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| 图 片 | 设备名称 | 制造商 | 型号 | 年份 | 详细配置 | 状 态 | |||
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AMAT Endura 5500 MOCVD气相沉积设备 | AMAT | Endura 5500 | 1996 | 6"PVD System, Can be converted |
国外 | |||
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AMAT P5000 PECVD刻蚀机 | AMAT | P5000 | 1996 | 6" 2腔:SiO2+Si3N4,设备在美国已翻新,随时发回国内; | 国外 | |||
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AMAT P5000 DRY ETCH刻蚀机 | AMAT | P5000 | 1999 | 6" 2腔: Chamber A =MxP Poly(or Met | 国外 | |||
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AMAT mirra MESA CMP化学机械抛光设备 | AMAT | mirra MESA CMP | 2002 | 设备完整不缺件,已翻新在国内; | 国外 | |||
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AMAT Endura II气相沉积设备 | AMAT | Endura II | - | 有2台现货; | 国内 | |||
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AMAT Endura CL PVD气相沉积设备 | AMAT | Endura CL | 1994 | 1台主机+IMP舱室+2个舱室+1台EFEM; | 国内 | |||
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AMAT CENTRIS MESA ETCH沉积蚀刻 | AMAT | CENTRIS MESA ETCH | - | 有2台现货(1个主机+3个双室,射频机器人涡轮配件齐); | 国内 | |||
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AMAT Endura II PVD 9个腔室气相沉积设备 | AMAT | Endura II PVD 9 | 2007 | 12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库; AL 2室、TTN |
国外 | |||
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AMAT Endura II PVD 8个腔室气相沉积设备 | AMAT | Endura II PVD 8 | 2007 | 12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库; SIP 1室、ALP |
国外 | |||
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AMAT P5000刻蚀机 | AMAT | P5000 | 1996 | 设备完整不缺件,有现货1台; | 国内 | |||
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AMAT Centura 5200刻蚀机 | AMAT | Centura 5200 | - | 设备完整不缺件,8英寸3腔表观系统; | 国外 | |||
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AMAT P5000刻蚀机 | AMAT应用材料 | P5000 | 1996 | CVD 3chamber;nitride CVD 4chambe |
国外 | |||
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AMAT 8330干法刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8330 | - | 6"最大1801W,18片/炉,机械手传片,备件机; | 国内 | |||
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AMAT 8330干法刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8330 | 1988.8 | 6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; | 国内 | |||
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AMAT 8330干法刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8330 | 1990.2 | 6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; | 国内 | |||
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AMAT 8310干法刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8310 | 1990 | 6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; | 国内 | |||
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AMAT 8310干法刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8310 | 1992.6 | 6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; | 国内 | |||
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AMAT 8310干法刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8310 | 1991.5 | 6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; | 国内 | |||
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AMAT 8330干法刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8330 | 1990.5 | 6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; | 国内 | |||
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AMAT 8330干法刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8330 | 1990.7 | 6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; | 国内 | |||
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AMAT 8330干法刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8330 | 1990.7 | 6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; | 国内 | |||
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AMAT 8330干法刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8330 | 1991.4 | 6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; | 国内 | |||
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AMAT 8310干法刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8310 | 1988.6 | 6"最大1801W,18片/炉,机械手传片; | 国内 | |||
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AMAT AMS-2100干法刻蚀机 | AMAT应用材料 | AMS-2100 | - | 在线热机; | 国内 | |||
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YAMATO DKN402烤箱 | YAMATO | DKN402 | - | - | 国外 | |||
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AMAT 8310刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8310 | 1988.6 | 在购热机 6" 刻压点;18片/炉;最大1800W;机械手传片 | 国外 | |||
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AMAT 8330刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8330 | 1991.4 | 在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大1800W;机械手传片 | 国外 | |||
