTOLITHO 国外
1615 COATER&DEVELOPER TEL MARK-Vz 1998 面议 PHOTOLITHO 国外
1614 WAFER PROBER TEL P-12XL 2002 面议 TEST 国外
1613 WAFER PROBER TEL P-12XL 2002 面议 TEST 国外
1612 WAFER PROBER TEL P-12XLn 2006 面议 TEST 国外
1611 WAFER PROBER TEL P-8XL 2000 面议 TEST 国外
1610 WAFER PROBER TEL P-8XL 2004 面议 TEST 国外
1609 WAFER PROBER TEL P-8XL 2008 面议 TEST 国外
1608 WAFER SCRUBBER TEL SS-4 2001 面议 WET 国外
1607 WAFER SCRUBBER TEL SS-4 2003 面议 WET 国外
1606 PLASMA ETCHER TEL TACTRAS 2013 面议 ETCH 国外
1605 OXIDE ETCHER TEL TE5000ATC 1992 面议 ETCH 国外
1604 OXIDE ETCHER TEL TE8500(S) 2000 面议 ETCH 国外
1603 OXIDE ETCHER TEL TE8500(S)ATC 1992 面议 ETCH 国外
1602 OXIDE ETCHER TEL TE8500(S)ATC 1993 面议 ETCH 国外
1601 OXIDE ETCHER TEL TE8500(S)ATC 1995 面议 ETCH 国外
1600 OXIDE ETCHER TEL TE8500ATC 1995 面议 ETCH 国外
1599 OXIDE ETCHER TEL Telius SCCM 2000 面议 ETCH 国外
1598 OXIDE ETCHER TEL Unity Me 85D 2003 面议 ETCH 国外
1597 OXIDE ETCHER TEL UnityII-855II 1996 面议 ETCH 国外
1596 OXIDE ETCHER TEL UnityII-855II 1996 面议 ETCH 国外
1595 OXIDE ETCHER TEL UnityIIe-655II 2002 面议 ETCH 国外
1594 OXIDE ETCHER TEL UnityIIe-855II 1997 面议 ETCH 国外
1593 OXIDE ETCHER TEL UnityIIe-855II 2002 面议 ETCH 国外
1592 OXIDE ETCHER TEL UnityIIe-855SS 2000 面议 ETCH 国外
1591 OXIDE ETCHER TEL UnityIIe-855SS 2006 面议 ETCH 国外
1495 TEL P-12XL Probe TEL P-12XL Probe - 面议 12" As-is 国外
1494 TEL Mark Vz 2C2D TEL Mark Vz 2C2D - 面议 As-is 国外
1493 TEL ACT8 2C4D, Double Block TEL ACT8 2C4D, Double Block - 面议 working 国外
1492 TEL Mark8 track (2c1d) TEL Mark8 track (2c1d) - 面议 working 国外
1491 TEL Mark 7 Single Block TEL Mark 7 Single Block - 面议 200 As-is 国外
1490 TEL Mark 8 Single Block TEL Mark 8 Single Block - 面议 200 As-is 国外
1489 TEL ACT12 Single Block TEL ACT12 Single Block - 面议 300 As-is 国外
1488 TEL ACT8 Single Block TEL ACT8 Single Block - 面议 200 As-is 国外
1463 Track TEL LITHIUS Pro-i 2007 面议 9COT 3DEV with 国外
1462 Track TEL LITHIUS 2007 面议 5C5D, Inlined t 国外
1435 CVD TEL Trias 2004 面议 4 x CVD TiN, 3 国外
1434 CVD TEL Trias 2011 面议 Trias E+, UV RF 国外
1433 CVD TEL Trias 2006 面议 Ti Ch x2, TiN C 国外
1432 CVD TEL Trias 2012 面议 3CH 国外
1431 CVD TEL Trias 2013 面议 EXII ALD TiN 1C 国外
1430 CVD TEL Trias SPA 2010 面议 LM+TM+AC Rack, 国外
1421 Etch TEL TSP 305 SCCM TE 2007 面议 3x TE configure 国外
1358 Furnace TEL Alpha-303i - 面议 VMM-56-002, 2 b 国外
1350 Furnace TEL Alpha-303i - 面议 VMM-56-002, 2 b 国外
1349 Furnace TEL Alpha-303i - 面议 VMM-56-002, 2 b 国外
1348 Furnace TEL Alpha-303i - 面议 VMM-56-002, 2 b 国外
1342 Implant TEL nFusion 700 2013 面议 - 国外
1328 CVD TEL Trias 2010 面议 - 国外
1305 Etch TEL RLSA-H Chambers 2011 面议 Dry Etch, Bx-, 国外
1283 Etch TEL Tactras Vigus-0 2010 面议 NCCP 国外
1282 Etch TEL Certas LEAGA 2016 面议 In a line. SW V 国外
1204 Furnace TEL Indy Irad 2007 面议 - 国外
1177 ATE TEL Precio octo 2017 面议 - 国外
1157 CVD TEL Trias 2006 面议 - 国外
1156 CVD TEL Trias 2006 面议 - 国外
1155 CVD TEL Trias 2006 面议 - 国外
1151 Track TEL LITHIUS i 2005 面议 Missing parts 国外
1126 Others TEL Air Dryers 2000 面议 - 国外
1125 Others TEL Air Dryers 2001 面议 - 国外
1124 Component TEL D214 2001 面议 - 国外
1118 ATE TEL P-12XLn 2005 面议 - 国外
1117 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 - 国外
1112 ATE TEL P-12XLn 2005 面议 Missing parts i 国外
1111 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 Missing parts i 国外
1110 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 Missing parts i 国外
1109 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 Missing parts i 国外
1108 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 Missing parts i 国外
1107 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 Missing parts i 国外
1106 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 Missing parts i 国外
1105 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 Missing parts i 国外
1104 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 Missing parts i 国外
1103 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 Missing parts i 国外
1102 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 Missing parts i 国外
