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Nanometrics Caliper Mosaic光刻测量设备
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,年份:2009,[As-is]Overlay, 2ea*)18868521984龙先生
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Nanometrics Caliper Mosaic光刻测量设备
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,年份:2011,[As-is] 3ports(Brook)18868521984龙先生
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Nanometrics Caliper Mosaic光刻测量设备
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,年份:2011,[As-is] 2ports(Brook)18868521984龙先生
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Rudolph Axi-S晶圆检测设备
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,年份:2005,2 Ports (Brooks), Ro)18868521984龙先生
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Rudolph Axi-S晶圆检测设备
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,年份:2005,[As-is] 2x Brooks Lo)18868521984龙先生
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Rudolph NSX105检测及计量设备
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,年份:2004,[As-is]2x Load port()18868521984龙先生
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Rudolph NSX105检测及计量设备
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,年份:2003,[As-is]2x Load port()18868521984龙先生
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Rudolph 3Di8500晶圆缺陷检测系统
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,年份:2008,[As-is] Genmark Robo)18868521984龙先生
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JEOL JEM3200FS场发射透射电子显微镜
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,年份:2006,[As-is] TEM)18868521984龙先生
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Brooks MTX2000晶圆分选机
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,年份:2004,OS_Window NT, LOT Ca)18868521984龙先生
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HITACHI HD2300电子显微镜
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,年份:2006,TEM, EDX option incl)18868521984龙先生
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VEECO Dimension X3D原子力显微镜
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,年份:2006,[As-is] 1Port(Asyst )18868521984龙先生
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AMAT UVision 5 Metrology光学检测计量设备
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,年份:2012,2port(TDK TAS300), Y)18868521984龙先生
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Horiba PR-PD2颗粒探测系统
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,年份:2005,[As-is] 6 Reticle, S)18868521984龙先生
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AMAT Uvision 4量测设备
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,年份:2009,[As-is]2ea*TDK load )18868521984龙先生
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AMAT Uvision 4量测设备
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,年份:-,Parts Sale Available)18868521984龙先生
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KLA HRP-340表面轮廓测量系统
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,年份:2004,2port(Asyst ISO port)18868521984龙先生
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KLA EDR-5210电子束缺陷再检测
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,年份:-,2x Load port( Brooks)18868521984龙先生
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KLA EDR-5210电子束缺陷再检测
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,年份:2010,2xLoad port(Brooks F)18868521984龙先生
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KLA Puma 9130晶圆检测系统
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,年份:2005,[As-is] 2ea*Loadport)18868521984龙先生
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KLA Puma 9000晶圆检测系统
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,年份:2005,[As-is] Handler miss)18868521984龙先生
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KLA WI-2280晶圆检测机台
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,年份:-,-)18868521984龙先生
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KLA AIT UV晶圆检测设备
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,年份:2003,-)18868521984龙先生
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TEL Alpha-303i-K扩散炉
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,年份:2006,1. GFC : N2, N2O, Si)18868521984龙先生
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TEL Alpha-303i-K扩散炉
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,年份:2003,GFC (N2, SiH4, Si2H6)18868521984龙先生
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TEL Alpha-303i-K扩散炉
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,年份:2003,Process: D-Poly, Gas)18868521984龙先生
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TEL Indy-B Furnace立式扩散炉
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,年份:2012,Indy-B-L, MFC(N2, NH)18868521984龙先生
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TEL Alpha-303i-K扩散炉
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,年份:2005,GFC(N2, NH3, SiH4, S)18868521984龙先生
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TEL Indy-A Furnace立式扩散炉
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,年份:2005,GAS (N2, NH3, SiH2Cl)18868521984龙先生
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TEL Alpha-303i-K扩散炉
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,年份:2004,1. GFC : N2, N2O, Si)18868521984龙先生
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TEL Alpha-303i-K扩散炉
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,年份:2005,GFC(SiH4,0.1%PH3/N2,)18868521984龙先生
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NIKON OCDM 300MM缺陷检测设备
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,年份:2010,BU: eWLB, Tool Condi)18868521984龙先生
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PSK Tera 21去胶机
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,年份:2008,EFEM: ATM RORZE(RA7L)18868521984龙先生
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HITACHI DM421P刻蚀设备
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,年份:1995,-)18868521984龙先生
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BMR ICP Etcher Etch刻蚀机
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,年份:2009,GaN)18868521984龙先生
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BMR ICP Etcher Etch刻蚀机
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,年份:2009,GaN)18868521984龙先生
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Mattson Aspen III干法去胶机
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,年份:2006,3 Load Ports, 2set C)18868521984龙先生
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Mattson Aspen III干法去胶机
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,年份:2006,EFEM, TM, 3LP, 2x PM)18868521984龙先生
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AXCELIS Integra Etch刻蚀机
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,年份:2012,EFEM, TM, 2x PM, AC )18868521984龙先生
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Mattson ParadigmE Etch刻蚀机
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,年份:2012,1x PM and AC Rack on)18868521984龙先生
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Mattson ParadigmE XP Etch刻蚀机
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,年份:2010,EFEM, 2x twin PM, AC)18868521984龙先生
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PSK Tera 21去胶机
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,年份:2006,EFEM, TM, 2x PM)18868521984龙先生
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PSK Tera 21去胶机
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,年份:2007,EFEM, TM, 2x Twin As)18868521984龙先生
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PSK Tera 21去胶机
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,年份:2007,EFEM, TM, 2x PM)18868521984龙先生
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Novellus Gamma2130去胶机
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,年份:2005,2x PM, EFEM, GHW50A )18868521984龙先生
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Semilab FAaST 230测量设备
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,年份:2005,FAaST 230 Brooks Rob)18868521984龙先生
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Semilab FAaST330A计量系统
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,年份:2004,FAaST 330A, Missing:)18868521984龙先生
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HITACHI CG4000扫描电子显微镜
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,年份:2011,[Power-on] Main body)18868521984龙先生
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TEL ACT8(4C4D)涂胶显影机
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,年份:2013,4C4D, Inline type, R)18868521984龙先生
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国外半导体二手设备
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半导体二手设备ULVAC NE-950 ICP干法刻蚀出售-维修-翻新及升级改造服务
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注:设备状态不定期更新,是否已售出请咨询。