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AMAT 8330刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8330 | 1990.7 | 在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大1800W;机械手传片 | 国外 | |||
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AMAT 8330刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8330 | 1990.7 | 在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大1800W;机械手传片 | 国外 | |||
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AMAT 8330刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8330 | 1990.5 | 在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大1800W;机械手传片 | 国外 | |||
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AMAT 8310刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8310 | 1991.5 | 在购热机 6" 刻压点;18片/炉;最大1800W;机械手传片 | 国外 | |||
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AMAT 8310刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8310 | 1992.6 | 在购热机 6" 刻压点;18片/炉;最大1800W;机械手传片 | 国外 | |||
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AMAT 8330刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8330 | 1990.2 | 在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大1800W;机械手传片 | 国外 | |||
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AMAT 8330刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8330 | 1988.8 | 在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大1800W;机械手传片 | 国外 | |||
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AMAT 8330刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8330 | - | 6"有1台; | 国内 | |||
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AMAT 8110刻蚀机 | AMAT应用材料 | 8110 | - | 6"有1台; | 国内 | |||
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AMAT AMC 7811外延炉 | AMAT | AMC-7811 | - | 6"有8台 | 国内 | |||
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AMAT 7700外延炉 | AMAT应用材料 | 7700 | - | 6"有2台; | 国内 | |||
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AMAT MATERIALS CENTURA ENABLER干法刻蚀设备 | AMAT应用材料 | MATERIALS CENTURA ENABLER | 2008 | System AC Rack Monitor M |
国外 | |||
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AMAT MATERIALS Centura HTF EPI外延沉积 | AMAT应用材料 | MATERIALS Centura HTF EPI Syst | - | 美国已下线 | 国外 | |||
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AMAT Producer-GT CVD化学气相沉积 | AMAT应用材料 | Producer-GT CVD | - | As-is | 国外 | |||
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AMAT mirra MESA CMP化学机械抛光设备 | AMAT | mirra MESA CMP | - | FULL REPUB | 国外 | |||
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AMAT P5000刻蚀机 | AMAT应用材料 | P5000 | - | 8 REFURB | 国外 | |||
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AMAT P5000刻蚀机 | AMAT应用材料 | P5000 | - | FULL REPUB | 国外 | |||
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AMAT Amat Centura2 DSP等离子化学气相沉积 | AMAT应用材料 | Amat Centura2 DSP | - | 8 As-is | 国外 | |||
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AMAT Centura Ultima HDP等离子化学气相沉积 | AMAT应用材料 | Centura Ultima HDP | - | 8 As-is | 国外 | |||
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AMAT Centura Ultima等离子化学气相沉积 | AMAT应用材料 | Centura Ultima | - | 8 As-is | 国外 | |||
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AMAT Centura2 DPS+Poly Etch干法蚀刻机 | AMAT应用材料 | Centura2 DPS+Poly Etch | - | 8 As-is | 国外 | |||
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AMAT P5000 PLIS刻蚀机 | AMAT应用材料 | P5000 PLIS | - | 翻新机Standard TEOS USG x3 Chamber | 国外 | |||
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AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Producer GT | 2007 | 晶圆尺寸：300mm 生产者 GT： 配置 FI：5.4 服 |
国外 | |||
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AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Producer GT | 2008 | 晶圆尺寸：300mm 生产者GT：配置FI 类型：SFEM( |
国外 | |||
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AMAT P5000刻蚀机 | AMAT应用材料 | P5000 | - | 2CH / 3CH | 国外 | |||
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AMAT Vera SEM 3D测量系统 | AMAT应用材料 | Vera SEM 3D | - | Metrology | 国外 | |||
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AMAT Vera SEM 3D测量系统 | AMAT应用材料 | Vera SEM 3D | - | Metrology | 国外 | |||
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AMAT P5000刻蚀机 | AMAT应用材料 | P5000 | 1995 | 2 chambers CVD 3 chambers CVD |
国外 | |||
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AMAT Centura 5200刻蚀机 | AMAT | Centura 5200 | - | CVD System,6"(3)Chambers. | 国外 | |||
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AMAT Centura AP Minos Polysili蚀刻机 | AMAT | Centura AP Minos Polysili | - | - | 国内 | |||
