| 图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
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ASML PAS 5500/850D光刻机 |
ASML |
PAS-5500/850D |
2005 |
设备完整不缺件,2024.01月停产,目前仍通电中,该设备于202 |
国外
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ASML AT-850B光刻机 |
ASML |
AT-850B |
2002 |
12",2024/5台湾拆机,无缺件,有HDD,Dual Chuc |
国内
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ASML AT1100光刻机 |
ASML |
AT1100 |
2002 |
设备完整不缺件,已翻新在台湾;
AT:1100采用193nm |
国内
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ASML XT1250D光刻机 |
ASML |
XT1250D |
- |
设备完整不缺件; |
国外
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ASML AT850C光刻机 |
ASML |
AT850C |
2004 |
8"-12"已拆卸在洁净室中,晶圆300mm,无HDD上海价;
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国外
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ASML PAS 5500/1150C光刻机 |
ASML |
5500/1150C |
2003.06 |
- |
国外
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ASML PAS 5500/100D光刻机 |
ASML |
PAS 5500/100D |
1996 |
6in(有3台); |
国外
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ASML XT1250D光刻机 |
ASML |
XT1250D |
- |
无尘车间正常运转中 |
国外
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ASML TWINSCAN 1100光刻机 |
ASML |
TWINSCAN 1100 |
2002 |
新型320毫米/秒双级
最高的光学利用率
平行校准计量 |
国内
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ASML AT1150C光刻机 |
ASML |
AT-1150C |
2004 |
Stepper 12" |
国内
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ASML XT1250B光刻机 |
ASML |
XT1250B |
2005 |
- |
国外
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ASML XT1700Gi光刻机 |
ASML |
XT1700Gi |
2006 |
- |
国外
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ASML XT1700FI光刻机 |
ASML |
XT1700FI |
2009 |
- |
国外
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ASML XT1250D光刻机 |
ASML |
XT1250D |
2005 |
- |
国外
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ASML XT1250D光刻机 |
ASML |
XT1250D |
2004 |
1) Wafer 12inch
2) Reticle-6inch |
国外
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ASML XT1700FI光刻机 |
ASML |
XT1700FI |
2012 |
1700iP, uniformity(1.01%),Cymer X |
国外
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