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| ID |
设备名称 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
| 3043 |
LAM 2300 Exelan Flex蚀刻机 |
2006 |
设备完整不缺件,有2套现货; |
已售
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| 3893 |
LAM RAINBOW 4520 XLE刻蚀机 |
2014 |
设备完整不缺件; |
国内
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| 2701 |
LAM SEZ223蚀刻机 |
2006 |
8"设备完整不缺件,含安装调试(6月 |
国内
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| 1717 |
LAM SEZ203蚀刻机 |
- |
设备完整不缺件,含安装调试,有3台现 |
国内
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| 2802 |
LAM SEZ203蚀刻机 |
- |
设备完整不缺件; |
国内
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| 4154 |
LAM TCP9600SE等离子体刻蚀机 |
2005 |
6"设备完整不缺件,150mm; |
国外
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| 4147 |
LAM RAINBOW 4520i干法刻蚀机 |
2000 |
设备完整不缺件,在美国仓库中; |
国外
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| 4146 |
LAM RESEARCH 9400等离子刻蚀机 |
2000 |
设备完整不缺件,在美国仓库中; |
国外
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| 4078 |
LAM TE490干法刻蚀机 |
- |
6" |
国内
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| 4077 |
LAM TE490干法刻蚀机 |
- |
6" |
国内
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| 4062 |
LAM SEZ FS 103-6单片旋转腐蚀机 |
1996 |
6" |
国内
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| 4061 |
LAM SEZ FM101-6-B单片旋转腐蚀机 |
1998 |
4-6" |
国内
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| 4022 |
LAM 2300 Exelan Flex蚀刻机 |
- |
4室Ath-1600涡轮增压+交流箱 |
国内
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| 4014 |
LAM C2 Triple SPEED气相沉积 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
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| 3911 |
LAM 2300 Exelan Flex45 ICP蚀刻机 |
- |
设备型号：2300 Exelan F |
国外
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| 3839 |
LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机 |
1994 |
设备完整不缺件,目前在亚洲;
IS |
已售
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| 3825 |
LAM RAINBOW 4520XL干法刻蚀机 |
2000 |
热机运行中,但风扇需要更换; |
国外
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| 3526 |
LAM 490B干法刻蚀机 |
- |
6"备件机; |
国内
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| 3527 |
LAM 490B干法刻蚀机 |
- |
6"备件机; |
国内
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| 2405 |
LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机 |
- |
6" As-is |
国外
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| 2334 |
LAM RESEARCH 2300多晶硅蚀刻机 |
2005 |
missing parts缺件:
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已售
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| 2313 |
LAM RESEARCH 9400 SE等离子刻蚀机 |
1997 |
整机完整不缺件 |
国外
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| 2234 |
LAM TCP9400氮化镓刻蚀机 |
2018-12-24 |
260台设备可打包或单独出售; |
已售
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| 1986 |
LAM Chambers for Altus原子层沉积设备 |
- |
12" |
国外
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| 1977 |
LAM RESEARCH EOS湿式晶圆清洗设备 |
- |
- |
国外
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| 1387 |
LAM Synergy CMP薄膜沉积设备 |
1997 |
- |
国外
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| 489 |
LAM Vector CVD化学气相沉积设备 |
2004 |
- |
国外
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| 504 |
LAM Vector SOLA xT CVD化学气相沉积设备 |
2011 |
UV Cure |
国外
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| 513 |
LAM Strip45 Chamber Etch刻蚀机 |
2010 |
Strip45 chamber on |
国外
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| 515 |
LAM Strip45 Chamber Etch刻蚀机 |
2010 |
Strip45 chamber on |
国外
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| 516 |
LAM Strip45 Chamber Etch刻蚀机 |
2010 |
Strip45 chamber on |
国外
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| 836 |
LAM Vector CVD化学气相沉积设备 |
2005 |
Vector RPC |
国外
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| 1160 |
LAM Vector Express CVD化学气相沉积设备 |
2011 |
CVD34x, underutili |
国外
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| 1520 |
LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机 |
- |
6" As-is |
国外
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| 1651 |
LAM RST201刻蚀机 |
1997 |
WET |
国外
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| 1652 |
LAM RST201刻蚀机 |
1996 |
WET |
国外
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| 1653 |
LAM TWO Speed PLASMA CVD薄膜沉积设备 |
2000 |
CVD |
国外
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| 1654 |
LAM TWO PLASMA CVD等离子化学气相沉积 |
2000 |
CVD |
国外
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| 1655 |
LAM ONE-W PECVD等离子化学气相沉积 |
1995 |
PECVD; |
国外
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| 1159 |
LAM Vector Express CVD化学气相沉积设备 |
2011 |
- |
国外
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