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AMAT MATERIALS CENTURA AP MINOS蚀刻机 | AMAT应用材料 | APPLIED MATERIALS CENTURA AP M | - | - | 国外 | |||
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AMAT 8310氧化物蚀刻器 | AMAT应用材料 | 8310 | - | 8" | 国外 | |||
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AMAT P5000刻蚀机 | AMAT应用材料 | P5000 | - | - | 国内 | |||
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AMAT AKT-3500蚀刻机 | AMAT应用材料 | AKT-3500 | 2018 | CVD | 国外 | |||
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AMAT Centura DPS刻蚀机 | AMAT应用材料 | Centura DPS | 1998 | ETCH | 国外 | |||
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AMAT Centura DXZ刻蚀机 | AMAT应用材料 | Centura DXZ | 1999 | CVD | 国外 | |||
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AMAT Centura MXP刻蚀机 | AMAT应用材料 | Centura MXP | 1997 | ETCH | 国外 | |||
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AMAT Centura XE刻蚀机 | AMAT应用材料 | Centura XE | 2003 | RTP | 国外 | |||
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AMAT Centura XE+刻蚀机 | AMAT应用材料 | Centura XE+ | 2003 | RTP | 国外 | |||
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AMAT P5000刻蚀机 | AMAT应用材料 | P5000 | - | 设备完整不缺件,有现货4台; | 国内 | |||
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AMAT Centura DPS+Poly Etch等离子体蚀刻设备 | AMAT | Centura DPS+Poly Etch | - | As-is | 国外 | |||
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AMAT Producer-GT CVD化学气相沉积 | AMAT应用材料 | Producer-GT CVD | - | As-is | 国外 | |||
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AMAT mirra MESA CMP化学机械抛光设备 | AMAT | mirra MESA CMP | - | FULL REPUB | 国外 | |||
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AMAT P5000刻蚀机 | AMAT | P5000 | - | 8" REFURB | 国外 | |||
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AMAT P5000刻蚀机 | AMAT | P5000 | - | FULL REPUB | 国外 | |||
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AMAT Centura DPS2 Metal等离子体蚀刻设备 | AMAT | Centura DPS2 Metal | 2005 | EFEM(NT, Yaskawa), 3x G2 Metal, 1 | 国外 | |||
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AMAT Centura Axiom Chamber薄膜沉积设备 | AMAT | Centura Axiom Chamber | 2006 | Axiom Only (w/VODM) | 国外 | |||
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AMAT P5000刻蚀机 | AMAT | P5000 | 1988 | CVD Mark1, 3x DLH | 国外 | |||
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AMAT Reflexion FA抛光设备 | AMAT | Reflexion FA | 2005 | CMP | 国外 | |||
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AMAT Vantage 5外延炉 | AMAT | Vantage 5 | 2012 | RTP | 国外 | |||
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AMAT Centura DPS2 Metal等离子体蚀刻设备 | AMAT | Centura DPS2 Metal | 2005 | EFEM(Server, Yaskawa), 3x G2 Meta | 国外 | |||
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AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Producer GT | 2011 | 3 Twin(HARP USG, RPC_FI80131), FI | 国外 | |||
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AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Producer GT | 2010 | 1 Twin CH(ACL) only | 国外 | |||
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AMAT Centura Enabler Etch刻蚀机 | AMAT应用材料 | Centura Enabler | 2007 | - | 国外 | |||
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AMAT Centura Chamber刻蚀机 | AMAT应用材料 | Centura Chamber | 2010 | 2 x Minos, 1 x Carina, 1 x Axion, | 国外 | |||
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AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜 | AMAT | NanoSEM 3D | 2002 | MULTIPLE UNITS AVAILABLE. PLEASE | 国外 | |||
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AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜 | AMAT | NanoSEM 3D | 2002 | ULTIPLE UNITS AVAILBLE. PLEASE I | 国外 | |||
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AMAT Centura Enabler Chamber蚀刻机 | AMAT | Centura Enabler Chamber | 2004 | Condition : Very Good , CE Marked | 国外 | |||
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AMAT Vantage Vulcan外延炉 | AMAT | Vantage Vulcan | 2013 | 2 Chamber RTP System | 国外 | |||
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AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Producer GT | 2014 | Parts Machine: 1 x Proudcer GT ch | 国外 | |||
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AMAT Olympia CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Olympia | 2015 | 2Ch ALD System, Single chamber, I | 国外 | |||
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AMAT ACMS XT II Component晶圆清洗 | AMAT | ACMS XT II | 2005 | - | 国外 | |||
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AMAT ACMS0XT-ASG-E Component清洗设备 | AMAT | ACMS0XT-ASG-E | 2006 | - | 国外 | |||
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AMAT UVision 5 Metrology光学检测计量设备 | AMAT | UVision 5 | 2011 | - | 国外 | |||