1101 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 Missing parts i 国外
1074 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 - 国外
1073 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 - 国外
1072 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 - 国外
1062 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 - 国外
1061 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1060 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1059 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1058 ATE TEL P-12XLn+ 2005 面议 - 国外
1057 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1056 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1055 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 - 国外
1054 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1053 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1052 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1051 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1050 ATE TEL P-12XLn+ 2008 面议 - 国外
1049 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1048 ATE TEL P-12XLn+ 2008 面议 - 国外
1047 ATE TEL P-12XLn+ 2008 面议 - 国外
1046 ATE TEL P-12XLn+ 2008 面议 - 国外
1045 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1044 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1043 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1042 ATE TEL P-12XLn+ 2008 面议 - 国外
1041 ATE TEL P-12XLn+ 2008 面议 - 国外
1040 ATE TEL P-12XLn+ 2008 面议 - 国外
1039 ATE TEL P-12XLn+ 2008 面议 - 国外
1038 ATE TEL P-12XLn+ 2008 面议 - 国外
1037 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1036 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1035 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1034 ATE TEL P-12XLn+ 2006 面议 - 国外
1033 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1032 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1031 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1030 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1029 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1028 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1027 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1026 ATE TEL P-12XLn+ 2007 面议 - 国外
1010 PVD TEL MBB-830 1995 面议 TiN 3CH(Cryo_CT 国外
1009 PVD TEL MBB-830 1995 面议 TiN 3CH(Cryo_CT 国外
999 Track TEL LITHIUS 2006 面议 2C5D, Inlined t 国外
959 Furnace TEL Alpha-303i-K 2006 面议 1. GFC : N2, N2 国外
958 Furnace TEL Alpha-303i-K 2003 面议 GFC (N2, SiH4, 国外
957 Furnace TEL Alpha-303i-K 2003 面议 Process: D-Poly 国外
956 Furnace TEL Indy-B 2012 面议 Indy-B-L, MFC(N 国外
955 Furnace TEL Alpha-303i-K 2005 面议 GFC(N2, NH3, Si 国外
954 Furnace TEL Indy-A 2005 面议 GAS (N2, NH3, S 国外
953 Furnace TEL Alpha-303i-K 2004 面议 1. GFC : N2, N2 国外
952 Furnace TEL Alpha-303i-K 2005 面议 GFC(SiH4,0.1%PH 国外
934 Track TEL ACT8 Dual 2013 面议 4C4D, Inline ty 国外
932 Track TEL LITHIUS 2006 面议 2C5D, Inlined t 国外
931 Track TEL LITHIUS 2006 面议 2C5D, Inlined t 国外
930 Track TEL LITHIUS 2006 面议 2C5D, Inlined t 国外
929 Track TEL LITHIUS 2005 面议 2C5D, Inlined t 国外
928 Track TEL LITHIUS 2007 面议 2C5D, Inlined t 国外
927 Track TEL LITHIUS 2006 面议 2C5D, Inlined t 国外
926 Track TEL LITHIUS 2007 面议 2C5D, Inlined t 国外
925 Track TEL LITHIUS 2005 面议 2C5D, Inlined t 国外
924 Track TEL LITHIUS 2005 面议 2C5D, Inlined t 国外
920 WET TEL Cellesta-i 2012 面议 Single wet tool 国外
855 CVD TEL Trias Chamber - 面议 CVD Ti Ch( RF g 国外
854 CVD TEL Trias Chamber - 面议 CVD Ti Ch( RF g 国外
853 CVD TEL Trias Chamber 2016 面议 CVD Ti Ch( RF g 国外
852 CVD TEL Trias Chamber 2016 面议 CVD Ti Ch( RF g 国外
851 CVD TEL Trias Chamber 2016 面议 CVD Ti Ch( RF g 国外
849 Furnace TEL Alpha-303i-K 2004 面议 1. GFC : N2, N2 国外
845 CVD TEL Trias SPA 2010 面议 LM+TM+AC Rack, 国外
815 Track TEL LITHIUS 2005 面议 2C5D, Inlined t 国外
543 Track TEL NS300 2005 面议 CSB (3Foup), AC 国外
532 Track TEL LITHIUS 2007 面议 2C5D, Inlined t 国外
531 Track TEL LITHIUS 2006 面议 5C5D, Inlined t 国外
154 MANIPULATOR TEL - - 面议 1 SET 国外

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注:设备状态不定期更新,是否已售出请咨询。