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AMAT UVision 5 Metrology光学检测计量设备 | AMAT | UVision 5 | 2012 | 300mm G1 Load Port 2 Moving Monr |
国外 | |||
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AMAT Centura Carina Chamber Etch刻蚀机 | AMAT | Centura Carina Chamber | - | Chamber Only. Carina Etch Chambe |
国外 | |||
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AMAT Endura II PVD气相沉积设备 | AMAT | Endura II | 2006 | 1x DSTTN | 已售出 | |||
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AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜 | AMAT | NanoSEM 3D | 2004 | Installed. Operational. Loadport | 国外 | |||
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AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜 | AMAT | NanoSEM 3D | 2004 | Installed. Operational. | 国外 | |||
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AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜 | AMAT | NanoSEM 3D | 2004 | Installed. Operational. | 国外 | |||
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AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Producer GT | 2015 | 3 Chamber: 1x SiCoNi PME, Frontie | 国外 | |||
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AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Producer GT | 2016 | Frontier FRONTIER etch for Juncti | 国外 | |||
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AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Producer GT | 2015 | Frontier FRONTIER etch for Juncti | 国外 | |||
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AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Producer GT | 2017 | Frontier FRONTIER etch for Juncti | 国外 | |||
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AMAT Octane G2 assy气相沉积 | AMAT应用材料 | Octane G2 assy | 1999 | - | 国外 | |||
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AMAT Octane G2 assy气相沉积 | AMAT应用材料 | Octane G2 assy | 1999 | - | 国外 | |||
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AMAT Endura CL PVD气相沉积设备 | AMAT | Endura CL | 2004 | EFEM(2Ports, Kensington), , 2x A | 国外 | |||
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AMAT Endura CL PVD气相沉积设备 | AMAT | Endura CL | 2004 | EFEM(2Ports, Kensington), 1x Gen | 国外 | |||
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AMAT UVision 5 Metrology光学检测计量设备 | AMAT应用材料 | UVision 5 | 2012 | 2port(TDK TAS300), Yaskawa robot | 国外 | |||
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AMAT Uvision 4量测设备 | AMAT | UVision 4 | 2009 | [As-is]2ea*TDK load port, Kawasak | 国外 | |||
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AMAT Uvision 4量测设备 | AMAT | UVision 4 | - | Parts Sale Available If you need |
国外 | |||
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AMAT Centura DPS2 532 Metal等离子体蚀刻设备 | AMAT应用材料 | Centura DPS2 532 Metal | 2006 | EFEM(Yaskawa), 2xDPS532, 1xAxiom, | 国外 | |||
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AMAT Endura II气相沉积设备 | AMAT | Endura II | 2004 | EFEM, TM, 2x PCII, 2x IMP, 1x TxZ | 国外 | |||
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AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备 | AMAT应用材料 | Producer SE | 2003 | 2 Twiin( HF_Apex3013, LF_PDX9002V | 国外 | |||
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AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备 | AMAT应用材料 | Producer SE | 2007 | 3Twin ACL(HF and LF Gen), Server | 国外 | |||
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AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Producer GT | 2003 | Polisher STD, Desica Cleaner | 国外 | |||
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AMAT Centura DPS2 Poly Etch等离子体蚀刻设备 | AMAT应用材料 | Centura DPS2 Poly | 2007 | EFEM, TM, 3x DPS2 Poly; 1x Axiom, | 国外 | |||
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AMAT Centura DPS2 Poly Etch等离子体蚀刻设备 | AMAT应用材料 | Centura DPS2 Poly | 2006 | EFEM, TM, 3x DPS2 Poly, 1x Axiom, | 国外 | |||
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AMAT Centura DPS2 Poly Etch等离子体蚀刻设备 | AMAT应用材料 | Centura DPS2 Poly | 2006 | EFEM(Kawasaki, Server), TM, 3x G5 | 国外 | |||
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AMAT Centura DPS2 AdvantEdge G等离子体蚀刻设备 | AMAT | Centura DPS2 AdvantEdge G5 Mes | 2007 | G5 Mesa. EFEM(Server, Kawasaki) 3 | 国外 | |||
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AMAT Centura DPS2 Chamber等离子体蚀刻设备 | AMAT | Centura DPS2 Chamber | - | DPS2 Poly Chamber, Parts | 国外 | |||
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AMAT Centura DPS2 Chamber等离子体蚀刻设备 | AMAT | Centura DPS2 Chamber | - | DPS2 Poly Chamber, Parts | 国外 | |||
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AMAT Centura DPS2 Chamber Etch等离子体蚀刻设备 | AMAT | Centura DPS2 Chamber | - | DPS2 Poly Chamber, Parts | 国外 | |||
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AMAT Centura DPS2 Metal Etch等离子体蚀刻设备 | AMAT | Centura DPS2 Metal | 2005 | EFEM(Server, Kawasaki), 3x G2 Met | 国外 | |||
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AMAT Centura eMax CT+ Etch蚀刻机 | AMAT | Centura eMax CT+ | 2007 | 12"设备完整不缺件; | 国外 | |||
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AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Producer SE | 2009 | 2x BDII 1x UV Cure | 国外 | |||
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AMAT Centura eMax CT+ Etch蚀刻机 | AMAT | Centura eMax CT+ | 2007 | 8"缺件; | 国外 | |||
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AMAT P5000刻蚀机 | AMAT | P5000 | 1996 | CVD MarkII, 2x DLH_Delta, 2x Etch | 国外 | |||
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AMAT Centura DPS Metal Etch刻蚀机 | AMAT | Centura DPS Metal | 1996 | C1P1, WBLL, 1x Orient, 1x CD, 2x | 国外 | |||
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AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Producer SE | 2004 | HT-SiN 3 Twin, OS_FES(CGA), FInRT | 国外 | |||
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AMAT DPS2 532 Metal Chamber Etch刻蚀机 | AMAT | DPS2 532 Metal Chamber | 2004 | DPS2 532 Metal Chamber only | 国外 | |||
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AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Producer SE | 2006 | 2 Twiin( HF_Apex3013, LF_PDX9002V | 国外 | |||
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AMAT P5000刻蚀机 | AMAT | P5000 | 1990 | CVD Mark1, 3x DLH | 国外 | |||
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AMAT Centura Enabler刻蚀机 | AMAT | Centura Enabler | 2006 | EFEM(NT, Yaskawa, missing Blade), | 国外 | |||
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AMAT Centura Enabler刻蚀机 | AMAT | Centura Enabler | 2006 | EFEM(Server, Yaskawa), TM(VHP), 3 | 国外 | |||
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AMAT Centura Enabler刻蚀机 | AMAT | Centura Enabler | 2008 | EFEM(Server, Yaskawa), TM(VHP), 3 | 国外 | |||
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AMAT Centura DPS2 Poly刻蚀机 | AMAT | Centura DPS2 Poly | 2007 | EFEM(Kawasaki, Server), TM, 3x G5 | 国外 | |||
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AMAT Centura DPS2 Poly刻蚀机 | AMAT | Centura DPS2 Poly | 2007 | EFEM(Kawasaki, Server), TM, 3x G5 | 国外 | |||
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AMAT Centura AP ISPRINT CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Centura AP ISPRINT | 2008 | 4 xALD W CH, OS_SErver Type, AP F | 国外 | |||
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AMAT P5000刻蚀机 | AMAT | P5000 | - | 在线热机,有2台; | 国外 | |||
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AMAT Centura Enabler E2刻蚀机 | AMAT | Centura Enabler E2 | 2010 | EFEM(Server, Yaskawa), TM(VHP), 3 | 国外 | |||
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AMAT Centura Avatar Etch刻蚀机 | AMAT | Centura Avatar | - | AVATAR 4x Chamber only | 国外 | |||
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AMAT Endura CL PVD气相沉积设备 | AMAT | Endura CL | 2000 | EFEM(2 Ports, Kensington), XP Rob | 国外 | |||
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AMAT Centura Enabler Etch刻蚀机 | AMAT | Centura Enabler | 2010 | EFEM(NT, Fixed Kawasaki), TM(VHP) | 国外 | |||
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AMAT Centura eMax CT+ Etch蚀刻机 | AMAT | Centura eMax CT+ | 2006 | 8"缺件; | 国外 | |||
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AMAT Centura eMax CT+ Etch蚀刻机 | AMAT | Centura eMax CT+ | 2004 | 8"缺件; | 国外 | |||
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AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备 | AMAT | Producer SE | 2007 | ACL Process, 2 Twin Ch(HF_Apex301 | 国外 | |||
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AMAT Orbot WF720晶圆检测系统 | AMAT | Orbot WF720 | - | - | 国外 | |||
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AMAT AMC7811外延炉 | AMAT | AMC-7811 | 1990 | Epitaxy | 国外 | |||
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AMAT AMC7800RPX外延炉 | AMAT | AMC7800RPX | 1982 | Epitaxy | 国外 | |||
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AMAT AMC7821外延炉 | AMAT | AMC7821 | 1983 | epitaxy | 国外 | |||
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AMAT AMC7821外延炉 | AMAT | AMC7821 | 2001 | OEM rebuild aug-2001 Epitaxy | 国外 | |||
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| 二手半导体设备买卖+翻新 龙先生18868521984(微) |
| 注：设备状态不定期更新，是否已售出请咨询。 |
